تارگت سرامیکی نیترید آلومینیوم (AlN)

تارگت اسپاترینگ نیترید آلومینیوم (Aluminum Nitride Sputtering Target)

شرکت ستاپ قادر به  تأمین انواع مختلفی از تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی و ترکیبی است که شامل تارگت‌های اسپاترینگ اکسید، کاربید، فلوئورید، سولفید و دیگر مواد می‌شود. تمامی این تارگت‌ها با استفاده از فناوری پرس داغ تولید می‌شوند.

این فرآیند شامل انتخاب دقیق مواد اولیه و کنترل دقیق دما، فشار و زمان در طی فرآیند پرس داغ است. با پیروی دقیق از این فرآیندهای تولید، تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی به ویژگی‌های برجسته‌ای دست پیدا می‌کنند که شامل خلوص بالا، چگالی بالا، رنگ یکنواخت سطحی بدون لکه و ترک است.

این ویژگی‌ها تضمین می‌کنند که کاربر نهایی بتواند نرخ فرسایش ثابت و فیلم‌های نازک با خلوص و یکنواختی بالا را در طول فرآیند PVD (Deposition by Physical Vapor) بدست آورد.

تارگت اسپاترینگ نیترید آلومینیوم (Aluminum Nitride) به دلیل ویژگی‌های خاص خود در صنایع مختلف از جمله صنایع الکترونیک و ساخت نیمه‌هادی‌ها کاربرد فراوانی دارد. این تارگت‌ها به دلیل خصوصیات حرارتی و الکتریکی عالی که دارند، برای ساخت لایه‌های نازک با ویژگی‌های خاص بسیار مناسب هستند.

• خلوص: 99.5%
• روش تولید: پرس داغ (Hot Press Sintering)
• ابعاد موجود:
  • تارگت دایره‌ای: قطر تا 14 اینچ و ضخامت حداقل 3 میلی‌متر
  • تارگت مستطیلی: طول تا 14 اینچ، عرض تا 10 اینچ و ضخامت حداقل 3 میلی‌متر
• نوع اتصال: ایندیوم، الاستومر

این تارگت‌ها به کاربران این امکان را می‌دهند که فیلم‌های نازک با کیفیت بالا و ویژگی‌های یکنواخت در فرآیند اسپاترینگ ایجاد کنند، که به طور ویژه برای کاربردهای صنعتی و تحقیقاتی در زمینه‌های پیشرفته فناوری بسیار مناسب است.