استفاده از SU-8 و PDMS در Soft photolithography برای ساخت تراشه های میکروفلوئیدیک :
در تکنولوژی، Soft photolithograph به دسته ای از تکنیک ها برای ساخت یا جایگزینی ساختار ها با استفاده از استامپ های الاستومریک، قالب ها و ماسک های نوری تطابق پذیر گفته می شود. به این دلیل به آن soft گفته می شود که از مواد الاستومریک نظیر PDMS استفاده می گردد. Soft photolithography در واقع مکمل photolithography استاندارد است که اساسا در ان از فوتو رزیست در فرآیندهای ساخت استفاده می شود. وقتی صحبت از فوتو رزیست یا رزیست میکنیم منظورمان موادی هستند که به نور حساس هستند. اساسا فوتو رزیست ها مخلوطی از ترکیبات آلی هستند که به وسیله یک محلول نگه داری می شوند. فوتو رزیست ها می توانند مثبت یا منفی باشند. اصولا هدف فتو لیتوگرافی انتقال یه الگوی هتدسی مشخص از یک ماسک نوری به یک ماده حساس به نور مانند SU_8 می باشد.PDMS متداول ترین ماده برای کاربرد های Soft lithography است به این دلیل که از تطابق پذیری زیستی بالا، سمیت کم، خنثی بودن شیمیایی به علاوه انعطاف پذیری مکانیکی برخوردار است.ساخت یک چیپ میکروفلوئیدیک بر پایه PDMS با استفاده از Soft lithography را می توان به مراحل زیر تقسیم بندی کرد (شکل ۱) :
شکل ۱: شمای کلی از مراحل ساخت یک میکروساختار بر پایه PDMS
۱- آماده سازی قالبرایج ترین ماده برای طراحی یه قالب به منظور ساخت چیپ میکروفلوئیدیک SU-8 می باشد. برای اینکه بتوان یه قالب با استفاده از SU-8 ساخت باید مراحل زیر را طی کرد.الف) آماده سازی ویفر: حتی اگر ویفر نو باشد باید آن را برای فوتو رزیست آماده کرد. اگر در clean room هستیم باید ان را با محلول H2SO4+H2O2 تمیز کرد در غیر این صورت از استون برای تمیز کردن استفاده می کنیم. برای اینکه مطمئن شویم که رطوبتی بر روی سطح آن باقی نمانده است میتوان آن را به مدت ۱۵ دقیقه در دمای ۱۲۰ درجه قرار داد، در ضمن پلاسمای هوا یا اکسیژن نیز باعث بهتر پخش شدن Su-8 بر روی ویفر خواهد شد.












کپی برداری از سایت با ذکر منبع(۳etop.ir) بلا مانع است.