تارگت سرامیکی منیزیوم اکساید (MgO)

توضیحات

تارگت اسپاترینگ اکسید منیزیم (Magnesium Oxide Sputtering Target)

شرکت ستاپ توانایی تولید و تأمین انواع تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی و ترکیبی را در محدوده گسترده‌ای دارد. این شامل تارگت‌های اسپاترینگ اکسید، کاربید، فلوئورید، سولفید و دیگر ترکیبات می‌باشد. فناوری تولید تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی در شرکت ستاپ از فرآیند پرس داغ (Hot Pressing) استفاده می‌کند که از انتخاب دقیق مواد اولیه تا کنترل دما، فشار و زمان در فرآیند پرس داغ پیروی می‌کند. به همین دلیل، تارگت‌های اسپاترینگ سرامیکی تولید شده دارای ویژگی‌های خاصی از جمله خلوص بالا، چگالی زیاد، رنگ یکنواخت سطح بدون لکه و ترک هستند. این ویژگی‌ها باعث می‌شود که کاربران نهایی بتوانند فیلم‌های نازک با کیفیت و همگن با نرخ فرسایش ثابت در طول فرآیند PVD تولید کنند.

تارگت اسپاترینگ اکسید منیزیم یکی از مواد پرکاربرد در پوشش‌دهی‌های پلیمری و الکترونیکی است. این ماده برای تولید فیلم‌های نازک با ویژگی‌های دی‌الکتریک، و همچنین در فرآیندهای الکترونیک و اپتیک کاربرد دارد.

• خلوص: 99.95%، 99.99%
• روش تولید: پرس داغ، اسپری حرارتی در خلأ (Hot Press Sintering, Vacuum Thermal Spraying)
• ابعاد موجود:
  • تارگت دایره‌ای: قطر ≤ 14 اینچ، ضخامت ≥ 3 میلی‌متر
  • تارگت مستطیلی: طول ≤ 14 اینچ، عرض ≤ 10 اینچ، ضخامت ≥ 3 میلی‌متر
  • تارگت چرخشی: طول 4000 میلی‌متر x ضخامت دیواره 15 میلی‌متر
• حداقل مقدار سفارش: 1 قطعه
• نوع اتصال: ایندیوم، الاستومر

تارگت‌های اسپاترینگ اکسید منیزیم در تولید پوشش‌های مقاوم در برابر حرارت و در فرآیندهای تحقیقاتی الکترونیکی و اپتیکی کاربرد زیادی دارند. این تارگت‌ها برای تولید فیلم‌های نازک با ویژگی‌های خاص در صنایع مختلف مانند اپتیک و الکترونیک بسیار مفید هستند و از ویژگی‌های خاص دی‌الکتریک برخوردارند که به ایجاد فیلم‌هایی با استحکام و مقاومت بالا کمک می‌کند.