کریستال‌های تک‌بلور فلورید منیزیم

توضیحات

کریستال‌های تک‌بلور فلورید منیزیم (MgF₂)

ویژگی‌های ساختاری و نوری:

فلورید منیزیم با ساختار بلوری تتراگونال (گروه فضایی P4₂/mnm) دارای خواص اپتیکی و ترمو-مکانیکی استثنایی می‌باشد. این ماده با محدوده عبور نور گسترده ۱۲۰ تا ۷۵۰۰ نانومتر، به‌ویژه در محدوده فرابنفش عمیق (Deep UV) عملکرد ممتازی از خود نشان می‌دهد.

کاربردهای اصلی:

• پنجره‌های فرابنفش

• لنزهای اپتیکی

• منشورهای طیف‌سنجی

• اجزای سیستم‌های لیزری

مزایای کلیدی:
۱. مقاومت شیمیایی بالا:

• مقاوم در برابر اسیدها و بازهای قوی

• پایداری در محیط‌های خورنده

۲. استحکام مکانیکی:

• مقاومت در برابر شوک‌های مکانیکی

• سختی موس: ۶ (۴۱۵ kg/mm²)

۳. پایداری حرارتی:

• ضریب انبساط حرارتی پایین (۱۳.۷×۱۰⁻⁶/°C)

• مقاومت تا دمای ۱۰۰۰°C

۴. مقاومت در برابر لیزر:

• آستانه آسیب لیزر بالا (۵ J/cm² در ۲۴۸ nm)

توانایی‌های تولیدی شرکت:
ما قادر به تأمین انواع محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید منیزیم تک‌بلور در اشکال مختلف هستیم:

انواع اشکال قابل تولید:

• گرد (قطر تا ۱۵۰mm)

• مستطیلی (ابعاد تا ۲۰۰×۲۰۰mm)

• سوراخ‌دار (دقت ±۵μm)

• پنجره‌ای (پرداخت سطح λ/۴)

• لنزی (انحنای سطح با دقت ۰.۱μm)

• گالوانومتری (پرداخت سطح ویژه)

• اشکال خاص (مطابق طراحی مشتری)

ویژگی‌های کیفی محصولات:

• جهت‌گیری کریستالی دقیق (<110> ±0.1°)

• عبور نور >95% در محدوده UV-VIS

• تنش باقیمانده <5nm/cm

• پرداخت سطح با دقت نانومتری (زبری سطح <10Å)

تمامی محصولات مطابق با استانداردهای MIL-PRF-13830 و ISO 10110 تولید و تحت کنترل کیفی دقیق قرار می‌گیرند. این کریستال‌ها برای کاربردهای حساس در صنایع هوافضا، لیزرهای پرتوان و سیستم‌های تصویربرداری پیشرفته مناسب می‌باشند

 

 

• معرفی محصولات

کریستال تک‌بلور فلورید منیزیم (MgF₂) برای کاربردهای فرابنفش

ویژگی‌های فنی و نوری:

فلورید منیزیم با ساختار بلوری تتراگونال (سیستم بلوری P4₂/mnm) دارای خواص اپتیکی و مکانیکی استثنایی است. این ماده با محدوده عبور نور گسترده ۱۲۰ تا ۷۵۰۰ نانومتر، به ویژه در محدوده فرابنفش عمیق (Deep UV) عملکرد ممتازی از خود نشان می‌دهد.

مشخصات کلیدی:

• ضریب شکست: ۱.۳۸ در ۵۸۷.۶ نانومتر

• ضریب انبساط حرارتی: ۱۳.۷×۱۰⁻⁶/°C (۲۰-۱۰۰°C)

• هدایت حرارتی: ۱۴.۶ W/m·K در ۲۵°C

• آستانه آسیب لیزر: >۵ J/cm² در ۲۴۸ نانومتر

کاربردهای اصلی:
۱. اجزای اپتیکی فرابنفش:

• پنجره‌های طیف‌سنجی VUV

• لنزهای سیستم‌های لیتوگرافی

• منشورهای دستگاه‌های طیف‌سنجی

۲. کاربردهای ویژه:

• اپتیک لیزرهای اگزایمر (ArF، KrF)

• سیستم‌های تصویربرداری فضایی

• تجهیزات علمی پیشرفته

توانایی‌های تولیدی شرکت:
ما قادر به تأمین انواع محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید منیزیم تک‌بلور UV در ابعاد و اشکال مختلف هستیم:

محصولات قابل ارائه:

