تارگت دی اکسید سیلیس (SiO2 Target)

> ابعاد ، شکل تارگت قابل سفارشی سازی می باشد.
> امکان سفارش گذاری تارگت با Cu BackPlate+ indium Bonded وجود دارد . در صورت نیاز به بک پلیت مس با کارشناس فروش در میان بگذارید.
> زمان تحویل در تهران : 5 هفته ( 3هفته ساخت توسط سازنده چینی + 2 هفته تحویل در تهران )

 

ضمانت اصالت کالا

ارسال به تمامی شهر ها

ضمانت بازگشت وجه

قبول سفارش عمده

17 نفر در حال مشاهده این محصول هستند!
توضیحات

توضیحات

تارگت دی اکسید سیلیس (SiO2 Target)

  1. ضخامت ۳ میلیمتر
  2. قطر ۲ اینچ
  3. خلوص ۹۹.۹۹%

 

تارگت اسپاترینگ سیلیکون اکسید یکی از محصولات پرکاربرد در فرآیندهای پوشش‌دهی نازک فیلم است که در صنایع مختلف استفاده می‌شود. این تارگت از مواد اولیه با خلوص بالا ساخته شده و به روش پرس گرم تولید می‌شود، که منجر به تارگتی با چگالی بالا و رنگ یکنواخت می‌شود. با این تارگت، کاربران می‌توانند فیلم‌های نازک و همگن با نرخ فرسایش ثابت و کیفیت بالا در فرآیند PVD بدست آورند.

ویژگی‌ها:

  • خلوص: 99.99% و 99.995%
  • روش تولید: پرس گرم، اسپری حرارتی خلاء
  • ابعاد قابل دسترس:
    • تارگت گرد: قطر 3 میلی‌متر
    • تارگت مستطیلی: طول 3 میلی‌متر
    • تارگت دوار: طول 4000 میلی‌متر و ضخامت دیواره 15 میلی‌متر
  • حداقل مقدار سفارش: 1 عدد
  • نوع اتصال: ایندیوم، الاستومر

مزایا:

  • چگالی بالا: >= 5.55 g/cm3
  • رنگ یکنواخت و بدون لکه
  • مناسب برای استفاده در فرآیندهای اسپاترینگ PVD

این محصول به ویژه در صنایع تولید شیشه‌های Low-E، صنایع فوتوولتاییک نازک فیلم و همچنین در تولید پوشش‌های الکترونیکی و اپتیکی کاربرد دارد. با استفاده از تارگت اسپاترینگ سیلیکون اکسید، شما می‌توانید به پوشش‌های نازک با کیفیت و عملکرد بالا دست پیدا کنید.

برای اطلاعات بیشتر و سفارش، با ما در تماس باشید.

 

برای ایجاد اتصال الکتریکی مناسب بین منبع تغذیه با تارگت و همچنین خنک سازی تارگت اسپاترینگ از فلزاتی مانند مس استفاده می شود که به آن Back Plate میگویند و برای اینکه خود تارگت به صفحه مسی خوب اتصال داشته باشد، تارگت و صفحه مسی را به کمک فلز ایندیوم به یکدیگر می چسبانند.

تارگت دی اکسید سیلیکون SiO2: شفافیت در دنیای اسپاترینگ

تارگت دی اکسید سیلیکون (SiO2)، که با نام‌های سیلیس و کوارتز فشرده نیز شناخته می‌شود، نقشی کلیدی در صنعت اپتوالکترونیک و تولید مدارهای مجتمع ایفا می‌کند.

این ماده با فرمول شیمیایی SiO2، نقطه ذوب 1610 درجه سانتی‌گراد، چگالی 2.648 گرم بر سانتی‌متر مکعب و فشار بخار 10-4 Torr در 1025 درجه سانتی‌گراد، در طبیعت به وفور یافت می‌شود و ماده اصلی تشکیل‌دهنده ماسه و کوارتز است.

کاربرد اصلی تارگت دی اکسید سیلیکون در تولید شیشه برای پنجره‌ها و بطری‌های نوشیدنی است. با این حال، این ماده کاربردهای بسیار مهم دیگری نیز دارد.

