بلور فلورید کلسیم گرید VUV
توضیحات
فهرست مطالب
Toggleبلور فلورید کلسیم گرید VUV (فرابنفش خلأ)
معرفی محصول:
بلورهای گرید VUV از مواد شیمیایی با خلوص بسیار بالا سنتز شده و در فرآیند رشد بلور، اختلاط سایر عناصر به دقت کنترل میشود تا بلورهایی با یکنواختی و پایداری عالی تولید گردد. این بلورها دارای عبوردهی بسیار بالا در محدوده زیر 200 نانومتر و مقاومت تابشی ممتاز هستند و عمدتاً در پنجرههای مشاهده خلأ فرابنفش کاربرد دارند.
ویژگیهای کلیدی:
-
سختی بالا و مقاومت استثنایی در برابر شوکهای مکانیکی و حرارتی
-
عبوردهی نوری عالی در محدودههای:
-
فرابنفش (UV)
-
مرئی
-
فروسرخ (IR)
-
-
خواص نوری بینظیر در ناحیه cut-off فرابنفش
-
عبوردهی بالا همراه با تشعشع فلورسانس پایین
کاربردهای اصلی:
-
سیستمهای لیزری پیشرفته
-
اپتیک فرابنفش و فروسرخ
-
آشکارسازهای پرانرژی
-
کاربردهای تخصصی:
-
آشکارسازهای نوری فرابنفش
-
لیزرهای UV
-
سیستمهای اپتیکی فرابنفش
-
تواناییهای تولید:
شرکت ما قادر به تأمین انواع محصولات گرید VUV در اشکال مختلف است:
محصولات نیمهساخته:
-
دایرهای
-
مستطیلی
-
سوراخدار
-
پنجرهای
محصولات نهایی:
-
لنزهای اپتیکی
-
قطعات گالوانومتر
-
اشکال سفارشی
تمامی محصولات مطابق با استانداردهای دقیق صنعتی و با کیفیت سطحی مناسب برای کاربردهای حساس فرابنفش تولید میشوند. این بلورها با استفاده از روشهای رشد بلور پیشرفته و در محیطهای کنترلشده تولید میگردند
- معرفی محصولات

بلورهای فلورید کلسیم گرید VUV (فرابنفش خلأ)
روش تولید و ویژگیهای فنی:
بلورهای گرید VUV از مواد اولیه با خلوص فوقالعاده بالا (99.99%) و از طریق سنتز شیمیایی کنترلشده تولید میشوند. در فرآیند رشد بلور، ناخالصیهای عنصری به دقت در سطح ppb کنترل میگردند تا بلورهایی با مشخصات زیر حاصل شود:
-
یکنواختی ساختاری بالا (همگنی بهتر از 99.8%)
-
پایداری حرارتی و نوری ممتاز
-
عبوردهی نوری بیش از 85% در محدوده 130-200 نانومتر
-
مقاومت تابشی عالی (تحمل تابش تا 10⁶ راد)
کاربردهای اصلی:
-
پنجرههای مشاهده در محیط خلأ فرابنفش
-
سیستمهای طیفسنجی VUV
-
محفظههای آزمایشگاهی خلأ بالا
-
تجهیزات تحقیقات فیزیک پلاسما
تواناییهای تولیدی شرکت:
-
محصولات نیمهساخته (بلنک):
-
ابعاد استاندارد: از φ20mm تا φ200mm
-
ضخامت: 3mm تا 50mm
-
کیفیت سطح: پرداخت اپتیکی تا λ/4 @ 632.8nm
-
-
محصولات نهایی:
-
لنزهای plano-convex و plano-concave
-
پنجرههای اپتیکی با پوشش ضد بازتاب
-
منشورهای Cornu و Pellin-Broca
-
قطعات سفارشی با تلرانس ابعادی ±0.01mm
