کریستال‌های چندبلور فلورید لیتیم

توضیحات

کریستال چندبلور فلورید لیتیم (Polycrystalline LiF)

ویژگی‌های فنی و اپتیکی:

فلورید لیتیم (LiF) به عنوان یک ماده کریستالی اپتیکی برجسته، دارای محدوده عبور نور گسترده از ۱۱۰ تا ۶۶۰۰ نانومتر می‌باشد. این ماده بالاترین میزان عبور نور را در محدوده فرابنفش خلا (VUV) در بین مواد شناخته شده داراست.

مزایای کلیدی:

• ضریب شکست پایین در محدوده فروسرخ (۱.۳۹ در ۵ میکرومتر)

• پایداری حرارتی تا ۸۰۰°C در محیط خشک

• مقاومت در برابر تشعشعات پرانرژی

کاربردهای اصلی:
۱. کاربردهای فرابنفش:

• پنجره‌های طیف‌سنجی VUV

• اجزای اپتیکی در میکروسکوپ‌های الکترونی

۲. کاربردهای فروسرخ:

• پنجره‌های لیزرهای فروسرخ

• سیستم‌های دید در شب فروسرخ

۳. تجهیزات علمی:

• آنالایزرهای فلورسانس

• طیف‌سنج‌های پیشرفته

محصولات قابل ارائه:

شرکت ما قادر به تأمین انواع محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید لیتیم چندبلور می‌باشد:

انواع اشکال تولیدی:

• گرد (قطر تا ۲۰۰ میلی‌متر)

• مستطیلی (ابعاد تا ۳۰۰×۳۰۰ میلی‌متر)

• سوراخ‌دار (با دقت موقعیت‌یابی ±۱۰ میکرومتر)

• پنجره‌ای (ضخامت ۱-۵۰ میلی‌متر)

• لنزی (انحنای کروی/آسفریک)

• اشکال خاص (مطابق طراحی مشتری)

ویژگی‌های کیفی:

• عبور نور >۹۰% در ۲۰۰ نانومتر (برای ضخامت ۱۰mm)

• کیفیت سطحی ۶۰/۴۰ (مطابق MIL-PRF-13830)

• تلرانس ابعادی ±۰.۱ میلی‌متر

• پرداخت سطح با دقت نانومتری

تمامی محصولات تحت کنترل کیفی دقیق قرار گرفته و برای کاربردهای صنعتی و تحقیقاتی پیشرفته مناسب می‌باشند

 

 

• معرفی محصولات

کریستال فلورید لیتیم (LiF) – ماده اپتیکی پیشرفته

ویژگی‌های کلیدی:

فلورید لیتیم (LiF) یک کریستال اپتیکی استثنایی با مشخصات منحصر به فرد است:

۱. محدوده عبور نور گسترده:

• ۱۱۰ تا ۶۶۰۰ نانومتر (از VUV تا IR)

• بالاترین عبور نور در محدوده فرابنفش خلا (VUV) در بین مواد شناخته شده

۲. ویژگی‌های اپتیکی ممتاز:

• ضریب شکست پایین در محدوده فروسرخ (۱.۳۹ در ۵μm)

• عبور نور بالا (>۹۰% در ۲۰۰nm برای نمونه ۱۰mm)

• پراکندگی نور کم (۰.۰۰۱ در محدوده ۲۰۰-۱۰۰۰nm)

کاربردهای تخصصی:

۱. کاربردهای فرابنفش:

• پنجره‌های طیف‌سنجی VUV

• اجزای اپتیکی در میکروسکوپ‌های الکترونی پیشرفته

• سیستم‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی

۲. تجهیزات آنالیزی:

• کریستال طیف‌نمای در پروب‌های الکترونی

• آنالایزرهای فلورسانس

• اجزای اپتیکی دستگاه‌های اندازه‌گیری دقیق

۳. کاربردهای فروسرخ:

• پنجره‌های لیزرهای فروسرخ

• سیستم‌های دید در شب (Night Vision)

• طیف‌سنج‌های IR

مزایای رقابتی:

• پایداری حرارتی بالا (تا ۸۰۰°C در محیط خشک)

• مقاومت در برابر تشعشعات پرانرژی

• کیفیت اپتیکی ثابت در محدوده دمایی وسیع

• قابلیت پرداخت سطح با دقت نانومتری

این کریستال با ترکیب منحصر به فرد خواص اپتیکی و مکانیکی، گزینه‌ای ایده‌آل برای کاربردهای پیشرفته در صنایع دفاعی، فضایی و تحقیقات علمی می‌باشد

 

محصولات کریستال تک‌بلور فلورید لیتیم (LiF)

توانمندی‌های تولیدی شرکت:

ما قادر به تأمین گسترده‌ترین طیف محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید لیتیم تک‌بلور با بالاترین استانداردهای کیفی هستیم.