• شمش‌های خام با کیفیت اپتیکی عالی

• قطعات پردازش شده آماده استفاده

• محصولات سفارشی با ابعاد دقیق

ویژگی‌های کیفی:

• جهت‌گیری کریستالی دقیق (<110> ±۰.۱°)

• کیفیت سطحی λ/۸ (تداخل سنجی)

• عبور نور >۹۵٪ در ۲۰۰ نانومتر

• پرداخت سطح با دقت نانومتری (زبری <۱nm)

تمامی محصولات مطابق با استانداردهای ISO 10110 و MIL-PRF-13830 تولید شده و تحت کنترل کیفی چندمرحله‌ای قرار می‌گیرند. این کریستال‌ها برای کاربردهای حساس در صنایع دفاعی، هوافضا و تحقیقات علمی کاملاً مناسب می‌باشند

 

محصولات کریستال تک‌بلور فلورید منیزیم (MgF₂)

توانایی‌های تولیدی شرکت:

شرکت ما قادر به تولید و تأمین گسترده‌ترین طیف محصولات نیمه‌ساخته و نهایی از جنس فلورید منیزیم تک‌بلور با بالاترین استانداردهای کیفی می‌باشد.

انواع محصولات نیمه‌ساخته (بلنک‌ها):

۱. اشکال استاندارد:

• گرد (قطر ۵-۱۵۰ میلی‌متر با تلرانس ±۰.۰۱mm)

• مستطیلی (ابعاد تا ۲۰۰×۲۰۰mm با زوایای ۹۰±۰.۱°)

• سوراخ‌دار (دقت موقعیت‌یابی ±۲μm)

۲. اشکال تخصصی:

• پنجره‌ای (ضخامت ۱-۲۰mm با پرداخت λ/۴)

• لنزی (انحناهای کروی/غیرکروی با دقت ۰.۱μm)

• گالوانومتری (پرداخت سطح ویژه با Ra<۰.۵nm)

• اشکال خاص (مطابق نقشه فنی مشتری)

محصولات نهایی:

• اجزای اپتیکی مونتاژ شده

• سیستم‌های اپتیکی کامل

• مجموعه‌های سفارشی

مشخصات فنی:

• جهت‌گیری کریستالی: <۱۱۰> ±۰.۰۵°

• کیفیت اپتیکی: تداخل سنجی ≤λ/۸

• عبور نور: >۹۵% در ۲۰۰nm

• تنش باقیمانده: ≤۳nm/cm

• پرداخت سطح: زبری ≤۰.۸nm (AFM)

استانداردهای کیفیت:

• MIL-PRF-13830 Class A

• ISO 10110-3 Grade 2

• DIN 3140 Teil 7

ملاحظات فنی:

• کلیه محصولات تحت آزمون‌های QC شامل:

  • طیف‌سنجی UV-VIS-NIR

  • آنالیز تداخل سنجی

  • آزمون مقاومت لیزر

  • بررسی تنش باقیمانده
    قبل از تحویل قرار می‌گیرند.

• امکان ارائه محصولات با پوشش‌های ضدبازتاب (AR) برای محدوده ۱۲۰-۷۰۰۰nm وجود دارد.

این محصولات برای کاربردهای پیشرفته در صنایع هوافضا، لیزرهای پرتوان و سیستم‌های تصویربرداری حرارتی مناسب می‌باشند

 

ویژگی‌های ممتاز فلورید منیزیم (MgF₂) به عنوان ماده اپتیکی مقاوم

خواص مکانیکی و فیزیکی:

۱. مقاومت استثنایی:

• مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی (پایداری در pH 2-12)

• تحمل آسیب‌های لیزر (LIDT تا 10 J/cm² در 355 نانومتر)

• مقاومت در برابر شوک مکانیکی (استحکام خمشی 90 MPa)

• پایداری حرارتی (دمای کاری تا 1000°C در محیط خشک)

۲. سختی مقایسه‌ای:

• سختی موس: 6 (415 kg/mm² در مقیاس نوپ)

• 30% سخت‌تر از فلورید کلسیم (CaF₂)

• 40% نرم‌تر از سیلیکای ذوب شده

۳. ویژگی‌های هیدرولیز:

• میزان هیدرولیز جزئی (0.01% در رطوبت 50% پس از 1000 ساعت)

• نیاز به محیط کنترل‌شده برای کاربردهای طولانی‌مدت

پارامترهای اپتیکی کلیدی:

• ضریب شکست: 1.38 در 587.6 نانومتر

• پراکندگی: 0.008 در محدوده 300-1500 نانومتر

• جذب سطحی: <0.1% در 200 نانومتر

ملاحظات کاربردی:

• مناسب برای کاربردهای فضایی و محیط‌های خورنده

• گزینه ایده‌آل برای پنجره‌های لیزرهای پرتوان

• نیاز به پرداخت سطح ویژه برای کاهش اثر هیدرولیز

• عمر کاری طولانی در شرایط محیطی کنترل‌شده

این ترکیب منحصر به فرد از خواص، فلورید منیزیم را به ماده‌ای بی‌نظیر برای کاربردهای اپتیکی پیشرفته تبدیل کرده است.

 

پوشش‌های اپتیکی و کاربردهای تخصصی

تعریف فنی پوشش‌دهی:

پوشش‌دهی اپتیکی فرآیند اعمال لایه‌های نازک (Thin Film) از مواد دی‌الکتریک یا فلزی بر روی زیرلایه‌های اپتیکی با استفاده از روش‌های پیشرفته فیزیکی (PVD) یا شیمیایی (CVD) است. این فرآیند با دقت نانومتری (۰.۱-۵ نانومتر) انجام می‌شود.

اهداف اصلی پوشش‌دهی:

• تنظیم ضریب بازتاب سطح از ۰.۱% تا ۹۹.۹%

• کنترل دقیق ضریب عبور نور (ΔT<۰.۵%)

• ایجاد خاصیت تفکیک پرتو با دقت ±۱%

• فیلتراسیون طیفی انتخابی (Transition Width<۱۰nm)

• ایجاد پلاریزاسیون خطی/دایروی (Extinction Ratio>۱۰۰۰:۱)

انواع پوشش‌های تخصصی:

۱. پوشش‌های ضد بازتاب (AR):

• محدوده UV (۱۸۵-۴۰۰nm): T>۹۸%, ΔT<۰.۳%

• محدوده مرئی (۴۰۰-۷۰۰nm): T>۹۹.۵%, ΔT<۰.۲%

• محدوده NIR (۷۰۰-۲۰۰۰nm): T>۹۹%, ΔT<۰.۳%

• محدوده MWIR (۳-۵μm): T>۹۷%, ΔT<۰.۵%

۲. پوشش‌های بازتاب بالا (HR):

• بازتاب >۹۹.۹% در طول موج طراحی

• پایداری حرارتی تا ۵۰۰°C

• مقاومت لیزر (LIDT تا ۱۵J/cm²)

۳. پوشش‌های طیفی:

• تفکیک طول موج با دقت ۰.۵nm

• شیب قطع تند (<۵nm)

۴. پوشش‌های فلزی:

• Al/Ag/Au با لایه محافظ

• مقاوم در برابر اکسیداسیون

• پایداری محیطی (MIL-C-675C)

ویژگی‌های فنی:

• کنترل ضخامت با دقت ±۰.۲nm

• یکنواختی لایه‌ها: ±۰.۵%

• چسبندگی عالی (کلاس ۵A)

• مقاومت سایشی (MIL-C-48497A)

تمامی پوشش‌ها با سیستم‌های IBS و E-beam evaporation تولید شده و تحت کنترل کیفی دقیق قرار می‌گیرند. این محصولات برای کاربردهای حساس اپتیکی در صنایع دفاعی، فضایی و تحقیقاتی مناسب هستند

 

 

• اطلاعات فنی

ویژگی‌های فنی کریستال‌های درجه UV و DUV

۱. مشخصات فنی درجه UV:

ابعاد نمونه:

• ابعاد معمول:

  • φ40mm×100mm

  • φ70mm×100mm

  • φ100mm×100mm

• حداکثر اندازه: φ200mm×50mm

مشخصات اپتیکی:

• محدوده طول موج: 280nm تا 6μm

• ساختار بلوری: تک‌بلور، نیمه‌بلور، چندبلور

• عبور نور: >92% در محدوده 280nm-6μm (نمونه 10mm)

• عبور داخلی: >99% در 280nm (نمونه 10mm)

• تنش دو شکستی: 10-20nm/cm@633nm

  • (تنش <10nm/cm فقط با روش رشد CZ قابل دستیابی است)

• یکنواختی اپتیکی: 3-20ppm@633nm

آزمون کیفی:

• آزمون نور سبز 25mW:

  • عدم وجود ستون نور مرئی

  • عاری از حباب و ذرات پراکنده

۲. مشخصات فنی درجه DUV:

ابعاد نمونه:

• ابعاد معمول و حداکثر اندازه مشابه درجه UV

مشخصات اپتیکی:

• محدوده طول موج گسترده‌تر: 120nm تا 6μm

• عبور نور:

  • 60% در 121nm

  • 85% در 160nm

  • 90% در 200nm (نمونه 10mm)

• عبور داخلی: >99% در 200nm (نمونه 10mm)

• تنش دو شکستی: <10nm/cm@633nm (فقط با روش CZ)

• یکنواختی اپتیکی: 3-10ppm@633nm

آزمون کیفی:

• آزمون نور سبز 25-125mW با شرایط مشابه

نکات فنی کلیدی:

1. روش رشد CZ برای دستیابی به کمترین تنش داخلی ضروری است

2. یکنواختی اپتیکی بالا (PV 3ppm) برای کاربردهای حساس

3. کیفیت سطحی λ/4 با پرداخت نهایی

4. مناسب برای کاربردهای:

   • سیستم‌های لیتوگرافی پیشرفته

   • طیف‌سنجی فرابنفش عمیق

   • اپتیک لیزرهای اگزایمر

تمامی محصولات مطابق با استانداردهای MIL-PRF-13830 و ISO 10110 تولید و کنترل کیفی می‌شوند

آزمون عبور نور (Transmittance Test) – کریستال فلورید منیزیم (MgF₂)

تجهیزات آزمایشگاهی:

• طیف‌سنج فرابنفش-مرئی (UV-Vis Spectrophotometer)

  • دقت اندازه‌گیری: ±۰.۳٪

  • محدوده طیفی: ۱۹۰-۱۱۰۰ نانومتر و ۲.۵-۱۲ میکرومتر

  • تفکیک‌پذیری: ۰.۵ نانومتر

مشخصات نمونه‌های آزمایشی:

• جنس: فلورید منیزیم تک‌بلور (MgF₂)

• ابعاد:

  • قطر: ۲۰-۵۰ میلی‌متر (تلرانس ±۰.۰۵ میلی‌متر)

  • ضخامت: ۱۰±۰.۵ میلی‌متر

• پرداخت سطح:

  • کیفیت ۸۰/۵۰ مطابق MIL-PRF-13830

  • زبری سطح: ≤۵۰ آنگستروم (Å)

شرایط آزمون:

• محدوده طول موج:

  • UV-Vis-NIR: ۱۹۰-۱۱۰۰ نانومتر

  • مادون قرمز میانی (MIR): ۲.۵-۱۲ میکرومتر

• دمای محیط: ۲۳±۱°C

• رطوبت نسبی: ۴۵±۳٪

الزامات کیفی عبور نور:

• حداقل عبور نور قابل قبول:

  • T > ۹۲٪ در ۲۸۰ نانومتر (برای نمونه ۱۰ میلی‌متری)

• پراکندگی نور مجاز: ≤۱.۵٪

• جذب سطحی: ≤۰.۳٪ در ۲۸۰ نانومتر

روش اجرای آزمون:

۱. آماده‌سازی نمونه‌ها مطابق استاندارد ISO 10110-3
۲. کالیبراسیون دستگاه با نمونه استاندارد
۳. اندازه‌گیری در سه نقطه مختلف نمونه
۴. تکرار آزمون برای سه نمونه مشابه
۵. محاسبه میانگین نتایج

گزارش‌دهی:

• ارائه نمودار عبور نور در محدوده‌های مشخص شده

• ذکر شرایط محیطی آزمون

• درج گواهی کالیبراسیون دستگاه

ملاحظات:

• نمونه‌ها قبل از آزمون به مدت ۲۴ ساعت در محیط کنترل‌شده قرار می‌گیرند

• آزمون تحت شرایط کنترل کیفی دقیق انجام می‌شود

• نتایج با دقت ۰.۱٪ گزارش می‌شوند

 

ویژگی‌های کریستال تک‌بلور (Monocrystalline)

معیارهای ارزیابی بصری:

۱. یکنواختی ساختاری:

• سطح نمونه در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰۰۰۰-۲۵۰۰۰ لوکس) باید کاملاً همگن و عاری از هرگونه مرزدانه (Grain Boundaries) قابل مشاهده باشد

• عدم وجود هرگونه ناهنجاری خطی (Wicker-like Stripes) با طول بیش از ۰.۵ میلی‌متر

۲. کیفیت سطحی:

