سیلیکون تککریستال
توضیحات
سیلیکون تککریستال
معرفی محصول:
سیلیکون تککریستال دارای ویژگیهای منحصر به فرد زیر است:
-
سختی بالا و عدم حلالیت در آب
-
عبور نور عالی در محدوده ۱ تا ۷ میکرومتر
کاربردهای اصلی:
۱. پنجرههای نوری مادون قرمز میانی (۳-۵ میکرومتر)
۲. زیرلایه فیلترهای نوری
۳. ساخت آینههای لیزر (به دلیل هدایت حرارتی خوب و چگالی پایین)
قابلیتهای تولید:
شرکت ما توانایی ارائه انواع محصولات سیلیکون تککریستال را در اشکال مختلف دارد:
-
گرد (دایرهای)
-
مستطیلی
-
سوراخدار
-
پنجرهای
-
لنزی
-
گالوانومتری
-
اشکال سفارشی
نکات کلیدی:
-
کیفیت سطحی بالا برای کاربردهای اپتیکی دقیق
-
قابلیت تولید هم به صورت نیمهساخته (بلانک) و هم محصول نهایی
-
مناسب برای کاربردهای حساس در صنایع دفاعی، پزشکی و مخابراتی
این محصولات با بالاترین استانداردهای کیفی و با دقت ابعادی بالا تولید میشوند.

سیلیکون تککریستال (Monocrystalline Silicon)
ویژگیهای فنی:
سیلیکون تککریستال دارای مشخصات منحصر به فرد زیر میباشد:
-
ساختار بلوری بسیار سخت و مقاوم
-
عدم حلالیت در آب در شرایط استاندارد
-
عبور نور استثنایی در محدوده طیفی 1 تا 7 میکرومتر
کاربردهای صنعتی:
-
پنجرههای اپتیکی مادون قرمز میانی (3-5 میکرومتر)
-
زیرلایه فیلترهای نوری با دقت بالا
-
آینههای لیزر با عملکرد حرارتی مطلوب (به دلیل هدایت حرارتی بالا و چگالی پایین)
تواناییهای تولیدی شرکت:
ما قادر به تأمین انواع محصولات سیلیکون تککریستال هستیم:
-
محصولات نیمهساخته (بلانک) در ابعاد و اشکال مختلف
-
محصولات نهایی با پرداخت سطحی دقیق
-
امکان تولید با مشخصات فنی سفارشی
مزایای رقابتی:
-
کیفیت بلورینگی عالی (کمتر از 500 نابجایی در سانتیمتر مربع)
-
پرداخت سطحی با دقت نانومتری
-
قابلیت استفاده در محیطهای خشن و شرایط عملیاتی سخت
این محصولات در صنایع دفاعی، مخابراتی و سیستمهای تصویربرداری حرارتی کاربرد گستردهای دارند.

محصولات سیلیکون تککریستال
شرکت ما توانایی تولید و عرضه گستردهای از محصولات سیلیکون تککریستال را در انواع مشخصات فنی دارا میباشد:
انواع محصولات قابل تأمین:
۱. محصولات نیمهساخته (بلانک) در اشکال متنوع:
-
دایرهای (گرد)
-
مستطیلی
-
سوراخدار
-
پنجرهای
-
لنزی
-
گالوانومتری
-
اشکال خاص و سفارشی
۲. محصولات نهایی با پرداخت سطحی دقیق
ویژگیهای تولید:
-
دقت ابعادی بسیار بالا (مطابق با استانداردهای MIL و ISO)
-
کیفیت سطحی عالی (پرداخت اپتیکی تا λ/10)
-
امکان تولید با قطرهای مختلف از 20 تا 300 میلیمتر
-
ضخامتهای قابل تولید از 0.5 تا 50 میلیمتر
قابلیتهای ویژه:
• تولید بر اساس استانداردهای بینالمللی SEMI و ASTM
• امکان ارائه محصولات با جهتگیری بلوری مختلف (100)، (110) و (111)
• کنترل کیفی دقیق با روشهای XRD و FTIR
• بستهبندی ویژه برای جلوگیری از آلودگی و آسیبهای سطحی
این محصولات در صنایع پیشرفتهای همچون اپتوالکترونیک، لیزرهای پرتوان، سیستمهای تصویربرداری حرارتی و تجهیزات نیمههادی کاربرد دارند.