انواع محصولات قابل ارائه:

۱. شمش‌های نیمه‌ساخته (بلنک‌ها):

• اشکال هندسی استاندارد:

  • گرد (قطر ۵-۲۰۰ میلی‌متر با تلرانس ±۰.۰۱mm)

  • مستطیلی (ابعاد تا ۳۰۰×۳۰۰mm با زوایای ۹۰±۰.۱°)

  • سوراخ‌دار (دقت موقعیت‌یابی ±۲μm)

• اشکال تخصصی:

  • پنجره‌ای (ضخامت ۰.۵-۵۰mm با پرداخت λ/۴)

  • لنزی (انحناهای کروی/آسفریک با دقت ۰.۱μm)

  • گالوانومتری (پرداخت سطح ویژه با Ra<۰.۵nm)

  • اشکال خاص (مطابق نقشه فنی مشتری)

۲. محصولات نهایی پردازش شده:

• اجزای اپتیکی مونتاژ شده

• سیستم‌های اپتیکی کامل

• مجموعه‌های سفارشی

مشخصات فنی محصولات:

• کیفیت بلوری:

  • جهت‌گیری کریستالی: <۱۰۰> ±۰.۰۵°

  • یکنواختی اپتیکی: Δn ≤ ۵×۱۰⁻⁶

  • عیوب بلوری: ≤۱۰⁴ defects/cm²

• پارامترهای اپتیکی:

  • عبور نور: >۹۲% در ۱۲۱nm (برای ضخامت ۱۰mm)

  • پراکندگی نور: <۰.۵% در محدوده VUV

  • جذب سطحی: ≤۰.۱% در ۲۰۰nm

• پرداخت سطح:

  • کیفیت سطحی: λ/۸ (تداخل سنجی)

  • زبری سطح: ≤۰.۸nm (AFM)

  • صافی سطح: ≤۵Å (پروفیلومتری)

استانداردهای کیفیت:

• مطابق با MIL-PRF-13830 کلاس A

• انطباق با ISO 10110-3 گرید ۱

• تطابق با DIN 3140 بخش ۷

ملاحظات فنی:

• کلیه محصولات تحت آزمون‌های QC شامل:

  • طیف‌سنجی UV-VIS-NIR

  • آنالیز تداخل سنجی

  • آزمون مقاومت لیزر (LIDT)

  • بررسی تنش باقیمانده (Photoelastic)
    قبل از تحویل قرار می‌گیرند.

• امکان ارائه محصولات با پوشش‌های ضدبازتاب (AR) برای محدوده ۱۱۰-۷۰۰۰nm وجود دارد.

این محصولات برای کاربردهای پیشرفته در صنایع زیر مناسب می‌باشند:

• سیستم‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی

• تجهیزات علمی پیشرفته

• اپتیک فضایی و دفاعی

• لیزرهای پرتوان و سیستم‌های تصویربرداری حرارتی

 

ویژگی‌های حساسیت حرارتی و شیمیایی فلورید لیتیم (LiF)

محدودیت‌های عملکردی:

۱. حساسیت به شوک حرارتی:

• ضریب انبساط حرارتی نسبتاً بالا (α=۳۷×۱۰⁻⁶ K⁻¹)

• هدایت حرارتی متوسط (k=۱۱.۳ W/m·K)

• حداکثر نرخ مجاز تغییر دما: ۵°C/دقیقه

• محدودیت تغییرات دمایی موضعی: ≤۵۰°C/cm

۲. واکنش‌پذیری با رطوبت:

• مکانیزم تخریب شیمیایی:
  LiF(s) + H₂O(g) → LiOH(s) + HF(g) (در T>۴۰۰°C)

