تارگت سرامیکی تیتانیوم اکساید (TiO2)

تارگت اسپاترینگ اکسید تیتانیوم (Titanium Oxide Sputtering Target)

شرکت ستاپ توانایی تولید و تأمین انواع مختلف تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی و ترکیبی را دارا است که شامل تارگت‌های اسپاترینگ اکسید، کاربید، فلوئورید، سولفید و دیگر ترکیبات می‌باشد. فناوری تولید تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی به‌طور خاص از فرآیند پرس داغ (Hot Pressing) استفاده می‌کند.

این فرآیند شامل انتخاب دقیق مواد اولیه، کنترل دما، فشار و زمان در مرحله پرس داغ است. به‌این‌ترتیب، تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی با ویژگی‌های خاصی چون خلوص بالا، چگالی زیاد، رنگ یکنواخت سطح بدون لکه و ترک تولید می‌شوند. این ویژگی‌ها باعث می‌شود که کاربران نهایی قادر به تولید فیلم‌های نازک با کیفیت بالا و یکنواخت در فرآیند PVD شوند و نرخ فرسایش ثابت را در طول فرآیند به‌دست آورند.

تارگت اسپاترینگ اکسید تیتانیوم یکی از مواد پرکاربرد در فرآیندهای پوشش‌دهی فیزیکی بخار (PVD) است. این ماده به‌ویژه در تولید پوشش‌های دی‌الکتریک، حسگرها، پوشش‌های نانو و سایر کاربردهای صنعتی به‌کار می‌رود.

• خلوص: 99.95%، 99.99%
• روش تولید: پرس داغ، اسپری حرارتی در خلأ (Hot Press Sintering, Vacuum Thermal Spraying)
• ابعاد موجود:
  • تارگت دایره‌ای: قطر = 3 میلی‌متر
  • تارگت مستطیلی: طول = 3 میلی‌متر
  • تارگت چرخشی: طول 4000 میلی‌متر x ضخامت دیواره 15 میلی‌متر
• حداقل مقدار سفارش: 1 قطعه
• نوع اتصال: ایندیوم، الاستومر

تارگت‌های اسپاترینگ اکسید تیتانیوم در تولید فیلم‌های نازک با کاربردهای متنوع در صنایع الکترونیک، اپتیک و حسگرها به‌ویژه در زمینه‌های صنعتی و تحقیقاتی بسیار پرکاربرد هستند. این تارگت‌ها برای تولید فیلم‌هایی با ویژگی‌های دی‌الکتریک و مقاومت بالا، گزینه‌ای عالی محسوب می‌شوند.