-
مزایای رقابتی:
-
کنترل کیفی دقیق با آنالیز XRD و FTIR
-
امکان تولید با قطر تا 300mm
-
ارائه گواهینامه کیفیت همراه هر محموله
-
پشتیبانی فنی و مهندسی پیشرفته
شرکت ما با بهرهگیری از کورههای رشد بلور پیشرفته و آزمایشگاههای کنترل کیفیت مجهز، آماده همکاری با مراکز تحقیقاتی و صنعتی در پروژههای حساس اپتیکی میباشد

تواناییهای تولیدی شرکت در زمینه بلورهای فلورید کلسیم گرید VUV
شرکت ما با بهرهگیری از فناوریهای پیشرفته، قادر به تأمین گستره وسیعی از محصولات نیمهساخته و نهایی از جنس بلور فلورید کلسیم گرید VUV میباشد:
محصولات نیمهساخته (بلنک):
-
اشکال هندسی استاندارد:
-
دایرهای (قطر از ۵ تا ۳۰۰ میلیمتر)
-
مستطیلی (ابعاد تا ۴۰۰×۴۰۰ میلیمتر)
-
سوراخدار (با دقت موقعیتیابی ±۰.۰۵ میلیمتر)
-
-
قطعات کاربردی:
-
پنجرههای نوری (ضخامت ۱ تا ۵۰ میلیمتر)
-
پیشفرم لنزهای اپتیکی
-
قطعات گالوانومتر با پرداخت سطحی λ/۲
-
محصولات نهایی تخصصی:
-
اشکال سفارشی با تلرانس ابعادی ±۰.۰۱ میلیمتر
-
قطعات با هندسه پیچیده (Freeform)
-
مجموعههای اپتیکی مونتاژ شده
ویژگیهای کیفی:
-
کیفیت سطحی: ۶۰-۴۰ تا ۲۰-۱۰ (MIL-PRF-13830B)
-
دقت ابعادی: مطابق با استاندارد ISO 10110
-
آنالیز خلوص شیمیایی: گزارشدهی تا سطح ppb
پشتیبانی فنی:
-
طراحی و مشاوره رایگان برای کاربردهای خاص
-
امکان ارائه نمونه آزمایشی قبل از تولید انبوه
-
خدمات پس از فروش و پشتیبانی فنی مستمر
این محصولات با استفاده از دستگاههای CNC پیشرفته و در محیطهای کنترلشده دمایی و رطوبتی تولید میشوند تا بالاترین استانداردهای کیفی برای کاربردهای حساس فرابنفش تأمین گردد

کاربردهای بلور فلورید کلسیم (CaF₂) در اپتیک پیشرفته
بلورهای فلورید کلسیم به دلیل خواص منحصر به فرد نوری و مکانیکی، کاربردهای گستردهای در محدوده طیفی فرابنفش خلأ تا میانه فروسرخ دارند:
ویژگیهای کلیدی:
-
ضریب عبور نوری بسیار بالا (بیش از ۹۰% در محدوده ۱۳۰nm تا ۸μm)
-
مقاومت استثنایی در برابر آسیب لیزر (آستانه تحمل تا ۱۰J/cm² در ۱۹۳nm)
-
پایداری حرارتی عالی (ضریب انبساط حرارتی ۱۸.۹×۱۰⁻⁶/°C)
کاربردهای اصلی:
۱. اجزای اپتیکی:
-
پنجرههای نوری (UV-VUV)
-
لنزهای تخصصی
-
منشورهای طیفسنجی
-
جداکنندههای پرتو
-
زیرلایههای اپتیکی
۲. سیستمهای لیزری:
-
لیزرهای اگزایمر (ArF، KrF)
-
لیزرهای مونوکسید کربن
-
لیزرهای شیمیایی
مزایای رقابتی:
-
مقاومت تابشی فوقالعاده (تا ۱۰⁶ راد)
-
مقاومت در برابر خوردگی ناشی از فلور و ازون
-
هزینه تولید مقرون به صرفه نسبت به مواد مشابه
-
پایداری شیمیایی در محیطهای خورنده
ملاحظات فنی:
-
بلورهای تککریستال با خلوص بالا (۹۹٫۹۹%) برای کاربردهای VUV ضروری است
-
ساختار FCC بلور CaF₂ موجب خواص نوری همسانگرد میشود
-
پرداخت سطحی λ/۴ برای کاربردهای پرتوان الزامی است
این ماده به دلیل ترکیب بینظیر خواص نوری و مکانیکی، در بسیاری از سیستمهای اپتیکی پیشرفته جایگزینناپذیر است

پوششهای اپتیکی و کاربردهای تخصصی آنها
تعریف فنی پوشش اپتیکی:
پوششدهی به فرآیند اعمال لایههای نازک (Thin-film) از مواد دیالکتریک یا فلزی بر روی زیرلایههای اپتیکی اطلاق میشود که به دو روش اصلی انجام میپذیرد:
۱. روشهای فیزیکی (PVD):
-
تبخیر در خلا (Vacuum Evaporation)
-
کندوپاش مغناطیسی (Magnetron Sputtering)
۲. روشهای شیمیایی (CVD):
-
رسوبدهی شیمیایی بخار
-
رسوبدهی لایه اتمی (ALD)
اهداف پوششدهی اپتیکی:
-
کنترل دقیق ضریب بازتاب سطح (R) از ۰.۱% تا ۹۹.۹%
-
تنظیم ضریب عبور (T) در محدودههای طیفی خاص
-
ایجاد ویژگیهای تخصصی شامل:
-
تفکیک پرتو (Beam Splitting) با نسبتهای دقیق
-
فیلتراسیون طیفی (Spectral Filtering) با پهنای باند کنترلشده
-
کنترل قطبش (Polarization Management)
-
انواع پوششهای تخصصی قابل ارائه:
۱. لایههای ضد بازتاب (AR):
-
پهنای باند گسترده (UV تا Mid-IR)
-
کاهش بازتاب به کمتر از ۰.۵% در طولموج طراحی
-
طراحی چندلایهای با بیش از ۱۵ لایه
۲. لایههای بازتاببالا (HR):
-
بازتاب بیش از ۹۹.۹% در طولموج هدف
-
پایداری حرارتی تا ۵۰۰°C
۳. لایههای طیفی (Spectral):
-
فیلترهای باند باریک (FWHM تا ۱nm)
-
فیلترهای قطع بلندموج و کوتاهموج
۴. لایههای فلزی (Metallic):
-
بر پایه طلا، نقره و آلومینیوم
-
مقاومت مکانیکی بالا
ویژگیهای فنی:
-
کنترل ضخامت با دقت ±۰.۱nm
-
چسبندگی عالی (مطابق استاندارد MIL-C-675C)
-
پایداری در محیطهای خورنده
-
مقاومت در برابر لیزر (LIDT تا ۱۰J/cm²)
این پوششها با استفاده از سیستمهای کنترل پیشرفته و در محیطهای تمیز (Class 100) تولید میشوند
- اطلاعات فنی

دستهبندی و مشخصات فنی بلورهای فلورید کلسیم (CaF₂)
گرید VIR (مرئی-فروسرخ)
-
ابعاد استاندارد: φ80×180mm، φ100×180mm
-
حداکثر سایز قابل تولید: φ400×60mm
-
محدوده طیف کاری: 400nm تا 7.6μm
-
ساختار بلوری: تککریستال، زیرساخت، پلیکریستال
-
عبور داخلی: >99% (نمونه 10mm ضخامت)
-
دوگانگی تنش: 1-30nm/cm@633nm
-
یکنواختی اپتیکی: 3-50ppm@633nm
-
آزمون کیفی: عدم وجود ناخالصیهای بصری در تست نور سبز 25-125mW
گرید UR (فرابنفش)
-
ویژگیهای طیفی:
-
عدم جذب در 205nm
-
جذب کنترلشده در 306nm (≤0.2%)
-
-
پارامترهای نوری: مشابه گرید VIR با یکنواختی بهبودیافته (3-20ppm)
گرید VUV (فرابنفش خلأ)
-
محدوده کاری: 130-200nm
-
میزان عبور:
-
50% @130nm
-
80% @160nm
-
85% @200nm
-
-
یکنواختی بالا: 1-15ppm
گرید IC Tool (ابزارهای نیمههادی)
-
طول موجهای کلیدی: 157nm، 193nm، 248nm، 355nm
-
عبور داخلی:
-
99.8% @355nm/248nm
-
99.7% @193nm
-
99.4% @157nm
-
گرید IC Laser (لیزرهای نیمههادی)
-
آستانه تحمل لیزر: ~7J/cm² @193nm
-
مطابق با استانداردهای: SEMI F47-0706
گرید Raman (طیفسنجی رامان)
-
محدوده کاری گسترده: 130nm-7.6μm
-
ویژگیهای منحصر به فرد:
-
عدم فلورسانس
-
عدم جذب در محدوده کاری
-
تستهای مشترک تمامی گریدها:
-
آزمون نور سبز (25-125mW) برای بررسی ناخالصیهای بصری
-
کنترل کیفی با اسپکتروفتومتر UV-Vis-NIR
-
آنالیز XRD برای تأیید ساختار بلوری
کاربردهای تخصصی:
-
سیستمهای لیزری پیشرفته
-
طیفسنجی فرابنفش تا فروسرخ
-
تجهیزات نیمههادی
-
تحقیقات علمی و صنعتی
تمامی محصولات با استانداردهای ISO 10110 و MIL-PRF-13830 مطابقت دارند

آزمون عبور نور (Transmittance Test)
تجهیزات آزمایشگاهی مورد استفاده:
-
اسپکتروفتومتر UV-Vis مدل [XXX] با دقت ±0.2% (مطابق استاندارد ASTM E275)
مشخصات نمونههای آزمایشی:
-
جنس نمونه: بلور فلورید کلسیم (CaF₂) بدون پراکندگی نور
-
ابعاد نمونه:
-
قطر: ≥20mm (با تلرانس ±0.1mm)
-
ضخامت: ≥3mm (با تلرانس ±0.05mm)
-
-
کیفیت سطح:
-
پرداخت اپتیکی 80/50 (مطابق MIL-PRF-13830B)
-
زبری سطح: ≤5nm RMS
-
گرید مورد آزمایش:
-
گرید IR (محدوده فروسرخ)
نتایج آزمون و آنالیز طیفی:
-
محدوده 400nm به بالا:
-
ضریب عبور: ≥93% (در نمونه 3mm ضخامت)
-
ضریب جذب: ≤0.5cm⁻¹
-
-
محدوده 200-400nm:
-
پیک جذب احتمالی در:
-
205nm (ناشی از نقصهای شبکه بلوری)
-
306nm (مربوط به ناخالصیهای Rare Earth)
-
-
عمق پیک جذب: ≤2% (نسبت به baseline)
-
شرایط آزمایش:
-
دمای محیط: 23±2°C
-
رطوبت نسبی: 45±5%
-
منبع نور: هالوژن-دوتریوم (پایداری ±0.3%)
-
پهنای شکاف طیفی: 2nm
گواهی کیفیت:
-
کلیه نتایج مطابق با استاندارد ISO 9211-4 گزارش میشوند
-
گزارش کامل آزمون شامل منحنیهای عبور، جذب و پراکندگی ارائه میگردد
ملاحظات فنی:
-
پیکهای جذب مشاهدهشده، ویژگی ذاتی بلورهای CaF₂ بوده و در کاربردهای IR تأثیرگذار نیستند.
-
کیفیت سطح 80/50 برای اکثر کاربردهای صنعتی کفایت میکند.
-
برای کاربردهای حساس، پرداخت سطح تا λ/4 قابل انجام است.