• کاهش عملکرد اپتیکی در رطوبت نسبی >۶۰%

• افزایش نرخ تخریب با افزایش دما

راهکارهای مهندسی:

۱. کنترل شرایط حرارتی:

• طراحی گرادیان دمایی یکنواخت

• استفاده از سیستم‌های گرمایش/سرمایش تدریجی

• بهینه‌سازی ضخامت قطعات (۳-۱۰mm بهینه)

۲. محافظت شیمیایی:

• استفاده از محیط‌های کنترل‌شده (رطوبت <۵%)

• اعمال پوشش‌های محافظ SiO₂/Al₂O₃

• طراحی محفظه‌های خلأ یا اتمسفر کنترل‌شده

۳. پارامترهای طراحی ایمن:

• حداکثر دمای کاری در محیط مرطوب: ۴۰۰°C

• حداکثر دمای کاری در محیط خشک: ۸۰۰°C

• فشار کاری بهینه: ۱۰⁻³-۱۰⁻⁵ Torr

ملاحظات کاربردی:

• نیاز به پیش‌گرمایش تدریجی (۲-۳ ساعت)

• پرهیز از تماس مستقیم با فلزات در دمای بالا

• بازرسی دوره‌ی سطح با میکروسکوپ SEM

• کنترل کیفی مستمر با آنالیز XRD

این محدودیت‌ها باید در طراحی سیستم‌های اپتیکی حاوی LiF به دقت مدنظر قرار گیرند تا از عملکرد بهینه و طول عمر مناسب قطعات اطمینان حاصل شود

 

پوشش‌های اپتیکی پیشرفته و کاربردهای تخصصی

تعریف فنی پوشش‌دهی اپتیکی:

پوشش‌دهی اپتیکی به فرآیند رسوب‌دهی لایه‌های نازک (Thin Film) از مواد دی‌الکتریک یا فلزی بر روی زیرلایه‌های اپتیکی با استفاده از روش‌های فیزیکی (PVD) یا شیمیایی (CVD) اطلاق می‌شود. این فرآیند با دقت نانومتری (۰.۱-۲ نانومتر) و کنترل اتمی انجام می‌گیرد.

اهداف اصلی پوشش‌دهی:

• تنظیم ضریب بازتاب سطح (R% از ۰.۱% تا ۹۹.۹%)

• کنترل دقیق ضریب عبور نور (ΔT<۰.۲%)

• ایجاد خاصیت تفکیک پرتو (Beam Splitting) با نسبت‌های دقیق ۱۰:۹۰ تا ۵۰:۵۰

• فیلتراسیون طیفی انتخابی با شیب قطع تند (Transition Width<۵nm)

• ایجاد پلاریزاسیون خطی یا دایروی با نسبت extinction >۱۰۰۰:۱

انواع پوشش‌های تخصصی قابل ارائه:

۱. پوشش‌های ضد بازتاب (AR Coatings):

• محدوده UV (۱۸۵-۴۰۰nm): عبور نور >۹۸%، ΔT<۰.۳%

• محدوده مرئی (۴۰۰-۷۰۰nm): عبور نور >۹۹.۵%، ΔT<۰.۱%

• محدوده NIR (۷۰۰-۲۰۰۰nm): عبور نور >۹۹%، ΔT<۰.۲%

• محدوده MWIR (۳-۵μm): عبور نور >۹۷%، ΔT<۰.۳%

۲. پوشش‌های بازتاب بالا (HR Coatings):

• بازتاب >۹۹.۹% در طول موج‌های طراحی شده

• پایداری حرارتی تا ۵۰۰°C

• مقاومت در برابر لیزر (LIDT تا ۱۵J/cm² در ۱۰۶۴nm)

۳. پوشش‌های طیفی (Dichroic Coatings):

• تفکیک طول موج با دقت ±۰.۳nm

• شیب قطع بسیار تند (<۳nm)

۴. پوشش‌های فلزی (Metallic Coatings):

• پوشش‌های Al، Ag، Au با لایه‌های محافظ

• مقاومت در برابر اکسیداسیون (MIL-M-13508C)

• پایداری محیطی (MIL-C-675C)

ویژگی‌های فنی پیشرفته:

• کنترل ضخامت لایه‌ها با دقت ±۰.۱nm

• یکنواختی لایه‌ها در سطح ±۰.۳%

• چسبندگی عالی (کلاس ۵A مطابق ASTM D3359)

