کریستال‌های فوق‌العاده LiF (فلورید لیتیم)

توضیحات

کریستال‌های پیشرفته فلورید لیتیم (Extreme LiF)

معرفی محصول:

فلورید لیتیم (LiF) با ساختار بلوری تتراگونال، یکی از مواد اپتیکی استثنایی به ویژه در محدوده فرابنفش عمیق محسوب می‌شود. این کریستال‌ها با محدوده عبور نور گسترده ۱۱۰ تا ۷۰۰۰ نانومتر، کاربردهای وسیعی در صنایع پیشرفته اپتیکی دارند.

کاربردهای اصلی:

• لنزها، منشورها و پنجره‌های اپتیکی در:

  • سیستم‌های تصویربرداری حرارتی پیشرفته

  • سیستم‌های اپتیکی هوافضا

  • سیستم‌های اپتیکی لیزرهای اگزایمر

قابلیت‌های تولیدی:

شرکت ما توانایی تولید انواع محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید لیتیم پیشرفته را در اشکال و ابعاد مختلف دارا می‌باشد.

انواع اشکال قابل تولید:

• گرد (Round) – با تلرانس ابعادی ±۰٫۰۱ میلی‌متر

• مستطیلی (Rectangular) – با زوایای دقیق ۹۰±۰٫۱°

• سوراخ‌دار (Drilled) – با دقت موقعیت‌یابی ±۵ میکرومتر

• پنجره‌ای (Windows) – با پرداخت سطح λ/۴

• لنزی (Lens) – با انحنای سطح دقیق

• اشکال خاص (Shaped) – مطابق طراحی مشتری

ویژگی‌های فنی محصولات:

• کیفیت بلوری فوق‌العاده (تداخل سنجی کمتر از λ/۸)

• عبور نور بالا (بیش از ۹۲٪ در ۲۸۰ نانومتر)

• پرداخت سطح با دقت نانومتری

• مقاومت حرارتی تا ۱۰۰۰ درجه سانتیگراد

• جهت‌گیری کریستالی دقیق (<۱۰۰> ±۰٫۱°)

تمامی محصولات مطابق با استانداردهای MIL-PRF-13830 و ISO 10110 تولید شده و تحت کنترل کیفی چندمرحله‌ای قرار می‌گیرند. این کریستال‌ها برای کاربردهای حساس اپتیکی و محیط‌های عملیاتی سخت کاملاً مناسب می‌باشند

 

•  Products Introduction

کریستال تک‌بلور فلورید لیتیم (LiF) برای کاربردهای فرابنفش

ویژگی‌های ساختاری و نوری:
فلورید لیتیم با ساختار بلوری تتراگونال، ماده‌ای با خواص اپتیکی استثنایی به ویژه در محدوده فرابنفش عمیق (Deep UV) محسوب می‌شود. این کریستال با محدوده عبور نور گسترده 110 تا 7000 نانومتر، یکی از مواد کلیدی در ساخت قطعات اپتیکی پیشرفته است.

کاربردهای تخصصی:

1. اجزای اپتیکی:

   • لنزهای با عملکرد بالا در محدوده UV

   • منشورهای طیف‌سنجی دقیق

   • پنجره‌های اپتیکی مقاوم

2. سیستم‌های پیشرفته:

   • تصویربرداری حرارتی مادون قرمز

   • سیستم‌های اپتیکی هوافضا

   • تجهیزات اپتیکی لیزرهای اگزایمر

توانمندی‌های تولیدی شرکت:
ما قادر به تأمین گسترده‌ترین طیف محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید لیتیم تک‌بلور UV هستیم:

محصولات قابل ارائه:

• شمش‌های خام با کیفیت اپتیکی عالی

• قطعات پردازش شده آماده استفاده

• محصولات سفارشی با ابعاد و اشکال خاص

مشخصات فنی محصولات:

• جهت‌گیری کریستالی دقیق (<100> ±0.5°)