بلورهای تککریستال (Monocrystalline) – ویژگیهای کیفی
شرایط بازرسی بصری:
-
روش نوردهی: نور طبیعی روز (شدت روشنایی ۱۰۰۰۰-۲۰۰۰۰ لوکس)
-
زاویه مشاهده: ۴۵±۱۵ درجه
-
فاصله بررسی: ۳۰±۵ سانتیمتر
-
مدت زمان بازرسی: ۱۰-۳۰ ثانیه
مشخصات سطح بلور:
-
عدم وجود مرز دانه (Grain Boundaries) در بزرگنمایی ۱۰x
-
عاری از نوارهای بیدمانند (Wicker-like Stripes)
-
یکنواختی سطحی: λ/۲ در ۶۳۲.۸ نانومتر
پارامترهای کیفی:
۱. خلوص ساختاری:
-
چگالی نابجاییها: ≤۱۰۰ cm⁻²
-
جهتگیری کریستالوگرافی: (۱۱۱) ±۰.۵°
۲. یکنواختی نوری:
-
تغییر ضریب شکست: ≤۵×۱۰⁻⁶ در سطح نمونه
-
پراکندگی نور: ≤۰.۱% در ۶۳۲.۸ نانومتر
تاییدیههای فنی:
-
مطابق با استاندارد ASTM F47
-
انطباق با الزامات ISO 10110-3 کلاس ۱
-
گواهی کیفیت همراه هر محموله
ملاحظات کاربردی:
-
مناسب برای کاربردهای اپتیکی با دقت بالا
-
کاربرد در سیستمهای لیزری پرتوان
-
استفاده در تجهیزات طیفسنجی حساس
نکته: این سطح از کیفیت معمولاً در بلورهای رشد یافته با روش چکرالسکی (Czochralski) با کنترل دقیق پارامترهای رشد حاصل میشود.

بلورهای زیرکریستال (Sub-crystal) – ویژگیهای کیفی و مشخصات فنی
شرایط بازرسی بصری:
-
روش نوردهی: نور طبیعی روز (شدت روشنایی 8000-15000 لوکس)
-
زاویه مشاهده بهینه: 30-60 درجه
-
فاصله استاندارد بررسی: 25-40 سانتیمتر
-
مدت زمان بازرسی: 15-45 ثانیه
مشخصات سطحی:
-
وجود نوارهای بیدمانند (Willow Stripes) با مشخصات:
-
مساحت تحت پوشش: <16.7% از سطح مقطع (قطر انتهایی)
-
عرض نوارها: 0.1-0.5 میلیمتر
-
جهتگیری: معمولاً موازی با صفحات کریستالوگرافی (111)
-
پارامترهای کیفی:
-
ویژگیهای ساختاری:
-
چگالی نابجاییها: 10³-10⁴ cm⁻²
-
انحراف زاویهای: ≤2° از جهت کریستالوگرافی اصلی
-
-
مشخصات پس از پرداخت:
-
کیفیت سطح نهایی: 60/40 (مطابق MIL-PRF-13830B)
-
زبری سطح: ≤10nm RMS
-
حذف کامل نوارهای بصری پس از پرداخت نهایی
-
کاربردهای صنعتی:
-
مناسب برای قطعات اپتیکی با دقت متوسط
-
کاربرد در سیستمهای تصویربرداری صنعتی
-
استفاده در تجهیزات لیزری با توان متوسط
گواهیهای کیفیت:
-
انطباق با استاندارد ISO 10110-3 کلاس 2
-
تأییدیه کیفیت بر اساس ASTM F47
-
گزارش آنالیز XRD همراه محصول
ملاحظات فنی:
-
نوارهای بیدمانند ناشی از تغییرات جزئی در سرعت رشد بلور هستند
-
این ویژگی تأثیری بر خواص نوری نهایی ندارد
-
برای کاربردهای حساس، پرداخت سطح تا λ/4 امکانپذیر است
نکته: این نوع بلورها معمولاً با روش بریجمن-استوکبارگر (Bridgman-Stockbarger) و با نرخ سردسازی کنترلشده تولید میشوند.

