کریستال‌های سیلیکون

توضیحات

کریستال‌های سیلیکون CZ

معرفی محصول:

کریستال‌های سیلیکون CZ (مخفف Czochralski) با استفاده از روش چکرالسکی تولید می‌شوند. این سیلیکون تک‌کریستال به طور معمول در ساخت پنجره‌های اپتیکی موج میانی فروسرخ (3-5 میکرومتر) و به عنوان زیرلایه برای فیلترهای اپتیکی استفاده می‌شود. همچنین به دلیل هدایت حرارتی خوب و چگالی پایین، ماده‌ای ایده‌آل برای ساخت آینه‌های لیزر محسوب می‌شود.

محصولات قابل ارائه:

ما قادر به تأمین انواع شمش‌ها و محصولات نهایی سیلیکون CZ در مشخصات فنی مختلف هستیم.

انواع اشکال قابل ارائه شامل:

• گرد (Round)

• مستطیلی (Rectangular)

• سوراخ‌دار (Drilled)

• پنجره‌ای (Windows)

• لنزی (Lens)

• گالوانومتری (Galvanometer)

• اشکال خاص و سفارشی (Shaped)

تمامی محصولات با بالاترین استانداردهای کیفی و دقت ابعادی تولید می‌شوند و می‌توانند متناسب با نیازهای خاص مشتریان سفارشی‌سازی شوند

• Products Introduction

کریستال‌های سیلیکون CZ

ویژگی‌های محصول:
کریستال‌های سیلیکون CZ، سیلیکون تک‌کریستالی هستند که با روش چکرالسکی (CZ) رشد داده می‌شوند. این مواد به دلیل خواص منحصر به فردشان، کاربردهای گسترده‌ای در صنایع اپتیکی و الکترونیکی دارند.

کاربردهای اصلی:

1. پنجره‌های اپتیکی فروسرخ میانی (3-5 میکرومتر)

2. زیرلایه فیلترهای اپتیکی

3. ساخت آینه‌های لیزر (به دلیل هدایت حرارتی بالا و چگالی پایین)

توانایی‌های تولیدی شرکت:
شرکت ما قادر به تولید و تأمین انواع محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس سیلیکون تک‌کریستال CZ در ابعاد و مشخصات مختلف می‌باشد. محصولات ما با بالاترین استانداردهای کیفی و دقت ابعادی تولید می‌شوند.

مزایای کلیدی:

• کیفیت کریستالی بالا

• خواص اپتیکی مطلوب

• پایداری حرارتی مناسب

• قابلیت پرداخت سطح عالی

این محصولات برای استفاده در کاربردهای حساس اپتیکی و لیزر مناسب بوده و می‌توانند مطابق با نیازهای خاص مشتریان سفارشی‌سازی شوند

پوشش‌های اپتیکی و کاربردهای تخصصی

تعریف پوشش اپتیکی:
پوشش‌دهی به فرآیند اعمال لایه‌های نازک (Thin-film) از جنس مواد دی‌الکتریک یا فلزی بر روی زیرلایه‌ها با استفاده از روش‌های فیزیکی (PVD) یا شیمیایی (CVD) اطلاق می‌شود. این فرآیند با دقت نانومتری انجام می‌گیرد.

اهداف پوشش‌دهی:
• تنظیم ضریب بازتاب سطح (R% از 0.1% تا 99.9%)
• کنترل ضریب عبور نور (Tuning Transmission)
• ایجاد خاصیت تفکیک پرتو (Beam Splitting)
• فیلتراسیون طیفی (Spectral Filtering)
• ایجاد پلاریزاسیون (Polarization Control)

انواع پوشش‌های قابل ارائه:

1. پوشش‌های ضد بازتاب (AR Coatings):

   • محدوده UV (185-400 nm)

   • محدوده مرئی (400-700 nm)

   • محدوده NIR (700-2000 nm)

   • محدوده MWIR (3-5 μm)

2. پوشش‌های بازتاب بالا (HR Coatings):

   • بازتاب >99% در طول موج‌های هدف

3. پوشش‌های طیفی (Dichroic Coatings):

   • برای کاربردهای تفکیک طول موج

4. پوشش‌های فلزی (Metallic Coatings):

   • شامل Al، Ag، Au با لایه‌های محافظ

ویژگی‌های فنی:
• ضخامت لایه‌ها با دقت ±1nm کنترل می‌شود
• مقاومت مکانیکی بالا (مطابق استاندارد MIL-C-675C)
• پایداری حرارتی تا 300°C برای کاربردهای خاص

تمامی پوشش‌ها با استفاده از سیستم‌های اواپوریشن حرارتی و اسپاترینگ یونی تولید شده و تحت کنترل کیفی دقیق قرار می‌گیرند

• Technical lnformation

●

استانداردهای مقاومت الکتریکی و کیفیت ظاهری سیلیکون تک‌کریستال

● دسته‌بندی مقاومت الکتریکی:
مقاومت الکتریکی سیلیکون تک‌کریستال بر اساس استاندارد SEMI به چهار کلاس اصلی تقسیم می‌شود:

1. کلاس 1: مقاومت بسیار پایین (Very Low Resistivity) – کمتر از 0.01 Ω.cm

2. کلاس 2: مقاومت پایین (Low Resistivity) – 0.01 تا 1 Ω.cm

3. کلاس 3: مقاومت متوسط (Medium Resistivity) – 1 تا 10 Ω.cm

4. کلاس 4: مقاومت بالا (High Resistivity) – بیشتر از 10 Ω.cm

● الزامات کیفیت ظاهری:
سطح سیلیکون تک‌کریستال باید دارای مشخصات زیر باشد:

• عاری از هرگونه آلودگی سطحی (ذرات، گردوغبار یا مواد خارجی)

• بدون تراشه یا شکستگی (Chip-free) در لبه‌ها و سطح

• فاقد هرگونه ترک‌های میکروسکوپی یا ماکروسکوپی

• بدون حفره یا سوراخ (حتی در مقیاس میکرومتر)

تذکر مهم:
تمامی نمونه‌ها قبل از تحویل تحت بررسی‌های زیر قرار می‌گیرند:

• آنالیز سطح با میکروسکوپ نوری با بزرگنمایی 100X

• تست آلودگی با روش FTIR

• اندازه‌گیری مقاومت الکتریکی با روش چهارپروب

• بازرسی چشمی با نور UV و نور سفید

این استانداردها مطابق با الزامات SEMI MF84 و ASTM F723 رعایت می‌گردد

آزمون عبور نور (Transmittance Test) برای سیلیکون تک‌کریستال

● مشخصات نمونه‌های آزمون:

• جنس نمونه: سیلیکون تک‌کریستال خالص

• قطر نمونه: 20 تا 50 میلی‌متر (با تلرانس ±0.1mm)

• ضخامت نمونه: 10 ± 0.5 میلی‌متر

• پرداخت سطح: کیفیت سطح 80/50 (مطابق استاندارد MIL-PRF-13830)

  • خطای سطحی ≤80 Å

  • کیفیت پرداخت ≤50 میکرواینچ

● محدوده طیفی آزمون:

• محدوده طول موج: 3 تا 15 میکرومتر

• دستگاه مورد استفاده: طیف‌سنج FTIR با تفکیک پذیری 4cm⁻¹

● الزامات کیفی عبور نور:

• حداقل میزان عبور نور در بازه 3-5 میکرومتر: ≥52.5%

• میزان جذب مجاز: ≤45% در 9μm (ناشی از جذب ذاتی سیلیکون)

• پراکندگی نور سطحی: ≤2% در 4μm

ملاحظات آزمون:

1. کلیه اندازه‌گیری‌ها در دمای 25±1°C و رطوبت نسبی 45±5% انجام می‌شود.

2. نمونه‌ها قبل از آزمون با روش‌های استاندارد تمیزکاری می‌شوند.

3. نتایج با سه بار تکرار آزمون و میانگین‌گیری گزارش می‌شود.

این آزمون مطابق با استانداردهای ASTM E903 و ISO 13468 انجام شده و گواهی کالیبراسیون دستگاه‌ها به همراه نتایج ارائه می‌گردد

●

مواد اپتیکی و کاربردهای تخصصی آنها

1. شیشه اپتیکی N-BK7

N-BK7 پرکاربردترین شیشه اپتیکی با کیفیت بالا است که:

• محدوده عبور نور: 350-2000 نانومتر (مرئی تا فروسرخ نزدیک)

• کاربردها: تلسکوپ‌ها، سیستم‌های لیزری و قطعات اپتیکی

• مزیت: جایگزین اقتصادی زمانی که نیاز به مزایای سیلیکای ذوب شده UV نباشد

2. سیلیکای ذوب شده UV

• محدوده عبور نور: 185-2100 نانومتر (UV تا فروسرخ نزدیک)

• ویژگی‌های ممتاز:

  • یکنواختی بالا

  • ضریب انبساط حرارتی پایین (0.55×10⁻⁶/K)

• کاربردهای ویژه: لیزرهای پرتوان و سیستم‌های تصویربرداری دقیق

3. فلورید کلسیم (CaF₂)

• محدوده کاری: 180 نانومتر تا 8 میکرومتر

• ویژگی‌های کلیدی:

  • ضریب شکست پایین (1.39 در 5μm)

  • آستانه تحمل لیزر بالا (>5J/cm²)

• کاربردها: پنجره و لنز در طیف‌سنج‌ها و سیستم‌های تصویربرداری حرارتی

4. فلورید باریم (BaF₂)

• محدوده عبور: 200 نانومتر تا 11 میکرومتر

• مزایا:

  • مقاومت در برابر تابش‌های پرانرژی

  • خاصیت سینتیلاسیون عالی

• محدودیت:

  • حساسیت به رطوبت (دمای کاری در محیط مرطوب: حداکثر 500°C)

  • دمای کاری در محیط خشک: تا 800°C

5. فلورید منیزیم (MgF₂)

• محدوده کاری: 200 نانومتر تا 6 میکرومتر

• مشخصات فنی:

  • سختی: 415 kg/mm²

  • ضریب شکست: 1.38

  • مقاومت شیمیایی و حرارتی عالی

6. سلنید روی (ZnSe)

• محدوده عبور: 600 نانومتر تا 16 میکرومتر

• نکات کاربردی:

  • سختی پایین (120 kg/mm²) – نیاز به مراقبت ویژه

  • مناسب برای لیزرهای CO₂ پرتوان

  • روش نگهداری خاص: استفاده از دستکش و پرهیز از تماس با ابزار فلزی

7. سیلیکون (Si)

• محدوده کاری بهینه: 1.2-8 میکرومتر

• ویژگی‌های ممتاز:

  • چگالی پایین (2.33 g/cm³)

  • سختی بالا (1150 kg/mm²)

• محدودیت: جذب شدید در 9 میکرومتر

8. ژرمانیوم (Ge)

• محدوده کاری: 2-16 میکرومتر

• پارامترهای فنی:

  • ضریب شکست بالا (4.0 در 10μm)

  • چگالی: 5.33 g/cm³

  • دمای کاری حداکثر: 100°C

• کاربردهای ویژه: سیستم‌های تصویربرداری حرارتی و لیزرهای فروسرخ

9. ZnS تولید شده به روش CVD

• محدوده کاری منحصر به فرد: مرئی تا فروسرخ موج بلند (LWIR)

• ویژگی‌های استثنایی:

  • پوشش کامل طیفی

  • مناسب برای پنجره‌های “سه اپتیکی”

  • کاربرد در سیستم‌های تصویربرداری حرارتی با وضوح بالا

تمامی مواد با دقت و مطابق با استانداردهای بین‌المللی تولید و عرضه می‌گردند. انتخاب ماده مناسب بستگی به پارامترهای طراحی اپتیکی، شرایط محیطی و محدوده طیفی مورد نیاز دارد