خواص و محدودیتهای سیلیکون در کاربردهای لیزری
مزایای کلیدی سیلیکون:
۱. هدایت حرارتی بالا (≈150 W/m·K):
-
امکان دفع حرارت مؤثر در آینههای لیزر پرتوان
-
جلوگیری از اعوجاج حرارتی در عملکردهای طولانی مدت
۲. چگالی پایین (2.33 g/cm³):
-
کاهش وزن سیستمهای اپتیکی
-
مناسب برای کاربردهای حساس به وزن
محدودیتهای کاربردپذیری:
سیلیکون به دلیل جذب ذاتی شدید در طول موج ۹ میکرومتر، گزینه مناسبی برای کاربردهای انتقال لیزر CO₂ نیست. این ویژگی منجر به:
-
اتلاف انرژی قابل توجه
-
گرمایش موضعی
-
احتمال آسیب اپتیکی
جایگزینهای پیشنهادی برای لیزر CO₂:
-
سلنید روی (ZnSe) برای محدوده ۶-۱۶ میکرومتر
-
ژرمانیوم (Ge) برای محدوده ۲-۱۶ میکرومتر
-
سولفید روی (ZnS) برای محدوده وسیع طیفی
نکته فنی:
در طراحی آینههای لیزر با سیلیکون، باید ضریب انبساط حرارتی پایین (2.6 × 10⁻⁶ /K) و سختی بالا (1150 در مقیاس نوپ) این ماده را نیز مد نظر قرار داد

پوششهای اپتیکی و کاربردهای آن
تعریف پوششدهی اپتیکی:
پوششدهی فرآیند اعمال لایههای نازک از مواد دیالکتریک یا فلزی بر روی سطح زیرلایهها به روشهای فیزیکی یا شیمیایی است که با اهداف زیر انجام میشود:
-
اصلاح ضریب بازتاب سطح
-
کنترل میزان عبور نور
-
ایجاد خاصیت قطبیکنندگی
-
تفکیک طیفی نور
-
فیلتراسیون انتخابی طولموجها
انواع پوششهای قابل ارائه:
۱. پوششهای ضد بازتاب (AR):
-
کاهش تلفات نوری تا کمتر از ۰.۵٪
-
افزایش بهرهوری سیستمهای اپتیکی
۲. پوششهای بازتاب بالا (HR):
-
بازتاب بیش از ۹۹٪ در طولموجهای هدف
-
مناسب برای کاواکهای لیزری
۳. پوششهای طیفی:
-
تفکیک دقیق طولموجها
-
کاربرد در سیستمهای طیفسنجی
۴. پوششهای فلزی:
-
ایجاد بازتابکنندههای پهنباند
-
مقاومت مکانیکی بالا
پوششهای ضد بازتاب پهنباند:
این پوششها برای محدودههای طیفی زیر طراحی و اجرا میشوند:
-
فرابنفش (UV): ۲۰۰-۴۰۰ نانومتر
-
مرئی (Visible): ۴۰۰-۷۰۰ نانومتر
-
مادون قرمز نزدیک (NIR): ۷۰۰-۱۱۰۰ نانومتر
-
مادون قرمز میانی (Mid-IR): ۳-۵ میکرومتر
ویژگیهای فنی:
-
ضخامت لایهها با دقت نانومتری کنترل میشود
-
استفاده از مواد با خلوص بالا (۹۹.۹۹٪)
-
مقاومت در برابر شرایط محیطی سخت
-
عمر عملیاتی طولانی
-
امکان طراحی سفارشی برای نیازهای خاص
این پوششها با استفاده از پیشرفتهترین سیستمهای لایهنشانی شامل تبخیر حرارتی، پرتو الکترونی و کندوپاش RF/DC تولید میشوند
- Technical lnformation

استانداردهای مواد – سیلیکون تککریستال
۱. جنس ماده:
-
ترکیب شیمیایی: سیلیکون خالص (Si) به صورت تککریستال
۲. درجه خلوص:
-
خلوص ماده اولیه برای رشد بلور: حداقل ۹N (۹۹٫۹۹۹۹۹۹۹٪)
-
خلوص مواد دوپکننده: حداقل ۵N (۹۹٫۹۹۹٪)
۳. کیفیت بلورینگی:
-
میلههای سیلیکون تککریستال باید دارای ویژگیهای زیر باشند:
-
بدون ساختار موزاییکی
-
فاقد مرزدانه
-
عاری از بلورهای دوقلو
-
۴. چگالی نابجایی:
-
حداکثر ۱۰۰ نابجایی بر سانتیمتر مربع (dislocations/cm²)
۵. نوع رسانایی:
سیلیکون تککریستال در دو نوع رسانایی تولید میشود:
-
نوع N (حامل بار منفی)
-
نوع P (حامل بار مثبت)
۶. جهتگیری بلورنگاری:
جهتگیریهای اصلی بلورهای سیلیکون شامل موارد زیر است:
-
[۱۰۰]
-
[۱۱۰]
-
[۱۱۱]
ملاحظات کنترل کیفی:
-
کلیه پارامترهای فوق مطابق با استانداردهای بینالمللی SEMI و ASTM کنترل میشوند
-
آزمونهای کیفیتسنجی شامل XRD، FTIR و آنالیز ناخالصیها به صورت سیستماتیک انجام میگیرد
-
نمونهها باید عاری از هرگونه تنش داخلی و ناهمگنی ساختاری باشند

●
مشخصات فنی سیلیکون تککریستال
۱. مقاومت الکتریکی (رسانایی):
مقاومت الکتریکی سیلیکون تککریستال بر اساس استانداردهای صنعتی به چهار کلاس مختلف تقسیمبندی میشود که هر کلاس برای کاربردهای خاصی طراحی شده است. این تقسیمبندی بر اساس میزان خلوص و نوع دوپانت مورد استفاده تعیین میگردد.
۲. کیفیت ظاهری:
سیلیکون تککریستال باید دارای مشخصات ظاهری زیر باشد:
-
سطح کاملاً عاری از آلودگی (ذرات، چربی یا مواد خارجی)
-
بدون هرگونه تراشه یا شکستگی در لبهها و سطوح
-
فاقد ترکهای میکروسکوپی یا ماکروسکوپی
-
بدون حفره یا تخلخل بر روی سطح
ملاحظات کنترل کیفی:
-
بازرسی ظاهری با استفاده از میکروسکوپ نوری با بزرگنمایی ۱۰۰X
-
آنالیز سطح با روشهای SEM و AFM برای بررسی عیوب سطحی
-
تستهای غیرمخرب برای شناسایی ترکهای زیرسطحی
-
اندازهگیری زبری سطح با دستگاه پروفیلومتر
کاربردهای متناسب:
سیلیکون با کیفیت ظاهری بالا برای تولید:
-
ویفرهای نیمههادی
-
قطعات اپتوالکترونیک
-
حسگرهای دقیق
-
المانهای اپتیکی پرتوان
مناسب میباشد.

آزمون عبور نور (Transmittance Test) برای سیلیکون تککریستال
ویژگیهای نمونه مورد آزمایش:
-
جنس ماده: سیلیکون تککریستال
-
محدوده قطر نمونه: 20 تا 50 میلیمتر
-
ضخامت نمونه: 10 ± 0.5 میلیمتر
-
کیفیت سطح: پرداخت شده با استاندارد سطحی 80/50 (زبری سطح حداکثر 80 آنگستروم، عیوب سطحی حداکثر 50 میکرون)
محدوده آزمون:
-
محدوده طول موج آزمایش: 3 تا 15 میکرومتر
الزامات کیفی عبور نور:
-
میزان عبور نور (Transmittance) در محدوده 3-5 میکرومتر باید حداقل 52.5% باشد (T≥52.5%@3-5μm)
شرایط آزمایش:
-
آزمایش در محیط کنترل شده دما (23±2°C) و رطوبت (45±5%) انجام میشود.
-
دستگاه طیفسنج مورد استفاده باید دارای کالیبراسیون معتبر باشد.
-
زاویه تابش نور باید دقیقاً عمود بر سطح نمونه باشد.
-
نمونهها باید قبل از آزمایش با روشهای استاندارد تمیزکاری شوند.
تفسیر نتایج:
میزان عبور نور 52.5% در محدوده 3-5 میکرومتر نشاندهنده کیفیت مناسب بلور سیلیکون برای کاربردهای اپتوالکترونیک و سیستمهای مادون قرمز میانی است. این مقدار عبور نور تضمینکننده عملکرد بهینه در کاربردهایی مانند:
-
پنجرههای اپتیکی سیستمهای تصویربرداری حرارتی
-
لنزهای مادون قرمز
-
اجزای اپتیکی سیستمهای لیزری
میباشد