• مقاومت در برابر سایش (مطابق MIL-C-48497A)

• پایداری بلندمدت در شرایط محیطی سخت

تمامی پوشش‌ها با استفاده از سیستم‌های رسوب‌دهی پیشرفته شامل:

• رسوب‌دهی پرتو یونی (IBS)

• تبخیر با پرتو الکترونی (E-beam)

• اسپاترینگ مغناطیسی (Magnetron Sputtering)

تولید و تحت کنترل کیفی چندمرحله‌ای قرار می‌گیرند. این محصولات برای کاربردهای حساس در صنایع زیر مناسب هستند:

• سیستم‌های لیزری پرتوان

• اپتیک فضایی و ماهواره‌ای

• تجهیزات پزشکی پیشرفته

• سیستم‌های تصویربرداری حرارتی و طیف‌سنجی

 

 

• اطلاعات فنی

مشخصات فنی کریستال درجه DUV (فرابنفش عمیق)

۱. مشخصات ابعادی:

• اندازه‌های استاندارد:

  • قطر ۵۰ میلی‌متر

  • قطر ۱۰۰ میلی‌متر

• حداکثر اندازه قابل تولید:

  • قطر ۱۲۰ میلی‌متر

۲. ویژگی‌های اپتیکی:

• محدوده طول موج کاربردی:

  • ۱۱۰ نانومتر تا ۶ میکرومتر

• میزان عبور نور:

  • بیش از ۷۰% در ۱۴۰ نانومتر

  • بیش از ۹۰% در ۲۸۰ نانومتر

  • بیش از ۹۰% در ۵ میکرومتر

۳. مشخصات ساختاری:

• ساختار بلوری:

  • تک‌کریستال (Monocrystalline) با جهت‌گیری <۱۰۰>

• عبور داخلی:

  • بیش از ۹۹% در ۲۸۰ نانومتر (نمونه ۱۰ میلی‌متری)

۴. پارامترهای کیفی:

• تنش دو شکستی:

  • حداکثر ۱۰ نانومتر بر سانتیمتر در ۶۳۳ نانومتر

• آزمون نور سبز (۲۵-۱۲۵ میلی‌وات):

  • عدم مشاهده ستون نور مرئی

  • عاری از حباب‌های میکروسکوپی

  • فاقد ذرات پراکنده‌کننده نور

۵. استانداردهای کنترل کیفیت:

• مطابق با MIL-PRF-13830 کلاس ۸۰/۵۰

• انطباق با ISO 10110-3 برای تنش باقیمانده

• آزمون‌های انجام شده تحت شرایط استاندارد (۲۳±۲°C، رطوبت ۴۵±۵%)

۶. کاربردهای ویژه:

• سیستم‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی پیشرفته

• طیف‌سنجی فرابنفش عمیق (VUV)

• اپتیک لیزرهای اگزایمر

• سیستم‌های تصویربرداری فضایی

ملاحظات فنی:

• کیفیت سطحی λ/۸ با پرداخت سطحی ≤۵Å

• مقاومت حرارتی تا ۸۰۰°C در محیط خشک

• مناسب برای کاربردهای حساس در صنایع پیشرفته

تمامی محصولات با استفاده از تکنیک‌های پیشرفته رشد بلور و پرداخت اپتیکی تولید شده و تحت آزمون‌های دقیق کنترل کیفی قرار می‌گیرند

آزمون عبور نور (Transmittance Test) – کریستال فلورید لیتیم (LiF)

۱. تجهیزات آزمایشگاهی مورد استفاده:

• طیف‌سنج فرابنفش-مرئی (UV-Vis Spectrophotometer)

  • دقت اندازه‌گیری: ±۰.۳٪

  • محدوده طیفی: ۱۹۰-۱۱۰۰ نانومتر

  • تفکیک‌پذیری: ۰.۵ نانومتر

• کرنش‌سنج (Strain Gauges)

  • دقت اندازه‌گیری: ±۲ نانومتر/سانتی‌متر

  • محدوده اندازه‌گیری: ۰-۵۰ نانومتر/سانتی‌متر

• لیزر اشاره‌گر سبز

  • طول موج: ۵۳۲±۲ نانومتر

  • توان خروجی: ۲۵-۱۲۵ میلی‌وات (قابل تنظیم)

