تارگت سرامیکی اکسید هافنیوم (HfO2)
19
نفر در حال مشاهده این محصول هستند!
توضیحات
توضیحات
تارگت اسپاترینگ اکسید هافنیوم (HfO2)
شرکت ستاپ قادر به تأمین انواع مختلف تارگتهای اسپاترینگ سرامیکی و ترکیبی از جمله تارگتهای اسپاترینگ اکسید، کاربید، فلورید، سولفید و غیره است. فناوری تولید تارگتهای اسپاترینگ سرامیکی از روش پرس داغ استفاده میکند. از انتخاب مواد اولیه تا کنترل دقیق دما، فشار و زمان در فرآیند پرس داغ، ما بهطور دقیق تمامی مراحل تولید را رعایت میکنیم.
این فرآیند سبب میشود که تارگتهای اسپاترینگ نهایی دارای ویژگیهایی چون خلوص بالا، چگالی بالا، رنگ سطح یکنواخت بدون لکه و ترک باشند. کاربران نهایی میتوانند در فرآیند PVD (نشاندن بخار فیزیکی) نرخ فرسایش ثابت و فیلمهای نازک با خلوص و همگنی بالا تولید کنند.
تارگت اسپاترینگ اکسید هافنیوم (HfO2)
- خلوص: 99.9%، 99.99%
- روش تولید: پرس داغ
- ابعاد قابل ارائه:
- دایرهای: قطر = 3 میلیمتر
- مستطیلی: طول = 3 میلیمتر
- نوع اتصال: ایندیم، الاستومر
این تارگتها در فرآیندهای مختلف تولید لایههای نازک برای صنایع الکترونیکی، سختافزارها و دستگاههای با دمای بالا کاربرد دارند.
ملیح شیدا –
با توجه به توضیحات شما در مورد تارگت اسپاترینگ اکسید هافنیوم (HfO2)، آیا امکان ارائه نمونهای از ویژگیهای خلوص این محصول وجود دارد؟
ناجی خداپناهی –
در خصوص فرآیند تولید تارگتهای اسپاترینگ هافنیوم (HfO2) میخواهم بدانم آیا اطمینان از کیفیت در طول تولید چگونه تضمین میشود؟
فرشید بیگی –
شاید این سوال کمی ابتدایی باشد، اما آیا اکثر اوقات از تارگتهای اسپاترینگ HfO2 برای کاربردهای خاصی استفاده میشود یا خیر؟
حبیب صباغ –
میخواستم بپرسم که آیا این تارگتها با توجه به کاربردهای الکترونیکی، به طور معمول قابلیت تنظیم ابعاد خاصی دارند؟
راهله مستوفی –
به عنوان یک متخصص، سوال من این است که در فرآیند PVD، چه دلیلی موجب برتری HfO2 نسبت به دیگر تارگتها میشود؟
میشا قاضی –
اگر بخواهیم بهترین انتخاب را از نظر خلوص و کیفیت انجام دهیم، از بین HfO2 با خلوصهای 99.9% و 99.99% کدامیک را پیشنهاد میکنید؟
هامون برزویی –
تجربه من نشان میدهد که HfO2 در فرایندهای خاصی عملکرد بهتری دارد. آیا شما هم تجربیات مشابهی دارید؟
شیرین سروش –
چگونه میتوانیم اطمینان حاصل کنیم که محصولات HfO2 موجود دارای خلوص و کیفیت مورد نیاز ما هستند؟
جهانگیر عقیلی –
تارگتهای اسپاترینگ HfO2 در دماهای بالا، آیا به درمان خاصی برای رسیدن به خواص مطلوب نیاز دارند؟
روژینا شریعتمداری –
شما اشاره کردید که از روش پرس داغ برای تولید HfO2 استفاده میشود. آیا روش دیگری در این زمینه مد نظر دارید؟
صدرالدین لجکی –
گواهی آنالیز (COA) ارائه میدید؟ مخصوصاً برای تأیید خلوص از زیرکونیوم؟
beny1365 –
قطعاً و این گواهی بسیار مهم است. از آنجا که Hf و Zr همیشه همراه هستند، گواهی آنالیز باید به صراحت میزان زیرکونیوم باقیمانده (که مهمترین ناخالصی است) و سایر ناخالصیهای فلزی را تأیید کند. برای کاربردهای دیالکتریک، میزان Zr باید بسیار کم (اغلب زیر ۱-۲٪) باشد.
آتوسه محمدی –
چرا خلوص ۹۹٫۹۹٪ (4N) اینقدر مهمه؟
beny1365 –
ناخالصیها میتوانند خواص الکتریکی لایه دیالکتریک را به شدت تخریب کنند. وجود ناخالصیهای فلزی یا سیلیسیم میتواند باعث نشت جریان، تغییر ولتاژ آستانه و کاهش قابلیت اطمینان ترانزیستور شود. برای کاربردهای حساس نیمههادی، خلوص 4N یک ضرورت است.