ویفر اکسید سیلیکونی ۴ اینچی
3.700.000 ریالویژگی ها:
قطر ویفر: ۴ اینچ
ضخامت اکسید: ۳۰۰ نانومتر
نوع سیلیکون اکسید شده: P-type ( Boron Doped)
روش رشد: CZ
جهت گیری صفحات سیلیکون: > <100
ویفر سیلیکونی نوع P
2.200.000 ریال – 4.400.000 ریالساخت چین
یک طرف صیقلی SSP
ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمهرسانا مانند بلور سیلیکون میگویند که درصد خلوص آن بسیار بالا است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ساخت مدارهای الکتریکی و چیپ است.