منشور زاویه قائمه سیلیکون

توضیحات

منشور زاویه قائمه سیلیکون (Si)

ویژگی‌های عملکردی:

منشورهای زاویه قائمه سیلیکون با استفاده از پدیده بازتاب کلی داخلی (TIR)، پرتوهای نوری را در دو حالت ۹۰ درجه و ۱۸۰ درجه منحرف می‌کنند:

۱. انحراف ۹۰ درجه‌ای:

• پرتو نور از یک سطح قائمه وارد منشور می‌شود

• در سطح شیبدار، بازتاب کلی در فصل مشترک سیلیکون/هوا اتفاق می‌افتد

• پرتو نور از سطح قائمه مقابل خارج می‌شود

۲. انحراف ۱۸۰ درجه‌ای:

• پرتو از سطح مایل (هیپوتنوز) وارد می‌شود

• بازتاب کلی در محل تقاطع دو سطح قائمه با هوا رخ می‌دهد

• پرتو با انحراف ۱۸۰ درجه از همان سطح مایل خارج می‌گردد

مشخصات فنی سیلیکون:

• محدوده کاری: ۱.۲ تا ۸ میکرومتر

• ضریب شکست: ۳.۴۲ @ 4μm

• سختی: ۱۱۵۰ Knoop

• چگالی: ۲.۳۳ g/cm³

• هدایت حرارتی: ۱۵۰ W/m·K

امکانات تولید UMOPTICS:

• تولید در ابعاد و اندازه‌های متنوع

• دقت ابعادی بالا (±۰.۰۵mm)

• کیفیت سطح عالی (۶۰-۴۰ scratch-dig)

• امکان ارائه با پوشش‌های ضد بازتاب

مزایای کلیدی:

• وزن سبک نسبت به ژرمانیم

• مقاومت مکانیکی بالا

• پایداری حرارتی عالی

• قیمت مقرون به صرفه

کاربردهای اصلی:

• سیستم‌های تصویربرداری حرارتی (۳-۵μm)

• طیف‌سنجی مادون قرمز

• سیستم‌های لیدار

• تجهیزات آزمایشگاهی و تحقیقاتی

ملاحظات فنی:

• به دلیل ضریب شکست بالا، بازتاب سطحی قابل توجهی دارد

• برای کاربردهای دقیق توصیه می‌شود از پوشش ضد بازتاب استفاده شود

• در دمای بالا (بالای ۲۰۰°C) خواص نوری تغییر می‌کند

شرکت UMOPTICS با استفاده از مواد سیلیکون با کیفیت بالا و ماشینکاری دقیق، منشورهایی با کیفیت اپتیکی عالی تولید می‌کند.

 

 

• معرفی محصولات

منشور زاویه قائمه سیلیکون (Si)

مکانیسم عملکرد اپتیکی:

منشورهای زاویه قائمه سیلیکون با بهره‌گیری از پدیده بازتاب کلی داخلی (Total Internal Reflection) قادر به تغییر مسیر پرتوهای نوری در دو زاویه 90 و 180 درجه می‌باشند:

1. حالت انحراف 90 درجه:

• پرتو نور از یکی از سطوح قائمه منشور وارد می‌شود

• در سطح شیبدار (هیپوتنوز)، بازتاب کلی در فصل مشترک سیلیکون/هوا رخ می‌دهد

• پرتو نور از سطح قائمه مجاور خارج می‌شود

2. حالت انحراف 180 درجه:

• پرتو نور از سطح مایل (هیپوتنوز) وارد منشور می‌شود

• بازتاب کلی در محل تلاقی دو سطح قائمه با هوا اتفاق می‌افتد

• پرتو نور با زاویه 180 درجه از همان سطح مایل خارج می‌گردد

ویژگی‌های کلیدی:

• محدوده کاری وسیع در ناحیه مادون قرمز (1.2-8 میکرومتر)

• ضریب شکست بالا (3.42 در طول موج 4 میکرومتر)

• سختی مکانیکی عالی (1150 Knoop)

• هدایت حرارتی بالا (150 W/m.K)

• وزن سبک (چگالی 2.33 g/cm³)

امکانات تولید UMOPTICS:

• قابلیت ساخت در ابعاد و اندازه‌های سفارشی

• دقت ابعادی بسیار بالا (±0.05 میلی‌متر)

• کیفیت سطح اپتیکی مطلوب (60-40 scratch-dig)

• امکان اعمال پوشش‌های ضد بازتاب (AR) برای بهبود عملکرد

کاربردهای صنعتی و تحقیقاتی:

• سیستم‌های تصویربرداری حرارتی (3-5 میکرومتر)

• تجهیزات طیف‌سنجی مادون قرمز

• سیستم‌های لیدار (LIDAR)

• دستگاه‌های اندازه‌گیری دقیق

• کاربردهای آزمایشگاهی و تحقیقاتی

ملاحظات فنی مهم:

1. به دلیل ضریب شکست بالا، بازتاب سطحی قابل توجهی دارد که با پوشش‌های AR قابل کاهش است

2. در دماهای بالاتر از 200 درجه سانتیگراد ممکن است تغییرات نوری ایجاد شود

3. برای کاربردهای دقیق، کالیبراسیون دقیق زوایا ضروری است

 

 

منشور زاویه قائمه سیلیکون (Si) – محصولات سفارشی UMOPTICS

معرفی محصول:
منشور زاویه قائمه سیلیکون یکی از پرکاربردترین انواع منشور در کاربردهای اپتیکی مادون قرمز محسوب می‌شود. این منشورها به دلیل خواص منحصر به فرد سیلیکون در محدوده طیفی 1.2 تا 8 میکرومتر، گزینه‌ای ایده‌آل برای سیستم‌های تصویربرداری حرارتی و طیف‌سنجی هستند.