• کیفیت سطحی λ/4 @ 633nm

• عبور نور >92% در 280nm

• مقاومت حرارتی تا 1000°C

• پرداخت سطح با دقت نانومتری

تمامی محصولات با استفاده از پیشرفته‌ترین تکنیک‌های رشد بلور تولید شده و تحت کنترل کیفی چندمرحله‌ای قرار می‌گیرند. این کریستال‌ها برای کاربردهای حساس اپتیکی در صنایع دفاعی، فضایی و تحقیقاتی کاملاً مناسب می‌باشند

 

توانایی‌های تولیدی شرکت در زمینه کریستال‌های پیشرفته فلورید لیتیم (Extreme LiF)

شرکت ما قادر به تولید و تأمین گسترده‌ترین طیف محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید لیتیم با کیفیت فوق‌العاده می‌باشد:

انواع محصولات نیمه‌ساخته (بلنک‌ها):

1. اشکال استاندارد:

   • گرد (Round) – با تلرانس ابعادی ±0.005 میلی‌متر

   • مستطیلی (Rectangular) – با زوایای دقیق 90±0.05 درجه

   • سوراخ‌دار (Drilled) – با دقت موقعیت‌یابی ±2 میکرومتر

2. اشکال تخصصی:

   • پنجره‌ای (Windows) – با پرداخت سطح تا λ/10

   • لنزی (Lenses) – با انحنای سطح کنترل‌شده

   • گالوانومتری (Galvanometers) – با پرداخت سطح ویژه

   • اشکال خاص (Special Shaped) – مطابق طراحی دقیق مشتری

ویژگی‌های کیفی محصولات:

• کیفیت بلوری فوق‌العاده (تداخل سنجی ≤λ/8)

• جهت‌گیری کریستالی دقیق (<100> ±0.1°)

• عبور نور >93% در 280nm (برای ضخامت 10mm)

• تنش باقیمانده ≤5nm/cm

• پرداخت سطح با دقت اتمی (زبری سطح ≤10Å)

محصولات نهایی:

• اجزای اپتیکی آماده نصب

• سیستم‌های مونتاژ شده

• مجموعه‌های اپتیکی تخصصی

تمامی محصولات مطابق با استانداردهای MIL-PRF-13830 و ISO 10110-2 تولید شده و تحت کنترل کیفی چندمرحله‌ای شامل:

• آزمون تداخل سنجی

• طیف‌سنجی UV-VIS-NIR

• آنالیز تنش باقیمانده
  قرار می‌گیرند.

این محصولات برای کاربردهای پیشرفته در:

• لیتوگرافی نیمه‌هادی

• سیستم‌های فضایی

• لیزرهای پرتوان

• طیف‌سنجی فوق‌حساس
  کاملاً مناسب می‌باشند

 

محدودیت‌های عملکردی فلورید لیتیم (LiF) از دیدگاه حرارتی و شیمیایی

۱. حساسیت به شوک حرارتی:
فلورید لیتیم به دلیل ضریب انبساط حرارتی نسبتاً بالا (α=37×۱۰⁻⁶ K⁻¹) و هدایت حرارتی متوسط (k=11.3 W/m·K)، مقاومت محدودی در برابر شوک‌های حرارتی از خود نشان می‌دهد. این حساسیت به ویژه در موارد زیر مشهود است:

• تغییرات دمایی سریع (>5°C/min)

• گرادیان دمایی موضعی (>50°C/cm)

• سیکل‌های حرارتی مکرر

۲. واکنش‌پذیری با رطوبت در دماهای بالا:
در دماهای فراتر از 400°C، فلورید لیتیم با بخار آب موجود در اتمسفر واکنش نشان داده و دچار تخریب شیمیایی می‌شود. مکانیسم واکنش به صورت زیر است:
LiF(s) + H₂O(g) → LiOH(s) + HF(g)

راهکارهای مهندسی برای کاهش اثرات:
۱. کنترل شرایط حرارتی:

• اعمال نرخ گرمایش/سرمایش کنترل‌شده (3-5°C/min)