در خلأ تبخیر می‌شود تا در ساخت دستگاه‌های اپتوالکترونیک و مدارهای مجتمع به کار رود.

مزایای استفاده از تارگت دی اکسید سیلیکون SiO2:

  • شفافیت بالا: تارگت‌های SiO2 شفافیت نوری بی‌نظیری را ارائه می‌دهند که آن‌ها را برای کاربردهای اپتوالکترونیک ایده‌آل می‌کند.
  • پایداری شیمیایی بالا: SiO2 در برابر مواد شیمیایی مختلف مقاوم است و در شرایط محیطی خشن نیز عملکرد پایداری دارد.
  • عایق الکتریکی عالی: SiO2 یک عایق الکتریکی عالی است که آن را برای استفاده در ساخت مدارهای مجتمع مناسب می‌کند.
  • سازگاری با انواع مختلف مواد: SiO2 با طیف وسیعی از مواد، از جمله سیلیکون، فلزات و سرامیک‌ها سازگار است.
  • قیمت مناسب: تارگت‌های SiO2 در مقایسه با سایر تارگت‌های اسپاترینگ، قیمت مقرون به صرفه‌ای دارند.

کاربردهای تارگت دی اکسید سیلیکون SiO2:

  • تولید قطعات اپتوالکترونیک: لنزها، آینه‌ها، فیبرهای نوری و سایر اجزای اپتوالکترونیک با استفاده از تارگت‌های SiO2 ساخته می‌شوند.
  • تولید مدارهای مجتمع: SiO2 به عنوان لایه دی‌الکتریک در ساخت ترانزیستورها، دیودها و سایر اجزای مدارهای مجتمع استفاده می‌شود.
  • پوشش‌های محافظ: SiO2 به عنوان پوشش محافظ برای سطوح مختلف، مانند دیسک‌های سخت و ابزارهای نوری، به کار می‌رود.
  • پژوهش: از تارگت‌های SiO2 در تحقیقات علمی در زمینه‌های مختلف مانند نانوتکنولوژی و مواد پیشرفته استفاده می‌شود.

انتخاب تارگت دی اکسید سیلیکون SiO2 مناسب:

انتخاب تارگت SiO2 مناسب به عوامل مختلفی مانند نوع پوشش مورد نظر، ضخامت پوشش، دمای فرآیند و نوع بستر بستگی دارد. تنوع گریدهای مختلف تارگت SiO2 با خلوص‌ها و ابعاد مختلف، امکان انتخاب تارگتی ایده‌آل برای هر کاربرد خاص را فراهم می‌کند.

Silicon Dioxide (Fused Quartz) (SiO2) General Information

Silicon dioxide, also known as silica, has a chemical formula of SiO2. It has a melting point of 1,610°C, a density of 2.648 g/cc, and a vapor pressure of 10-4 Torr at 1,025°C. Silicon dioxide is commonly found in nature as sand or quartz. It is primarily used in the production of glass for windows and beverage bottles. It is evaporated under vacuum for the fabrication of optoelectronic and circuit devices.

توضیحات تکمیلی

توضیحات تکمیلی

قطر

2 inch

ضخامت

3 میلی متر

خلوص

۹۹.۹9% (4N)

زمان تحویل

5 هفته ( سه هفته زمان ساخت + 2 هفته زمان تحویل)

20 دیدگاه برای تارگت دی اکسید سیلیس (SiO2 Target)

  1. یکتا سرشار

    با توجه به خلوص بالای تارگت اسپارتینگ، آیا این تارگت برای تولید مدارهای مجتمع با کارایی بالا مناسب‌تر است یا صرفاً برای شیشه‌های Low-E؟

  2. شعله حیاتی

    آیا استفاده از فلز ایندیوم به عنوان اتصال برای تارگت SiO2 اسپارتینگ باعث افزایش عمر مفید آن در شرایط محیطی خاص می‌شود؟

  3. هما شیرمحمدی

    برای تولید لنزهای اپتیک با شفافیت بالا، آیا تفاوتی در انتخاب تارگت SiO2 بر اساس ابعاد و چگالی وجود دارد؟

