ویفر سیلیکونی ۳ اینچی
p-type
dummy Grade
جهت ثبت درخواست خرید ( ویفر سیلیکونی ) بر روی لینک زیر کلیک نمایید.
ویفر تک کریستال لیتیوم نایوبیت (LiNbO3 Single crystal Wafer)
این ویفر در نسل جدید طول موجها و عناصر شکست استفاده میشود و با توجه به خواص زیادی که دارد استفادههای زیادی از آن میشود از جمله: الکترواپتیک و ضرایب اپتیک، ضرایب الکترومکانیکی و شیمیایی بالا و همچنین پایداری مکانیکی خوب.
ویفر اکسید سیلیکون
180.000 ریال – 360.000 ریالویفر اکسید سیلیکون
ضخامت اکسید ۳۰۰ نانومتر۱cm*1cm
به دوصورت شستشو شده (بدون لکه و کثیفی ) و شستشو نشده توسط ۳etop ارائه می گردد.
ویفر سیلیکونی نوع P
2.200.000 ریال – 4.400.000 ریالساخت چین
یک طرف صیقلی SSP
ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمهرسانا مانند بلور سیلیکون میگویند که درصد خلوص آن بسیار بالا است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ساخت مدارهای الکتریکی و چیپ است.
ویفر اکسید سیلیکونی ۴ اینچی
3.700.000 ریالویژگی ها:
قطر ویفر: ۴ اینچ
ضخامت اکسید: ۳۰۰ نانومتر
نوع سیلیکون اکسید شده: P-type ( Boron Doped)
روش رشد: CZ
جهت گیری صفحات سیلیکون: > <100
گرافن بر روی سیلیکون اکساید
4.750.000 ریالگرافن بر روی سیلیکون اکساید
ساخت شرکت گرافنا
ضخامت ویفر سیلیکونی ۵۰۰ میکرومتر
ضخامت اکسید ۳۰۰ نانومتر
ابعاد: ۱ سانتی متر در ۱ سانتی متر
یک لایه گرافن که به روش CVD سنتز شده بر روی آن انتقال داده شده است.
” این بسته شامل ۴ عدد گرافن بر روی سیلیکون اکساید می باشد که هر عدد به صورت جداگانه با قیمت فوق به فروش می رسد.”
انواع ویفر سیلیکونی
ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمهرسانا مانند بلور سیلیکون میگویند که درصد خلوص آن بسیار بالا و نزدیک به ۱۰ درصد است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ساخت مدارهای الکتریکی و چیپ است.
سیلیکون مادهای است از جنس کربن که بعد از اکسیژن، دومین عنصر از نظر میزان فراوانی در زمین است و به طور طبیعی قابل ترکیب نیست. سیلیکون به صورت ترکیب شده با اکسیژن در شن و اغلب سنگها وجود دارد که سیلیکا (دراکسید سیلیسیوم) نام دارد. اگر سیلیکون با عناصری دیگری مثل آهن، آلومینیوم یا پتاسیم ترکیب شود، سیلیکات ایجاد میشود. ترکیبات سیلیکونی در اتمسفر، آبهای معدنی، بسیاری گیاهان و بدن برخی حیوانات وجود دارد.
سیلیکون ماده اصلی در ساخت چیپهای کامپیوتری، ترانزیستورها، دیودهای سیلیکونی، دیگر مدارهای الکترونیکی و دستگاههای سوئیچینگ است چرا که ساختار اتمی آن، این عنصر را برای نیمهرسانا، ایدهآل میکند. سیلیکون برای اینکه ویژگیهای رسانا بودن خود را تغییر دهد معمولا با عناصری مثل بورون، فسفر و آرسنیک ترکیب میشود.
اولین بار در سال ۱۸۲۴، شیمیدان سوئدی به نام جکاب برزلیوس، سیلیکون را به عنوان یک عنصر معرفی کرد.