• استفاده از سیستم‌های گرمایش یکنواخت

• طراحی مکانیکی بهینه برای کاهش تمرکز تنش

۲. محافظت در برابر رطوبت:

• استفاده از محیط‌های کنترل‌شده (رطوبت نسبی <5%)

• اعمال پوشش‌های محافظ SiO₂ در دماهای بالا

• به‌کارگیری محفظه‌های خلأ یا اتمسفر کنترل‌شده

۳. محدودیت‌های طراحی:

• حداکثر دمای کاری در محیط مرطوب: 400°C

• حداکثر دمای کاری در محیط خشک/خلأ: 800°C

• ضخامت بهینه قطعات: 3-10mm (بسته به کاربرد)

ملاحظات ویژه:

• در کاربردهای حرارتی بالا، پیش‌گرمایش تدریجی (2-3 ساعت) ضروری است

• از تماس مستقیم با فلزات در دمای بالا باید جلوگیری شود

• بازرسی دوره‌ای سطح برای شناسایی علائم تخریب شیمیایی توصیه می‌شود

این محدودیت‌ها باید در طراحی سیستم‌های اپتیکی حاوی فلورید لیتیم به دقت مورد توجه قرار گیرند تا از عملکرد بهینه و طول عمر مناسب قطعات اطمینان حاصل شود

 

پوشش‌های اپتیکی و کاربردهای تخصصی

تعریف فنی پوشش‌دهی اپتیکی:
پوشش‌دهی اپتیکی به فرآیند رسوب‌دهی لایه‌های نازک (Thin Film) از مواد دی‌الکتریک یا فلزی بر روی زیرلایه‌های اپتیکی با استفاده از روش‌های فیزیکی (PVD) یا شیمیایی (CVD) اطلاق می‌شود. این فرآیند با دقت نانومتری (در حد ۰.۱-۲ نانومتر) انجام می‌گیرد.

اهداف اصلی پوشش‌دهی اپتیکی:

• تنظیم ضریب بازتاب سطح از ۰.۱% تا ۹۹.۹% با دقت ±۰.۵%

• کنترل دقیق ضریب عبور نور در محدوده‌های طیفی خاص (Δλ<۵nm)

• ایجاد خاصیت تفکیک پرتو (Beam Splitting) با نسبت‌های دقیق ۱۰:۹۰ تا ۵۰:۵۰

• فیلتراسیون طیفی انتخابی با شیب قطع تند (Sharp Cut-off)

• ایجاد پلاریزاسیون خطی یا دایروی با نسبت extinction >۱۰۰۰:۱

انواع پوشش‌های تخصصی قابل ارائه:

۱. پوشش‌های ضد بازتاب (AR Coatings):

• محدوده UV (185-400nm) با عبور نور >۹۸% و ΔT<۰.۵%

• محدوده مرئی (400-700nm) با عبور نور >۹۹.۵% و ΔT<۰.۲%

• محدوده NIR (700-2000nm) با عبور نور >۹۹% و ΔT<۰.۳%

• محدوده MWIR (3-5μm) با عبور نور >۹۷% و ΔT<۰.۵%

۲. پوشش‌های بازتاب بالا (HR Coatings):

• بازتاب >۹۹.۹% در طول موج‌های طراحی شده

• پایداری حرارتی تا ۵۰۰°C برای کاربردهای لیزر پرتوان

• مقاومت در برابر لیزر (LIDT تا ۱۰J/cm² در ۱۰۶۴nm)

۳. پوشش‌های طیفی (Dichroic Coatings):

• تفکیک طول موج با دقت ±۰.۵nm

• شیب قطع تند (Transition Width <۱۰nm)

۴. پوشش‌های فلزی (Metallic Coatings):

• پوشش‌های Al، Ag، Au با لایه‌های محافظ

• مقاومت در برابر اکسیداسیون (MIL-M-13508)

• پایداری محیطی (MIL-C-675C)

ویژگی‌های فنی:

• کنترل ضخامت لایه‌ها با دقت ±۰.۲nm

• یکنواختی لایه‌ها در سطح ±۰.۵%

• چسبندگی عالی (کلاس ۵A طبق ASTM D3359)

• مقاومت در برابر سایش (MIL-C-48497)

تمامی پوشش‌ها با استفاده از سیستم‌های پیشرفته رسوب‌دهی (Ion Beam Sputtering، Electron Beam Evaporation) و تحت کنترل کیفی دقیق تولید می‌شوند. این محصولات برای کاربردهای حساس اپتیکی از جمله لیزرهای پرتوان، سیستم‌های تصویربرداری پیشرفته و تجهیزات فضایی مناسب می‌باشند

 

• مشخصات فنی و تخصصی:

 

 

ویژگی‌های کریستال‌های درجه DUV (فرابنفش عمیق)

مشخصات فنی و ابعادی:

• ابعاد استاندارد:
  • قطر ۵۰ میلی‌متر
  • قطر ۱۰۰ میلی‌متر

• حداکثر اندازه قابل تولید:
  • قطر ۱۲۰ میلی‌متر

پارامترهای اپتیکی:

• محدوده طول موج کاربردی:
  ۱۱۰ نانومتر تا ۶٫۰ میکرومتر

• میزان عبور نور:
  • بیش از ۷۰٪ در ۱۴۰ نانومتر
  • بیش از ۹۰٪ در ۲۸۰ نانومتر
  • بیش از ۹۰٪ در ۵ میکرومتر

خصوصیات ساختاری:

• ساختار بلوری:
  تک‌کریستال (Monocrystalline) با جهت‌گیری <۱۰۰>

• عبور داخلی:
  بیش از ۹۹٫۰٪ در ۲۸۰ نانومتر (برای نمونه‌های ۱۰ میلی‌متری)

شاخص‌های کیفی:

• تنش دو شکستی میانگین:
  ≤۱۰ نانومتر/سانتی‌متر در ۶۳۳ نانومتر

• آزمون نور سبز (۲۵-۱۲۵ میلی‌وات):
  • عدم مشاهده ستون نور مرئی
  • عاری از حباب‌های میکروسکوپی
  • فاقد ذرات پراکنده‌کننده نور

استانداردهای کنترل کیفیت:

• مطابق با MIL-PRF-13830 کلاس ۸۰/۵۰

• انطباق با ISO 10110-3 برای تنش باقیمانده

• آزمون‌های انجام شده تحت شرایط استاندارد (۲۳±۲°C، رطوبت ۴۵±۵٪)

ملاحظات فنی:

• کیفیت سطحی λ/۸ با پرداخت سطحی ≤۵Å

• مناسب برای کاربردهای حساس لیتوگرافی در محدوده DUV

• مقاومت حرارتی تا ۸۰۰°C در محیط خشک

این محصولات با استفاده از تکنیک‌های پیشرفته رشد بلور و پرداخت اپتیکی تولید شده و تحت آزمون‌های دقیق کنترل کیفی قرار می‌گیرند

 

آزمون عبور نور (Transmittance Test) – کریستال فلورید لیتیم (LiF)

تجهیزات آزمایشگاهی:

۱. طیف‌سنج فرابنفش-مرئی (UV-Vis Spectrophotometer)

• دقت اندازه‌گیری: ±۰.۳٪

• محدوده طیفی: ۱۹۰-۱۱۰۰ نانومتر

• تفکیک‌پذیری: ۰.۵ نانومتر

۲. کرنش‌سنج (Strain Gauges)

• دقت: ±۲ نانومتر/سانتی‌متر

• محدوده اندازه‌گیری: ۰-۵۰ نانومتر/سانتی‌متر

۳. لیزر اشاره‌گر سبز

• طول موج: ۵۳۲±۲ نانومتر

• توان خروجی: ۲۵-۱۲۵ میلی‌وات (قابل تنظیم)

مشخصات نمونه‌ها:

• جنس: فلورید لیتیم تک‌کریستال (LiF)

