تارگت اکسید مس (CuO Target)

تامین تارگت اکسید مس (CuO Target) در اشکال و ابعاد مختلف

1. ضخامت ۳ میلیمتر
2. قطر ۲ اینچ
3. خلوص ۹۹.۹۹%

به همراه Cu Back plate + indium Bonded

برای ایجاد اتصال الکتریکی مناسب بین منبع تغذیه با تارگت و همچنین خنک سازی تارگت اسپاترینگ از فلزاتی مانند مس استفاده می شود که به آن Back Plate میگویند و برای اینکه خود تارگت به صفحه مسی خوب اتصال داشته باشد، تارگت و صفحه مسی را به کمک فلز ایندیوم به یکدیگر می چسبانند.

تارگت اکسید مس CuO: کلید ساخت لایه‌های نازک در صنعت الکترونیک

تارگت‌های اکسید مس (CuO) جزء جدایی‌ناپذیر فرآیند رسوب لایه‌های نازک هستند.

این تارگت‌ها از اکسید مس با خلوص بالا ساخته شده و در اشکال و اندازه‌های مختلف در دسترس‌اند.

کاربرد اصلی آن‌ها در صنعت نیمه‌رسانا و تولید طیف وسیعی از قطعات الکترونیکی مانند ترانزیستورها، سلول‌های خورشیدی، مدارهای مجتمع و موارد دیگر است.

فرآیند پاشش مغناطیسی (اسپاترینگ) با تارگت CuO:

در این فرآیند، یون‌های پر انرژی به تارگت CuO برخورد می‌کنند و اتم‌های سطحی آن را جدا می‌سازند.

این اتم‌ها به سمت سطح زیرلایه (سبستر) حرکت کرده و با تراکم یافتن، لایه نازکی را تشکیل می‌دهند.

مزیت اصلی اسپاترینگ، امکان تولید لایه‌های نازک با ضخامت یکنواخت، کیفیت بالا و چسبندگی فوق‌العاده به زیرلایه است.

تنوع و ویژگی‌های تارگت‌های CuO:

• اشکال مختلف: این تارگت‌ها به صورت دایره‌ای، مستطیلی و اشکال سفارشی قابل سفارش هستند.
• اندازه و ضخامت متنوع: برای سازگاری با نیازهای خاص هر کاربرد، تارگت‌های CuO در اندازه‌ها و ضخامت‌های مختلف تولید می‌شوند.
• خلوص بالا: خلوص بالای این تارگت‌ها تضمین‌کننده‌ی کیفیت مکانیکی، الکتریکی و حرارتی عالی در لایه‌های نازک رسوب‌دهی شده است.
• سازگاری بالا: تارگت‌های اکسید مس با انواع سیستم‌های اسپاترینگ شامل DC، RF و مگنترون سازگارند.
• سهولت نصب و طول عمر بالا: نصب آسان و طول عمر زیاد این تارگت‌ها، آن‌ها را به گزینه‌ای مقرون‌به‌صرفه و اقتصادی تبدیل کرده است.

کاربردهای گسترده‌ی تارگت‌های CuO:

• صنعت نیمه‌رسانا: تولید ترانزیستورها، دیودها و سایر اجزای نیمه‌رسانا
• صنعت انرژی خورشیدی: ساخت سلول‌های خورشیدی
• صنعت الکترونیک: تولید مدارهای مجتمع و دیگر قطعات الکترونیکی
• پوشش‌های رسانا و ضد انعکاس: کاربرد در لنزها و آینه‌ها
• پژوهش‌های علمی: تحقیقات نانوتکنولوژی و مواد پیشرفته

فروشگاه ستاپ: تامین‌کننده‌ی پیشرو تارگت‌های اسپاترینگ باکیفیت

فروشگاه ستاپ با تکیه بر تخصص و تجربه خود، طیف وسیعی از تارگت‌های اکسید مس CuO با خلوص بالا را در اشکال و ابعاد مختلف به مشتریان ارائه می‌دهد. ما با استفاده از مواد اولیه مرغوب و تجهیزات پیشرفته، تارگت‌هایی با کیفیت و عملکرد بالا تولید می‌کنیم که نیازهای صنایع گوناگون را برآورده می‌سازند.

مزایای انتخاب فروشگاه ستاپ برایخرید انواع تارگت اسپاترینگ:

• کیفیت تضمین‌شده: ما از مواد اولیه مرغوب و تجهیزات پیشرفته برای تولید تارگت‌هایی با کیفیت بالا و عملکرد عالی استفاده می‌کنیم.
• تنوع بی‌نظیر: طیف وسیعی از تارگت‌های CuO با خلوص بالا در اشکال و ابعاد مختلف برای برآوردن نیازهای خاص شما ارائه می‌دهیم.
• قیمت‌های رقابتی: ما قیمت‌های منصفانه‌ای را برای تارگت‌های CuO خود در نظر گرفته‌ایم.
• خدمات مشتری کارآمد: ما به خدمات مشتری خود اهمیت می‌دهیم و همواره برای پاسخ به سوالات و کمک به انتخاب تارگت مناسب در کنار شما هستیم.

Copper Oxide (CuO) sputtering targets are an essential component used in the thin film deposition process. They are made with high purity copper oxide material and are available in different shapes and sizes. The CuO sputtering targets are commonly used in the semiconductor industry for the fabrication of various electronic devices such as transistors, solar cells, integrated circuits, and many more.

The sputtering process involves bombarding the CuO target with high-energy ions, which knock off the atoms present at the surface of the target. These atoms then travel to the substrate, where they condense and form a thin film layer. The sputtering process is highly useful due to its ability to produce a uniform, high-quality thin film with excellent adhesion to the substrate.

CuO sputtering targets are available in different shapes such as circular, rectangular, and custom-designed shapes. They are also available in various sizes and thicknesses to suit the specific needs of different applications. The high purity of CuO sputtering targets ensures that the thin films deposited have excellent mechanical, electrical, and thermal properties.

The CuO sputtering targets are compatible with various sputtering systems, including DC, RF, and magnetron sputtering. They are also easy to install and have a long working life, which makes them highly economical and cost-effective. In summary, the CuO sputtering targets are an essential component that plays a crucial role in the fabrication of various electronic devices used in modern-day technology.