امکانات سفارشی‌سازی:

1. تنوع ابعادی:

   • تولید در اندازه‌های استاندارد و سفارشی

   • دقت ابعادی بالا (±0.05 میلی‌متر)

   • امکان ساخت در ابعاد خاص بر اساس نیاز مشتری

2. پوشش‌های اپتیکی:

   • پوشش ضد بازتاب (AR):

     • کاهش بازتاب سطحی تا کمتر از 0.5%

     • افزایش عبور نور تا 99.5%

     • مناسب برای کاربردهای عبوری

   • پوشش بازتابی (HR):

     • بازتاب بیش از 99% در طول موج‌های مشخص

     • ایده‌آل برای کاربردهای بازتابی

ویژگی‌های متمایز:

• مقاومت مکانیکی عالی (سختی 1150 Knoop)

• پایداری حرارتی بالا

• وزن سبک نسبت به سایر مواد مادون قرمز

• قیمت مقرون به صرفه

راهنمای انتخاب:

• برای سیستم‌های تصویربرداری و طیف‌سنجی، پوشش AR توصیه می‌شود

• در کاربردهای لیزر و سیستم‌های بازتابی، پوشش HR مناسب‌تر است

• امکان مشاوره فنی رایگان برای انتخاب بهینه

کاربردهای اصلی:

• دوربین‌های تصویربرداری حرارتی

• سیستم‌های لیدار (LIDAR)

• تجهیزات آزمایشگاهی و تحقیقاتی

• دستگاه‌های اندازه‌گیری صنعتی

 

 

• اطلاعات فنی

 

پوشش‌های اپتیکی و کاربردهای تخصصی

تعریف پوشش اپتیکی:
پوشش‌دهی فرآیند اعمال لایه‌های نازک شفاف الکترولیتی یا فلزی بر روی سطح زیرلایه‌های اپتیکی است که به روش‌های فیزیکی یا شیمیایی انجام می‌شود. این فرآیند با دقت نانومتری صورت گرفته و امکان کنترل دقیق خواص نوری سطح را فراهم می‌کند.

اهداف اصلی پوشش‌دهی:

• تنظیم و بهینه‌سازی ضریب بازتاب سطح (از 0.1% تا بیش از 99%)

• کنترل دقیق میزان عبور نور

• ایجاد قابلیت تفکیک پرتو با دقت زاویه‌ای بالا

• امکان تفکیک طیفی با قدرت تفکیک مناسب

• فیلتراسیون انتخابی طول موج‌های خاص

• ایجاد پلاریزاسیون خطی یا دایروی

انواع پوشش‌های تخصصی قابل ارائه:

1. پوشش‌های ضد بازتاب (AR):

   • کاهش بازتاب سطح به کمتر از 0.5%

   • افزایش عبور نور تا 99.5%

   • کاهش تلفات نوری در سیستم‌های چندعدسی

2. پوشش‌های بازتاب بالا (HR):

   • بازتاب بیش از 99.5% در طول موج‌های مشخص

   • پایداری حرارتی عالی

   • مناسب برای کاربردهای لیزر پرتوان

3. پوشش‌های طیفی (Spectral):

   • عبور انتخابی در باندهای مشخص

   • شیب قطع تند (Sharp Cut-on/off)

   • مناسب برای فیلترهای نوری

4. پوشش‌های فلزی (Metallic):

   • بازتاب یکنواخت در محدوده وسیع

   • پایداری محیطی بالا

   • مقاوم در برابر شرایط سخت عملیاتی

پوشش‌های ضد بازتاب پهن‌باند:

• محدوده فرابنفش (185-400nm) با عبوردهی >98%

• طیف مرئی (400-700nm) با بازتاب <0.25%

• فروسرخ نزدیک (700-1100nm) با یکنواختی ±1%

• فروسرخ میانی (3-5μm) با پایداری حرارتی عالی

تمامی پوشش‌ها با استفاده از پیشرفته‌ترین فناوری‌های لایه‌گذاری شامل تبخیر حرارتی (Thermal Evaporation) و کندوپاش (Sputtering) تولید شده و کیفیت آنها با اسپکتروفتومترهای دقیق مورد بررسی قرار می‌گیرد. ضخامت هر لایه با دقت ±1nm کنترل شده و عملکرد نهایی مطابق با استانداردهای بین‌المللی تضمین می‌شود.