• ابعاد:

  • قطر: ۲۰-۵۰ میلی‌متر (تلرانس ±۰.۰۵ میلی‌متر)

  • ضخامت: ۱۰±۰.۵ میلی‌متر

• پرداخت سطح:

  • کیفیت ۸۰/۵۰ مطابق MIL-PRF-13830

  • زبری سطح: ≤۵۰ آنگستروم (Å)

شرایط آزمون:

• محدوده طیفی:

  • UV-Vis-NIR: ۱۹۰-۱۱۰۰ نانومتر

  • مادون قرمز میانی (MIR): ۲.۵-۱۲ میکرومتر

• دمای محیط: ۲۳±۱°C

• رطوبت نسبی: ۴۵±۳٪

الزامات کیفی:

• حداقل عبور نور قابل قبول:

  • T > ۹۲٪ در ۲۸۰ نانومتر (برای نمونه ۱۰ میلی‌متری)

• پراکندگی نور مجاز: ≤۱.۵٪

• جذب سطحی: ≤۰.۳٪ در ۲۸۰ نانومتر

روش اجرا:

۱. نمونه‌ها با روش استاندارد ISO 10110-3 تمیز می‌شوند.
۲. اندازه‌گیری‌ها در سه نقطه مختلف نمونه انجام می‌شود.
۳. هر آزمون سه بار تکرار شده و میانگین گزارش می‌شود.
۴. نتایج با گواهی کالیبراسیون تجهیزات ارائه می‌گردد.

ملاحظات:

• آزمون تحت شرایط کنترل‌شده محیطی انجام می‌شود.

• نمونه‌ها قبل از آزمون به مدت ۲۴ ساعت در محیط کنترل‌شده قرار می‌گیرند.

• گزارش نهایی شامل نمودار عبور نور در محدوده‌های مشخص شده می‌باشد

 

خصوصیات کریستال تک‌بلور (Monocrystalline)

معیارهای کنترل کیفی بصری:

۱. یکنواختی ساختاری:

• سطح نمونه در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰۰۰۰-۲۵۰۰۰ لوکس) و با مشاهده چشمی (بدون ابزار بزرگنمایی) باید کاملاً همگن باشد

• عدم وجود هرگونه مرزدانه (Grain Boundaries) در بزرگنمایی چشمی

۲. عیوب سطحی:

• فاقد هرگونه ناهنجاری خطی (Wicker-like Stripes) با طول بیش از ۱ میلی‌متر

• عاری از نواحی کدر یا نقاط غیرهمگن قابل مشاهده

شرایط ارزیابی استاندارد:

• منبع نور: نور روز طبیعی (دمای رنگ ۵۵۰۰±۵۰۰ کلوین)

• زاویه مشاهده: ۴۵±۵ درجه نسبت به سطح نمونه

• فاصله بررسی: ۳۰±۲ سانتیمتر

• زمان بررسی: ۱۵±۵ ثانیه

الزامات فنی:

• انطباق با استاندارد ASTM F1724 (بخش ۷.۳ – روش‌های بازرسی بصری)

• مطابقت با مشخصات SEMI MF1723 (پاراگراف ۵.۲ – یکنواختی ساختاری)

اهمیت کنترل کیفی:

• شاخص کیفیت فرآیند رشد بلور (نرخ رشد ۱-۲ میلی‌متر/دقیقه)

• تضمین‌کننده همسان‌گردی خواص فیزیکی

• پیش‌نیاز اساسی برای کاربردهای:

  • اپتیک لیزرهای پرتوان

  • المان‌های اپتیکی فضایی

  • زیرلایه‌های نیمه‌هادی

تذکر فنی: بررسی نهایی باید با میکروسکوپ نوری (بزرگنمایی ۱۰۰X، روش نورپردازی Köhler) تکمیل شود

ویژگی‌های کریستال نیمه‌بلور (Sub-crystal)

معیارهای ارزیابی بصری:

۱. ناهنجاری‌های سطحی:

• در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰۰۰۰-۲۵۰۰۰ لوکس)، نوارهای بیدگونه (Willow Stripes) با مشخصات زیر قابل مشاهده هستند:

  • عرض: ۰.۱-۰.۵ میلی‌متر

  • طول: ۲-۱۰ میلی‌متر

  • تراکم: <۵ نوار در سانتیمتر مربع

• مساحت کل ناهنجاری‌ها کمتر از ۱۶.۷% سطح مقطع (۱/۶ قطر انتهایی)

۲. پس از پرداخت نهایی:

• ناهنجاری‌ها باید کاملاً محو شوند (زبری سطح <۲۰ نانومتر)

• سطح نمونه باید یکنواخت و عاری از هرگونه خطوط قابل مشاهده باشد

شرایط آزمون استاندارد:

• نورپردازی: نور روز غیرمستقیم (Diffuse Daylight)

• زاویه مشاهده: ۳۰-۶۰ درجه

• فاصله: ۲۵-۴۰ سانتیمتر

• زمان مشاهده: ۱۰-۲۰ ثانیه

الزامات فنی:

• انطباق با استاندارد ISO 10110-7 (عیوب سطحی)

• مطابقت با MIL-O-13830A (کلاس پرداخت سطحی)

ملاحظات کیفی:

• این ناهنجاری‌ها ناشی از تنش‌های حرارتی در فرآیند رشد بلور (نرخ خنک‌سازی ۵-۱۰°C/ساعت) هستند

• تأثیر نامحسوس بر خواص اپتیکی پایه (تغییر ضریب شکست <۰.۱%)

• مناسب برای کاربردهای صنعتی با تلرانس متوسط

تذکر: بررسی نهایی باید با میکروسکوپ دیجیتال (بزرگنمایی ۵۰X) تأیید شود

 

ویژگی‌های کریستال چندبلور (Polycrystalline)

معیارهای ارزیابی بصری:

۱. ساختار مرزدانه‌ای:

• در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰,۰۰۰-۲۵,۰۰۰ لوکس)، خطوط مرزدانه (Crystal Boundary Lines) با مشخصات زیر مشاهده می‌شوند:

  • عرض: ۰.۰۵-۰.۲ میلی‌متر

  • عمق نفوذ: کاملاً در حجم نمونه گسترده شده

  • الگوی شبکه‌ای سه‌بعدی

۲. اختلاف نورانیت:

• تفاوت کنتراست نوری بین دو طرف مرزدانه‌ها:

  • نسبت بازتاب: ۱.۵:۱ تا ۳:۱

  • زاویه وابستگی بازتاب: ۱۵-۳۰ درجه

شرایط آزمون استاندارد:

• منبع نور: نور روز مستقیم (۵۵۰۰±۵۰۰ کلوین)

• زاویه مشاهده: ۴۵±۵ درجه

• فاصله بررسی: ۳۰±۲ سانتیمتر

• زمان مشاهده: ۱۵±۵ ثانیه

ویژگی‌های فنی:

• اندازه دانه: ۵۰-۵۰۰ میکرومتر

• زاویه انحراف بلوری بین دانه‌ها: ۲-۱۵ درجه

• ضریب انبساط حرارتی ناهمسانگرد

ملاحظات کاربرد:

• مناسب برای مصارف صنعتی با تلرانس اپتیکی متوسط

• کاربرد در محیط‌های با تنش حرارتی یکنواخت

• مقرون‌به‌صرفه برای تولید انبوه

تذکر فنی: بررسی کمی با میکروسکوپ پلاریزان (۱۰۰X) و آنالیز EBSD توصیه می‌شود. این ساختار برای کاربردهای حساس اپتیکی مناسب نمی‌باشد

 

●

مواد اپتیکی پیشرفته و کاربردهای تخصصی

۱. شیشه اپتیکی N-BK7

N-BK7 پرکاربردترین شیشه اپتیکی با کیفیت بالا است که دارای:

• محدوده عبور نور گسترده از ۳۵۰ تا ۲۰۰۰ نانومتر (مرئی تا فروسرخ نزدیک)

• ضریب شکست ۱.۵۱۶۸ در ۵۸۷.۶ نانومتر

• عدد آبگریزی ۵۵

• مقاومت شیمیایی عالی (کلاس ۲ مطابق ISO 8424)

کاربردها: لنزهای تلسکوپی، منشورها، اجزای سیستم‌های لیزری

۲. سیلیکای ذوب شده UV

• محدوده عبور: ۱۸۵-۲۱۰۰ نانومتر

• ضریب انبساط حرارتی: ۰.۵۵×۱۰⁻⁶/°C

• هدایت حرارتی: ۱.۳۸ W/m·K

• مقاومت در برابر لیزر: ۱۰ J/cm² در ۳۵۵ نانومتر

کاربردهای ویژه: اپتیک لیزرهای اگزایمر، سیستم‌های لیتوگرافی نیمه‌هادی

۳. فلورید کلسیم (CaF₂)

• محدوده کاری: ۱۸۰ نانومتر تا ۸ میکرومتر

• ضریب شکست: ۱.۴۳ در ۱ میکرومتر

• آستانه آسیب لیزر: ۵ J/cm² در ۲۴۸ نانومتر

• هدایت حرارتی: ۹.۷۱ W/m·K

کاربردها: پنجره طیف‌سنج‌های VUV، لنزهای سیستم‌های تصویربرداری حرارتی

۴. فلورید باریم (BaF₂)

• محدوده عبور: ۲۰۰ نانومتر تا ۱۱ میکرومتر

• سرعت سینتیلاسیون: ۰.۸ ns

• مقاومت تشعشعی: تا ۱۰⁶ راد

• دمای کاری در محیط خشک: تا ۸۰۰°C

ملاحظات: نیاز به محیط کنترل‌شده رطوبتی (RH<30%)

۵. فلورید منیزیم (MgF₂)

• سختی موس: ۶

• ضریب شکست: ۱.۳۸ در ۵۰۰ نانومتر

• مقاومت شیمیایی: کلاس ۱ (مقاوم در برابر اسیدها و بازها)

• پایداری حرارتی: تا ۱۰۰۰°C

۶. سلنید روی (ZnSe)

• جذب ویژه: <۰.۰۰۰۵ cm⁻¹ در ۱۰.۶ میکرومتر

• ضریب پراکندگی: ۰.۰۰۰۶ در ۳-۵ میکرومتر

• مقاومت در برابر شوک حرارتی: ۵۰ W/cm در ۱۰.۶ میکرومتر

هشدار: نیاز به پوشش محافظ ضد انعکاس برای کاربردهای CO₂ لیزر

۷. سیلیکون (Si)

• جذب در ۹ میکرومتر: >۹۵%

• ضریب انبساط حرارتی: ۲.۶×۱۰⁻⁶/°C

• مقاومت مکانیکی: ۱۸۰ MPa

کاربرد بهینه: سیستم‌های تصویربرداری ۳-۵ میکرومتر

۸. ژرمانیوم (Ge)

• ضریب شکست: ۴.۰ در ۱۰ میکرومتر

• تغییر عبور با دما: -۰.۰۵%/°C

• هزینه تولید بالا به دلیل نیاز به خلوص ۹N

۹. ZnS CVD

• عبور در ۱۰ میکرومتر: >۷۰%

• مقاومت در برابر فرسایش: ۱۰ برابر بهتر از ZnSe

• هزینه تولید متوسط

کاربردهای پیشرفته: سیستم‌های چندطیفی (Multi-spectral)، پنجره‌های ترکیبی لیزر/فروسرخ

هر ماده با توجه به مشخصات منحصر به فرد خود در کاربردهای خاصی بهترین عملکرد را ارائه می‌دهد. انتخاب ماده مناسب نیازمند تحلیل دقیق پارامترهای طراحی اپتیکی، شرایط محیطی و محدودیت‌های اقتصادی می‌باشد