  4. مرمر گنجی

    تارگت دی اکسید سیلیکون SiO2 با خواص عایق الکتریکی عالی دقیقاً چگونه در فرآیند ساخت مدارهای مجتمع به کار گرفته می‌شود؟

  5. مهیمن طباطبائی

    ممنون از اطلاعات جامع! آیا فشار بخار پایین SiO2 در 1025 درجه سانتی‌گراد به معنای انعطاف بالا در فرآیند رسوب‌دهی است؟

  6. مهرخ علم

    آیا در پروسه پوشش‌دهی نازک فیلم‌ها می‌توان نقطه ذوب SiO2 را نقطه قوت برای طراحی‌های ویژه دانست؟

  7. شیروان خاموشی

    توضیحات کاملی بود! در انتخاب بین گریدهای مختلف SiO2 برای اسپارتینگ، آیا تغییرات دما تاثیر عمده‌ای دارد؟

  8. کیومرث نهاوندی

    آیا قابلیت‌های شفافیت و پایدار شیمیایی SiO2 می‌تواند عملکرد اپتوالکترونیک را بهبود بخشد یا شرایط محیطی نقش مهمتری دارند؟

  9. انوشیروان رسولی

    آیا مناسب‌تر نیست که از سلیقه‌ای که سری‌های مختلف SiO2 استفاده کنید تا به نیازهای خاص مدارهای شما پاسخ دهد؟

  10. نیاز اصلانی

    چگونه تنوع گریدهای SiO2 می‌توانند بر کیفیت فیلم نازک نهایی در محصولات صنعتی تاثیرگذار باشند؟

  11. چکامه علی‌زمانی

    تارگت دی اکسید سیلیکون در فرآیندهای صنعتی چه مزیت‌های برجسته‌ای دارد و آیا این ماده در تولید محصولات مشابه دیگر نیز به کار می‌رود؟

  12. پروا عبدالملکی

    برای افرادی که در صنعت پوشش‌دهی فعال هستند؛ آیا تفاوت زیادی بین استفاده از تارگت‌های دی اکسید سیلیکون و سایر مواد اسپارتینگ وجود دارد؟

  13. آذرمهر طباطبائی

    آیا تنوع در ابعاد تارگت‌های SiO2 با خلوص مختلف تاثیری بر کیفیت نهایی پوشش‌دهی دارد؟ نقاط قوت پوشش‌های پدید آمده با این تارگت‌ها چیست؟

  14. آلاله سرمد

    آیا امکان استفاده از تارگت دی اکسید سیلیکون برای کاربردهای دیگر نیز فراهم است؟ مثلاً در صنایع خودروسازی یا تولید کاشی‌های ضدخش؟

  15. گوهر برزویی

    آیا النقطه ذوب sio2 در مراحل تولید و استفاده، به شکل خاصی نیاز به کنترل دارد؟ چطور می‌توان از عملکرد بهینه آن اطمینان حاصل کرد؟

  16. نوزر لنکرانی

    با توجه به چگالی بالا و رنگ یکنواخت تارگت اسپارتینگ، آیا این ماده در مقابل تغییرات محیطی مانند حرارت بالا مقاومت دارد؟

  17. مینو خراسانی

    چه تفاوتی بین کاربردهای اپتوالکترونیک و مدارهای مجتمع در استفاده از مواد مختلف از جمله SiO2 وجود دارد؟

  18. یعقوب همایون

    برای یک خریدار تازه‌کار، آیا اطلاعات بیشتری مانند راهنمای انتخاب بهتر تارگت متناسب با نیاز، مثل sio2، فراهم می‌شود؟

  19. فرشید فرامرزی

    نقطه ذوب sio2 نشان‌دهنده پایداری چه خصائصی برای این تارگت است و چطور بر عملکرد نهایی فیلم‌برداری تاثیر می‌گذارد؟

  20. مدینه منوچهری

    چگونه می‌توانیم مطمئن شویم که تارگت دی اکسید سیلیکون که خریداری می‌کنیم دارای تمامی ویژگی‌های ذکر شده از جمله چگالی و خلوص مناسب است؟

دیدگاه خود را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *