درجه آینه سیلیکونی
توضیحات
فهرست مطالب
Toggleسیلیکون درجه آینهای (Silicon-Mirror Grade)
معرفی محصول:
سیلیکون درجه آینهای به دلیل هدایت حرارتی خوب و چگالی پایین، معمولاً برای ساخت آینههای لیزر مورد استفاده قرار میگیرد.
ما قادر به تأمین انواع مقاطع مختلف سیلیکون درجه آینهای به صورت خام (بلنک) و آماده (فرآوریشده) هستیم. اشکال بلنکها شامل موارد زیر میشود:
-
گرد (Round)
-
مستطیلی (Rectangular)
-
سوراخدار (Drilled)
-
پنجرهای (Windows)
-
عدسی (Lens)
-
گالوانومتر (Galvanometer)
-
اشکال خاص (Shaped)
این محصول در صنایع مختلف، به ویژه در سیستمهای اپتیکی و لیزر، کاربرد گستردهای دارد
- Products Introduction

سیلیکون درجه آینهای (Silicon-Mirror Grade)
سیلیکون درجه آینهای به دلیل هدایت حرارتی بالا و چگالی کم، یکی از مواد پرکاربرد در ساخت آینههای لیزر محسوب میشود.
شرکت ما توانایی تأمین طیف گستردهای از محصولات خام (بلنک) و فرآوریشده از جنس سیلیکون درجه آینهای را در ابعاد و مشخصات فنی مختلف دارا میباشد.
ویژگیهای کلیدی:
-
پایداری حرارتی عالی
-
مقاومت اپتیکی مطلوب
-
قابلیت پرداخت سطح با کیفیت آینهای
این محصولات در کاربردهای حساس اپتیکی و سیستمهای لیزری پیشرفته مورد استفاده قرار میگیرند

شرکت ما قادر به تأمین انواع مقاطع سیلیکون درجه آینهای به صورت خام (بلنک) و فرآوری شده در مشخصات فنی مختلف میباشد.
اشکال قابل ارائه شامل:
• گرد (Round)
• مستطیلی (Rectangular)
• سوراخدار (Drilled)
• پنجرهای (Windows)
• عدسی (Lenses)
• گالوانومتری (Galvanometers)
• اشکال خاص و سفارشی (Special Shaped)
این محصولات با دقت ابعادی بالا و کیفیت سطحی مطلوب برای کاربردهای اپتیکی و لیزری تولید میگردند

سیلیکون با هدایت حرارتی بالا و چگالی کم، مادهای ایدهآل برای ساخت آینههای لیزری محسوب میشود. با این حال، این ماده به دلیل جذب شدید در طول موج ۹ میکرومتر، برای کاربردهای انتقال لیزر CO2 مناسب نمیباشد.
نکات کلیدی:
-
هدایت حرارتی بالا: امکان مدیریت حرارتی عالی در سیستمهای لیزری
-
چگالی پایین: کاهش وزن قطعات نوری
-
محدودیت کاربرد: عدم استفاده در سیستمهای لیزر CO2 به دلیل جذب بالا در محدوده مادون قرمز
این ویژگیها باعث میشود سیلیکون گزینهای ممتاز برای آینههای لیزری در محدودههای طیفی خاص باشد، هرچند در برخی کاربردهای لیزر CO2 نیاز به استفاده از مواد جایگزین احساس میشود

پوششدهی اپتیکی (Optical Coating)
پوششدهی به فرآیند اعمال یک لایه نازک از مواد الکترولیتی شفاف یا فلزی بر روی سطح زیرلایه به روشهای فیزیکی یا شیمیایی اطلاق میشود. هدف از این فرآیند، تغییر ویژگیهای بازتاب و عبور نور از سطح ماده است تا نیازهای مختلف اپتیکی شامل:
-
کاهش یا افزایش بازتاب نور
-
تقسیم پرتو (Beam Splitting)
-
تفکیک رنگی (Color Separation)
-
فیلتراسیون نوری (Light Filtering)
-
قطبش نور (Polarization)
برآورده شود.
انواع پوششهای اپتیکی قابل ارائه:
✔ پوششهای ضد بازتاب (Anti-Reflective Coatings)
✔ پوششهای بازتاب بالا (High-Reflective Coatings)
✔ پوششهای طیفی (Spectral Coatings)
✔ پوششهای فلزی (Metallic Coatings)
پوششهای ضد بازتاب پهنباند برای محدودههای مختلف طیفی شامل:
-
فرابنفش (UV)
-
مرئی (Visible)
-
فروسرخ نزدیک (NIR)
-
فروسرخ میانی (Mid-IR)
طراحی و اجرا میشوند. این پوششها با دقت بالا و کیفیت مطلوب برای کاربردهای اپتیکی پیشرفته تولید میگردند
- Technical lnformation