۲. مشخصات نمونه‌های آزمایشی:

• جنس نمونه: فلورید لیتیم تک‌بلور (LiF)

• ابعاد نمونه:

  • قطر: ۲۰-۵۰ میلی‌متر (تلرانس ±۰.۰۵ میلی‌متر)

  • ضخامت: ۱۰±۰.۵ میلی‌متر

• پرداخت سطح:

  • کیفیت ۸۰/۵۰ مطابق استاندارد MIL-PRF-13830

  • زبری سطح: ≤۵۰ آنگستروم (Å)

۳. شرایط و پارامترهای آزمون:

• محدوده طیفی آزمون:

  • محدوده UV-Vis-NIR: ۱۹۰-۱۱۰۰ نانومتر

  • محدوده مادون قرمز میانی (MIR): ۲.۵-۱۲ میکرومتر

• شرایط محیطی:

  • دمای محیط: ۲۳±۱°C

  • رطوبت نسبی: ۴۵±۳٪

۴. الزامات کیفی عبور نور:

• حداقل عبور نور قابل قبول:

  • T > ۹۲٪ در ۲۸۰ نانومتر (برای نمونه ۱۰ میلی‌متری)

• پراکندگی نور مجاز: ≤۱.۵٪

• جذب سطحی مجاز: ≤۰.۳٪ در ۲۸۰ نانومتر

۵. روش اجرای آزمون:

۱. آماده‌سازی نمونه‌ها مطابق استاندارد ISO 10110-3
۲. کالیبراسیون دستگاه با نمونه استاندارد
۳. اندازه‌گیری در سه نقطه مختلف نمونه
۴. تکرار آزمون برای سه نمونه مشابه
۵. محاسبه میانگین نتایج

۶. گزارش‌دهی:

• ارائه نمودار عبور نور در محدوده‌های مشخص شده

• ذکر دقیق شرایط محیطی آزمون

• درج گواهی کالیبراسیون دستگاه‌های استفاده شده

ملاحظات فنی:

• نمونه‌ها قبل از آزمون به مدت ۲۴ ساعت در محیط کنترل‌شده با دمای ۲۳°C و رطوبت ۴۵٪ قرار می‌گیرند.

• کلیه اندازه‌گیری‌ها با سه بار تکرار انجام شده و میانگین نتایج با دقت ۰.۱٪ گزارش می‌شود.

• آزمون تحت شرایط کنترل کیفی دقیق مطابق با استانداردهای بین‌المللی انجام می‌پذیرد

ویژگی‌های کریستال تک‌بلور (Monocrystalline)

معیارهای ارزیابی بصری:

۱. یکنواختی ساختاری:

• سطح نمونه در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰,۰۰۰-۲۵,۰۰۰ لوکس) باید کاملاً همگن باشد

• عدم وجود هرگونه مرزدانه (Grain Boundaries) قابل مشاهده با چشم غیرمسلح

• فاقد هرگونه ناهنجاری خطی (Wicker-like Stripes) با طول بیش از ۰.۵ میلی‌متر

۲. کیفیت سطحی:

• سطحی یکنواخت و عاری از نقاط کدر یا نواحی غیرهمگن

• پرداخت سطحی با زبری کمتر از ۵۰ نانومتر (۵ آنگستروم)

شرایط آزمون استاندارد:

• منبع نور: نور روز طبیعی (دمای رنگ ۵۵۰۰±۵۰۰ کلوین)

• زاویه مشاهده: ۴۵±۵ درجه نسبت به سطح نمونه

• فاصله بررسی: ۳۰±۲ سانتیمتر

• زمان مشاهده: ۱۵±۵ ثانیه

• بزرگنمایی: مشاهده مستقیم با چشم غیرمسلح

الزامات کیفی:

• انطباق کامل با استاندارد ASTM F1724 (بخش ۷.۳)

• مطابقت با مشخصات SEMI MF1723 (پاراگراف ۵.۲)

• یکنواختی اپتیکی (Δn ≤ ۰.۰۰۱ در سطح نمونه)

اهمیت فنی:

• نشانگر کیفیت بالای فرآیند رشد بلور (نرخ رشد کنترل شده ۱-۲ میلی‌متر/دقیقه)

• تضمین‌کننده همسان‌گردی خواص فیزیکی و اپتیکی

• پیش‌نیاز اساسی برای کاربردهای:

  • اپتیک لیزرهای پرتوان

  • سیستم‌های تصویربرداری فضایی

  • المان‌های اپتیکی دقیق

تذکر فنی: بررسی نهایی باید با میکروسکوپ نوری دیجیتال (بزرگنمایی ۱۰۰X، روش نورپردازی Köhler) تکمیل شود تا از عدم وجود عیوب میکروسکوپی اطمینان حاصل گردد. این ویژگی برای کاربردهای حساس اپتیکی ضروری می‌باشد

 

ویژگی‌های کریستال نیمه‌بلور (Sub-crystal)

معیارهای ارزیابی ساختاری:

۱. ناهنجاری‌های سطحی (پیش از پرداخت):

• مشاهده نوارهای بیدگونه (Willow Stripes) با مشخصات:

  • عرض: ۱۰۰-۳۰۰ میکرومتر

  • طول: ۲-۸ میلی‌متر

  • تراکم سطحی: ≤۳ نوار بر سانتیمتر مربع

• مساحت تحت پوشش ناهنجاری‌ها: <۱۶.۷% سطح مقطع (نسبت ۱:۶ قطر انتهایی)

۲. کیفیت پس از پرداخت:

• زبری سطحی ≤۲۰ نانومتر (مطابق ISO 10110-5)

• عدم مشاهده بصری ناهنجاری‌ها در نور روز

• یکنواختی سطحی (PV ≤ λ/۲ @ ۶۳۳nm)

شرایط ارزیابی استاندارد:

• نورپردازی: نور روز غیرمستقیم (شدت ۱۰,۰۰۰-۲۵,۰۰۰ لوکس)

• پارامترهای مشاهده:

  • زاویه: ۳۰-۶۰ درجه

  • فاصله: ۲۵-۴۰ سانتیمتر

  • مدت: ۱۰-۲۰ ثانیه

• رطوبت محیطی: ۴۵±۵% RH

تحلیل فنی:

• منشأ ناهنجاری‌ها: تنش‌های حرارتی در فرآیند رشد (نرخ خنک‌سازی ۵-۱۰°C/ساعت)

• تأثیر بر خواص:

  • تغییر ضریب شکست: ≤۰.۰۵%

  • پراکندگی نور: ≤۱.۲%

• قابلیت پرداخت پذیری: عالی (قابلیت رسیدن به کیفیت λ/۴)

ملاحظات کیفی:

• مناسب برای کاربردهای صنعتی با تلرانس متوسط

• نیاز به بازرسی نهایی با میکروسکوپ دیجیتال (۵۰X)

• کاربرد در محیط‌های غیرحساس اپتیکی

این مشخصات نشانگر کیفیت کنترل شده در فرآیند تولید برای مصارف صنعتی می‌باشد

 

ویژگی‌های کریستال چندبلور (Polycrystalline)

مشخصات ساختاری:

۱. ریخت‌شناسی مرزدانه‌ها:

• خطوط مرزدانه کاملاً نفوذی و سه‌بعدی

• عرض مرزدانه: ۵۰-۲۰۰ میکرومتر

• الگوی شبکه‌ای نامنظم با زاویه انحراف ۲-۱۵ درجه

۲. ویژگی‌های نوری:

• اختلاف کنتراست نوری بین دانه‌ها:

  • ΔR ≥ ۳۰% (در نور مرئی)

  • وابستگی زاویه‌ای شدید (۱۵-۴۵ درجه)

• پراکندگی نور داخلی: ۳-۸%

شرایط ارزیابی استاندارد:

• نورپردازی:

  • منبع: نور روز مستقیم (۵۵۰۰±۵۰۰ کلوین)

  • شدت: ۱۰۰۰۰-۲۵۰۰۰ لوکس

• پارامترهای مشاهده:

  • زاویه: ۴۵±۵ درجه

  • فاصله: ۳۰±۲ سانتیمتر

  • مدت: ۱۰-۱۵ ثانیه

تحلیل میکروسکوپی:

• اندازه دانه: ۵۰-۵۰۰ میکرومتر

• توزیع اندازه دانه: غیریکنواخت (ضریب تغییرات ≥۲۵%)

• ناهمسانگردی اپتیکی: Δn ≈ ۰.۰۱-۰.۰۵

ملاحظات فنی:

• مناسب برای کاربردهای غیرحساس اپتیکی

• کاربردهای صنعتی با تلرانس متوسط

• عدم مناسب بودن برای:

  • سیستم‌های تصویربرداری دقیق

  • اپتیک لیزرهای پرتوان

  • کاربردهای فضایی

نکته: بررسی کمی دقیق نیازمند آنالیز EBSD و میکروسکوپ پلاریزان (۱۰۰X) می‌باشد. این ساختار عمدتاً در محیط‌های با تنش حرارتی یکنواخت و کاربردهای غیرحساس استفاده می‌شود

 

●

مواد اپتیکی پیشرفته و کاربردهای تخصصی

۱. شیشه اپتیکی N-BK7

N-BK7 پرکاربردترین شیشه اپتیکی با مشخصات زیر است:

• محدوده عبور نور: ۳۵۰-۲۰۰۰ نانومتر

• ضریب شکست: ۱.۵۱۶۸ در ۵۸۷.۶ نانومتر

• کاربردها: تلسکوپ‌ها، سیستم‌های لیزری و اجزای اپتیکی

• مزیت: جایگزین مقرون‌به‌صرفه برای کاربردهای غیر UV

۲. سیلیکای ذوب شده UV

• محدوده عبور: ۱۸۵-۲۱۰۰ نانومتر

• ضریب انبساط حرارتی پایین: ۰.۵۵×۱۰⁻⁶/°C

• مقاومت لیزر: ۱۰ J/cm² در ۳۵۵ نانومتر

• کاربرد ویژه: اپتیک لیزرهای پرتوان و سیستم‌های تصویربرداری دقیق

۳. فلورید کلسیم (CaF₂)

• محدوده کاری: ۱۸۰ نانومتر تا ۸ میکرومتر

• آستانه آسیب لیزر: ۵ J/cm² در ۲۴۸ نانومتر

• کاربردها: پنجره طیف‌سنج‌های VUV و سیستم‌های تصویربرداری حرارتی

۴. فلورید باریم (BaF₂)

• محدوده عبور: ۲۰۰ نانومتر تا ۱۱ میکرومتر

• مقاومت تشعشعی: تا ۱۰⁶ راد

• محدودیت: حساس به رطوبت در دمای بالا (>۵۰۰°C)

۵. فلورید منیزیم (MgF₂)

• سختی: ۴۱۵ kg/mm² (موس ۶)

• ضریب شکست: ۱.۳۸

• مقاومت شیمیایی عالی

• کاربرد: پنجره‌های لیزرهای پرتوان

۶. سلنید روی (ZnSe)

• محدوده عبور: ۶۰۰-۱۶۰۰۰ نانومتر

• سختی پایین: ۱۲۰ kg/mm²

• کاربرد ویژه: لیزرهای CO₂ پرتوان

• ملاحظات: نیاز به مراقبت ویژه در حمل و نقل

۷. سیلیکون (Si)

• محدوده کاری: ۱.۲-۸ میکرومتر

• چگالی پایین: ۲.۳۳ g/cm³

• جذب شدید در ۹ میکرومتر

۸. ژرمانیوم (Ge)

• محدوده کاری: ۲-۱۶ میکرومتر

• محدودیت دمایی: حداکثر ۱۰۰°C

• چگالی بالا: ۵.۳۳ g/cm³

• کاربردها: سیستم‌های تصویربرداری حرارتی

۹. ZnS تولید شده به روش CVD

• محدوده کاری منحصر به فرد: مرئی تا مایکروویو

• عبور در ۱۰ میکرومتر: >۷۰٪

• کاربردهای پیشرفته: سیستم‌های چندطیفی و پنجره‌های ترکیبی

نکات کلیدی انتخاب مواد:

• برای کاربردهای UV عمیق: فلوریدهای کلسیم یا منیزیم

• برای محیط‌های خورنده: فلورید منیزیم

• برای سیستم‌های سبک‌وزن: سیلیکون

• برای کاربردهای حرارتی: ZnS CVD

• برای بودجه محدود: N-BK7

تمامی مواد با بالاترین استانداردهای کیفی تولید و برای کاربردهای حساس در صنایع دفاعی، فضایی و تحقیقاتی مناسب می‌باشند