• فاقد هرگونه نقاط کدر یا نواحی غیرهمگن

• پرداخت سطحی یکنواخت با زبری کمتر از ۵۰ نانومتر

شرایط آزمون استاندارد:

• منبع نور: نور روز طبیعی (دمای رنگ ۵۵۰۰±۵۰۰ کلوین)

• زاویه مشاهده: ۴۵±۵ درجه نسبت به سطح نمونه

• فاصله بررسی: ۳۰±۲ سانتیمتر

• زمان مشاهده: ۱۵±۵ ثانیه

• بزرگنمایی: مشاهده با چشم غیرمسلح (بدون ابزار اپتیکی)

الزامات کیفی:

• انطباق کامل با استاندارد ASTM F1724 (بخش ۷.۳ – روش‌های بازرسی بصری)

• مطابقت با مشخصات SEMI MF1723 (پاراگراف ۵.۲ – یکنواختی ساختاری)

اهمیت فنی:

• نشانگر کیفیت بالای فرآیند رشد بلور (نرخ رشد کنترل شده ۱-۲ میلی‌متر/دقیقه)

• تضمین‌کننده همسان‌گردی خواص فیزیکی و اپتیکی

• پیش‌نیاز اساسی برای کاربردهای:

  • اپتیک لیزرهای پرتوان

  • سیستم‌های تصویربرداری فضایی

  • المان‌های اپتیکی دقیق

تذکر: بررسی نهایی باید با میکروسکوپ نوری دیجیتال (بزرگنمایی ۱۰۰X، روش نورپردازی Köhler) تکمیل شود تا از عدم وجود عیوب میکروسکوپی اطمینان حاصل گردد

 

ویژگی‌های کریستال نیمه‌بلور (Sub-crystal)

معیارهای ارزیابی بصری:

۱. ناهنجاری‌های سطحی:

• در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰,۰۰۰-۲۵,۰۰۰ لوکس)، نوارهای بیدگونه (Willow Stripes) با مشخصات زیر قابل مشاهده هستند:

  • عرض: ۰.۱-۰.۳ میلی‌متر

  • طول: ۲-۸ میلی‌متر

  • تراکم سطحی: ≤۳ نوار در سانتیمتر مربع

• مساحت کل ناهنجاری‌ها کمتر از ۱۶.۶٪ سطح مقطع (مطابق نسبت ۱/۶ قطر انتهایی)

۲. پس از پرداخت نهایی:

• زبری سطح ≤۲۰ نانومتر (مطابق ISO 10110-5)

• عدم مشاهده ناهنجاری‌های خطی با چشم غیرمسلح

• یکنواختی سطحی (PV ≤ λ/۲ @ ۶۳۳nm)

شرایط آزمون استاندارد:

• نورپردازی: نور روز غیرمستقیم (پخش شده)

• زاویه مشاهده: ۳۰-۶۰ درجه

• فاصله بررسی: ۲۵-۴۰ سانتیمتر

• زمان مشاهده: ۱۰-۲۰ ثانیه

• رطوبت محیطی: ۴۵±۵٪

ملاحظات فنی:

• این ناهنجاری‌ها ناشی از تنش‌های حرارتی در فرآیند رشد بلور (نرخ خنک‌سازی ۵-۱۰°C/ساعت) می‌باشند

• تأثیر ناچیز بر خواص اپتیکی پایه (Δn ≤ ۰.۰۵٪)

• مناسب برای کاربردهای صنعتی با تلرانس متوسط

تذکر: بررسی نهایی باید با میکروسکوپ دیجیتال (بزرگنمایی ۵۰X، رزولوشن ۱μm) تأیید گردد. این ساختار برای کاربردهای غیرحساس اپتیکی قابل استفاده است

 

ویژگی‌های کریستال چندبلور (Polycrystalline)

معیارهای ارزیابی بصری:

۱. ساختار مرزدانه‌ای:

• در نور طبیعی روز (شدت نور ۱۰,۰۰۰-۲۵,۰۰۰ لوکس)، خطوط مرزدانه (Crystal Boundary Lines) با مشخصات زیر به وضوح قابل مشاهده هستند:

  • عرض مرزدانه: ۰.۰۵-۰.۲ میلی‌متر

  • عمق نفوذ: کاملاً در حجم نمونه گسترده شده

  • الگوی شبکه‌ای سه‌بعدی

• تفاوت کنتراست نوری بین دو طرف مرزدانه‌ها:

  • نسبت بازتاب: ۱.۵:۱ تا ۳:۱

  • زاویه وابستگی بازتاب: ۱۵-۳۰ درجه

۲. ویژگی‌های میکروسکوپی:

• اندازه دانه: ۵۰-۵۰۰ میکرومتر

• زاویه انحراف بلوری بین دانه‌ها: ۲-۱۵ درجه

• ناهمسانگردی اپتیکی و مکانیکی

شرایط آزمون استاندارد:

• منبع نور: نور روز مستقیم (۵۵۰۰±۵۰۰ کلوین)

• زاویه مشاهده: ۴۵±۵ درجه

• فاصله بررسی: ۳۰±۲ سانتیمتر

• زمان مشاهده: ۱۵±۵ ثانیه

• دمای محیط: ۲۳±۲°C

ملاحظات فنی و کاربردها:

• مناسب برای مصارف صنعتی با تلرانس اپتیکی متوسط

• کاربرد در محیط‌های با تنش حرارتی یکنواخت

• مقرون‌به‌صرفه برای تولید انبوه

• عدم مناسب بودن برای کاربردهای اپتیکی حساس

نکته: برای بررسی کمی دقیق‌تر، استفاده از میکروسکوپ پلاریزان (۱۰۰X) و آنالیز EBSD توصیه می‌شود. این ساختار معمولاً در کاربردهای غیرحساس اپتیکی و محیط‌های با شرایط عملیاتی متوسط مورد استفاده قرار می‌گیرد

 

●

مواد اپتیکی پیشرفته و کاربردهای تخصصی آنها

۱. شیشه اپتیکی N-BK7

شیشه بوروسیلیکاتی N-BK7 پرکاربردترین ماده اپتیکی با مشخصات زیر است:

• محدوده عبور نور: ۳۵۰-۲۰۰۰ نانومتر

• ضریب شکست: ۱.۵۱۶۸ در ۵۸۷.۶ نانومتر

• عدد آب: ۵۵

• کاربردها: لنزهای تلسکوپی، منشورها، اجزای سیستم‌های لیزری

۲. سیلیکای ذوب شده UV

• محدوده عبور: ۱۸۵-۲۱۰۰ نانومتر

• ضریب انبساط حرارتی: ۰.۵۵×۱۰⁻⁶/°C

• مقاومت در برابر لیزر: ۱۰ J/cm² در ۳۵۵ نانومتر

• کاربرد ویژه: اپتیک لیزرهای اگزایمر

۳. فلورید کلسیم (CaF₂)

• محدوده کاری: ۱۸۰ نانومتر تا ۸ میکرومتر

• ضریب شکست: ۱.۴۳ در ۱ میکرومتر

• آستانه آسیب لیزر: ۵ J/cm² در ۲۴۸ نانومتر

• کاربردها: پنجره طیف‌سنج‌های VUV

۴. فلورید باریم (BaF₂)

• محدوده عبور: ۲۰۰ نانومتر تا ۱۱ میکرومتر

• مقاومت تشعشعی: تا ۱۰⁶ راد

• محدودیت: حساس به رطوبت در دمای بالا (>۵۰۰°C)

۵. فلورید منیزیم (MgF₂)

• سختی موس: ۶ (۴۱۵ kg/mm²)

• ضریب شکست: ۱.۳۸

• مقاومت شیمیایی عالی

• کاربرد: پنجره‌های لیزرهای پرتوان

۶. سلنید روی (ZnSe)

• محدوده عبور: ۶۰۰-۱۶۰۰۰ نانومتر

• سختی: ۱۲۰ kg/mm²

• کاربرد ویژه: لیزرهای CO₂ پرتوان

۷. سیلیکون (Si)

• محدوده کاری: ۱.۲-۸ میکرومتر

• جذب در ۹ میکرومتر: >۹۵٪

• مزیت: چگالی پایین (۲.۳۳ g/cm³)

۸. ژرمانیوم (Ge)

• محدوده کاری: ۲-۱۶ میکرومتر

• ضریب شکست: ۴.۰ در ۱۰ میکرومتر

• محدودیت دمایی: حداکثر ۱۰۰°C

۹. ZnS تولید شده به روش CVD

• محدوده کاری منحصر به فرد: مرئی تا مایکروویو

• عبور در ۱۰ میکرومتر: >۷۰٪

• کاربردهای پیشرفته: سیستم‌های چندطیفی

نکته: انتخاب هر ماده باید بر اساس نیازهای خاص هر کاربرد از نظر محدوده طیفی، شرایط محیطی و الزامات مکانیکی انجام شود