استانداردهای مواد
● جنس ماده:
سیلیکون تککریستال با ترکیب شیمیایی خالص Si
● درجه خلوص:
-
خلوص ماده اولیه برای رشد کریستال: حداقل 9N (99.9999999%)
-
خلوص مواد دوپینگ: حداقل 5N (99.999%)
● کیفیت کریستالسازی:
میلههای سیلیکون تککریستال باید:
-
فاقد ساختار موزائیکی
-
عاری از مرزدانه
-
بدون کریستالهای دوقلو باشند
● چگالی نابجایی:
حداکثر چگالی نابجایی مجاز: 100 نابجایی بر سانتیمتر مربع (100 dislocations/cm²)
● نوع رسانایی:
انواع رسانایی کریستال سیلیکون:
1- نوع N
2- نوع P
● جهتگیری بلوری:
جهتگیریهای کریستالوگرافی اصلی سیلیکون تککریستال شامل موارد زیر است:
[در اینجا میتوان جهتهای کریستالوگرافی خاص مانند (111)، (100) و (110) را ذکر کرد]
این استانداردها کیفیت مورد نیاز برای کاربردهای پیشرفته در صنایع نیمههادی و اپتیک را تضمین میکنند

●
استانداردهای مقاومت الکتریکی و کیفیت ظاهری
● مقاومت الکتریکی:
مقاومت الکتریکی سیلیکون تککریستال به چهار کلاس مختلف تقسیمبندی میشود:
-
کلاس مقاومت بسیار پایین (Very Low Resistivity)
-
کلاس مقاومت پایین (Low Resistivity)
-
کلاس مقاومت متوسط (Medium Resistivity)
-
کلاس مقاومت بالا (High Resistivity)
● کیفیت ظاهری:
سیلیکون تککریستال باید دارای مشخصات ظاهری زیر باشد:
-
عاری از هرگونه آلودگی سطحی
-
بدون تراشهبرداری یا شکستگیهای حاشیهای
-
فاقد ترکهای میکروسکوپی یا ماکروسکوپی
-
بدون حفرههای سطحی یا زیرسطحی
ملاحظات کنترل کیفی:
کلیه نمونهها قبل از عرضه تحت بررسیهای زیر قرار میگیرند:
-
بازرسی چشمی با بزرگنمایی استاندارد
-
تستهای غیرمخرب برای شناسایی عیوب زیرسطحی
-
اندازهگیری پارامترهای الکتریکی مطابق استانداردهای بینالمللی
این الزامات تضمینکننده کیفیت مطلوب برای کاربردهای حساس در صنایع الکترونیک و اپتوالکترونیک میباشد.

آزمون عبور نور (Transmittance Test)
● نمونهها:
-
جنس: سیلیکون تککریستال
-
قطر نمونه: ۲۰ تا ۵۰ میلیمتر
-
ضخامت نمونه: ۱۰ ± ۰٫۵ میلیمتر
-
پرداخت سطح: پرداخت اپتیکی با کیفیت ۸۰/۵۰
● محدوده طیف آزمون:
محدوده ۳ تا ۱۵ میکرومتر (μm)
● الزامات کیفی:
-
میزان عبور نور (Transmittance) در محدوده ۳ تا ۵ میکرومتر باید برابر یا بیشتر از ۵۲٫۵٪ باشد (T≥52.5%@3-5μm)
ملاحظات آزمایش:
-
کلیه اندازهگیریها در شرایط استاندارد دمایی (۲۳±۲°C) انجام میشود
-
دستگاه مورد استفاده: اسپکتروفتومتر مادون قرمز با کالیبراسیون معتبر
-
نمونهها قبل از آزمون باید از نظر آلودگی سطحی بررسی و در صورت نیاز تمیز شوند
این آزمون جهت اطمینان از کیفیت اپتیکی نمونههای سیلیکون برای کاربردهای لیزر و سیستمهای مادون قرمز انجام میپذیرد.