●
مواد اپتیکی پیشرفته و کاربردهای آنها
1. شیشه اپتیکی N-BK7:
-
پرکاربردترین شیشه اپتیکی برای قطعات باکیفیت
-
عبور نور عالی در محدوده مرئی تا مادون قرمز نزدیک (350-2000 نانومتر)
-
کاربرد گسترده در تلسکوپها و سیستمهای لیزری
-
جایگزین مناسب وقتی مزایای سیلیکای ذوبشده UV مورد نیاز نیست
2. سیلیکای ذوبشده UV:
-
عبور نور بالا از UV تا مادون قرمز نزدیک (185-2100 نانومتر)
-
یکنواختی بهتر و ضریب انبساط حرارتی پایینتر نسبت به N-BK7
-
مناسب برای لیزرهای پرتوان و کاربردهای تصویربرداری
3. فلورید کلسیم (CaF₂):
-
عبور نور بالا در محدوده 180 نانومتر تا 8 میکرومتر
-
ضریب شکست پایین
-
مناسب برای پنجرهها و لنزهای طیفسنجها و سیستمهای تصویربرداری حرارتی
-
مقاومت بالا در برابر آسیب لیزر (مناسب برای لیزرهای اگزایمر)
4. فلورید باریم (BaF₂):
-
عبور نور بالا در محدوده 200 نانومتر تا 11 میکرومتر
-
مقاوم در برابر تابشهای پرانرژی
-
خاصیت سینتیلاسیون عالی
-
محدودیت: مقاومت کم در برابر رطوبت (استفاده تا 500°C در محیط مرطوب و 800°C در محیط خشک)
-
نکته ایمنی: استفاده از دستکش هنگام کار الزامی است
5. فلورید منیزیم (MgF₂):
-
مناسب برای محدوده 200 نانومتر تا 6 میکرومتر
-
مقاومت بالا در برابر:
-
خوردگی شیمیایی
-
آسیب لیزر
-
شوک مکانیکی و حرارتی
-
-
سختی: 415 (مقیاس نوپ)
-
ضریب شکست: 1.38
6. سلنید روی (ZnSe):
-
عبور نور بالا در محدوده 600 نانومتر تا 16 میکرومتر
-
کاربرد در:
-
تصویربرداری حرارتی
-
سیستمهای مادون قرمز
-
سیستمهای پزشکی
-
لیزرهای CO₂ پرتوان
-
-
نکات:
-
مادهای نرم (سختی 120)
-
مستعد خط افتادگی
-
نیاز به مراقبت ویژه در تمیزکاری و نگهداری
-
7. سیلیکون (Si):
-
مناسب برای محدوده 1.2-8 میکرومتر
-
مزایا:
-
چگالی پایین
-
سختی بالا (1150)
-
مقاومت مکانیکی خوب
-
-
محدودیت: جذب بالا در 9 میکرومتر (نامناسب برای لیزر CO₂)
8. ژرمانیوم (Ge):
-
مناسب برای محدوده 2-16 میکرومتر
-
مزایا:
-
ضریب شکست بالا
-
انحنای سطحی کم
-
ابیراهی رنگی پایین
-
-
محدودیتها:
-
حساس به دما (کاربرد تا 100°C)
-
چگالی بالا (5.33 g/cm³)
-
-
کاربردها:
-
سیستمهای تصویربرداری حرارتی
-
تقسیمکنندههای پرتو مادون قرمز
-
سیستمهای FLIR
-
9. سولفید روی CVD (CVD ZnS):
-
تنها ماده اپتیکی (پس از الماس) با پوشش طیفی کامل از مرئی تا مادون قرمز موج بلند (LWIR)
-
مهمترین ماده برای پنجرههای LWIR
-
کاربردها:
-
سیستمهای تصویربرداری حرارتی با وضوح بالا
-
پنجرههای “سهگانه اپتیکی”
-
پنجرههای ترکیبی لیزر مادون قرمز/مادون قرمز دو رنگ
-
این مواد با توجه به خواص منحصر به فردشان، انتخابهای ایدهآلی برای کاربردهای اپتیکی پیشرفته در صنایع دفاعی، پزشکی، مخابراتی و تحقیقاتی محسوب میشوند

نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.