●
مواد اپتیکی و ویژگیهای آنها
1. شیشه اپتیکی N-BK7
-
پرکاربردترین شیشه اپتیکی برای تولید قطعات باکیفیت
-
عبور نور عالی در محدوده مرئی تا فروسرخ نزدیک (350-2000 نانومتر)
-
کاربرد گسترده در تلسکوپها، سیستمهای لیزری و سایر زمینهها
-
گزینه مناسب زمانی که مزایای سیلیکای ذوب شده UV مورد نیاز نباشد
2. سیلیکای ذوب شده UV
-
عبور نور بالا از UV تا فروسرخ نزدیک (185-2100 نانومتر)
-
یکنواختی بهتر و ضریب انبساط حرارتی کمتر نسبت به N-BK7
-
مناسب برای کاربردهای لیزر پرتوان و سیستمهای تصویربرداری
3. کلسیم فلوراید (CaF2)
-
عبور نور بالا در محدوده 180 نانومتر تا 8 میکرومتر
-
مقاومت بالا در برابر آسیبهای لیزری
-
کاربرد در پنجرهها و عدسیهای طیفسنجها و سیستمهای تصویربرداری حرارتی
-
مناسب برای لیزرهای اگزایمر
4. باریم فلوراید (BaF2)
-
محدوده عبور نور: 200 نانومتر تا 11 میکرومتر
-
مقاوم در برابر تابشهای پرانرژی
-
خواص سینتیلاسیون عالی برای کاربردهای مادون قرمز و فرابنفش
-
محدودیت: مقاومت کم در برابر رطوبت (حداکثر دمای کارکرد 500°C در محیط مرطوب و 800°C در محیط خشک)
-
نکته ایمنی: هنگام کار با این ماده باید از دستکش استفاده شود
5. منیزیم فلوراید (MgF2)
-
محدوده کاری: 200 نانومتر تا 6 میکرومتر
-
مقاومت عالی در برابر:
-
خوردگی شیمیایی
-
آسیب لیزری
-
شوک مکانیکی و حرارتی
-
-
سختی موس: 415
-
ضریب شکست: 1.38
-
مقاومت ویژه در محدوده UV عمیق و IR دور
6. سلنید روی (ZnSe)
-
محدوده عبور نور: 600 نانومتر تا 16 میکرومتر
-
کاربردهای اصلی:
-
تصویربرداری حرارتی
-
سیستمهای پزشکی
-
لیزرهای CO2 پرتوان
-
-
ملاحظات:
-
سختی کم (موس 120) و حساس به خراش
-
نیاز به مراقبت ویژه در تمیزکاری و نگهداری
-
عدم استفاده از پنس یا ابزارهای فلزی برای جابجایی
-
7. سیلیکون (Si)
-
محدوده کاری: 1.2 تا 8 میکرومتر (فروسرخ نزدیک)
-
مزایا:
-
چگالی کم (مناسب برای کاربردهای حساس به وزن)
-
سختی بالا (موس 1150)
-
مقاومت مکانیکی بهتر نسبت به ژرمانیوم
-
-
محدودیت: جذب بالا در 9 میکرومتر (عدم مناسب برای لیزر CO2)
8. ژرمانیوم (Ge)
-
محدوده کاری: 2 تا 16 میکرومتر
-
ویژگیها:
-
ضریب شکست بالا
-
انحراف رنگی کم
-
مناسب برای سیستمهای تصویربرداری حرارتی
-
-
ملاحظات:
-
حساسیت دمایی بالا (حداکثر دمای کارکرد 100°C)
-
چگالی نسبتاً بالا (5.33 گرم بر سانتیمتر مکعب)
-
پرداخت سطح با دستگاه تراش الماسه
-
9. ZnS تولید شده به روش CVD
-
تنها ماده اپتیکی (به غیر از الماس) با پوشش طیفی کامل از مرئی تا مادون قرمز دور (LWIR)
-
کاربردهای پیشرفته:
-
پنجرههای “سه-اپتیکی”
-
سیستمهای تصویربرداری حرارتی با وضوح بالا
-
پنجرههای ترکیبی لیزر فروسرخ نزدیک/دو رنگ
-
تمامی این مواد با در نظر گرفتن استانداردهای دقیق کنترل کیفیت و پارامترهای اپتیکی بهینه برای کاربردهای خاص تولید و عرضه میگردند

نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.