بلورهای پلیکریستال (چندبلوری) – ویژگیهای ساختاری و بصری
مشخصات ظاهری تحت نور طبیعی روز:
-
خطوط مرز بلور (Crystal Boundary Lines):
-
عمق نفوذ: کاملاً در سراسر ضخامت نمونه قابل ردیابی
-
وضوح مرزها: تفاوت کنتراست نور-سایه ≥30% بین دو طرف مرز
-
الگوی تشکیل: شبکه نامنظم با زوایای ۱۵-۶۰ درجه
-
-
ویژگیهای نوری:
-
اختلاف ضریب بازتاب: ۱۰-۲۵% بین دانههای مجاور
-
پراکندگی نور: ۲-۵% افزایش نسبت به نمونههای تککریستال
-
پارامترهای کمی:
-
اندازه دانهها: ۵۰-۵۰۰ میکرومتر
-
چگالی مرزدانهها: ۱۰-۵۰ خط بر سانتیمتر مربع
-
زبری سطح در مرزدانهها: افزایش ۱۵-۲۰% نسبت به سطح دانهها
کاربردهای صنعتی مناسب:
-
قطعات اپتیکی با تلرانس متوسط (λ/2 تا λ)
-
پنجرههای محافظ در سیستمهای لیزری با توان متوسط
-
تجهیزات طیفسنجی صنعتی (غیرتحلیلی)
محدودیتهای فنی:
-
عملکرد نوری:
-
تلفات پراکندگی: ۳-۸% در محدوده مرئی
-
کاهش عبور نور: ۵-۱۵% نسبت به تککریستال
-
-
مشخصات مکانیکی:
-
مقاومت خمشی: کاهش ۲۰-۳۰% نسبت به تککریستال
-
مقاومت حرارتی: تحمل شوک حرارتی تا ۲۰۰°C
-
نکات کنترل کیفی:
-
بازرسی بصری با نور ۵۰۰۰-۱۰۰۰۰ لوکس
-
زاویه مشاهده بهینه: ۴۵±۱۰ درجه
-
استاندارد مرجع: ISO 10110-3 کلاس ۳
توجیه فنی پدیده مشاهده شده:
اختلاف کنتراست مشاهدهشده ناشی از:
-
تفاوت جهت کریستالوگرافی دانهها (Δθ ≥ ۱۰°)
-
تغییر ضریب شکست موضعی (Δn ≈ ۰.۰۰۱-۰.۰۰۵)
-
زبری متفاوت سطح در مرزدانهها
این ساختار معمولاً در فرآیندهای رشد با نرخ سردسازی سریع (۱۰-۵۰°C/ساعت) تشکیل میشود.

●
مواد اپتیکی پیشرفته و کاربردهای تخصصی آنها
۱. شیشه اپتیکی N-BK7
-
محدوده عبور: ۳۵۰-۲۰۰۰ نانومتر (مرئی تا فروسرخ نزدیک)
-
ویژگیهای کلیدی:
-
ضریب شکست: ۱.۵۱۶۸ در ۵۸۷.۶ نانومتر
-
عدد آب: ۶۴.۱۷
-
ضریب انبساط حرارتی: ۷.۱×۱۰⁻⁶/°C
-
-
کاربردها: لنزهای تلسکوپی، منشورها، اجزای سیستمهای لیزری
-
مزیت: مقرونبهصرفه برای کاربردهای مرئی و NIR
۲. سیلیکای ذوبشده UV
-
محدوده عبور: ۱۸۵-۲۱۰۰ نانومتر
-
مزایای ویژه:
-
ضریب انبساط حرارتی پایین (۰.۵۵×۱۰⁻⁶/°C)
-
یکنواختی نوری عالی (Δn ≤ ۲×۱۰⁻⁶)
-
-
کاربردهای خاص: لیزرهای اگزایمر، سیستمهای لیتوگرافی
۳. فلورید کلسیم (CaF₂)
-
ویژگیهای منحصر به فرد:
-
محدوده عبور گسترده (۱۸۰nm-۸μm)
-
ضریب شکست پایین (۱.۴ در ۵۸۷nm)
-
آستانه آسیب لیزر بالا (۱۵J/cm² در ۱۹۳nm)
-
-
کاربردهای اصلی: پنجرههای طیفسنجی، سیستمهای تصویربرداری حرارتی
۴. فلورید باریم (BaF₂)
-
مشخصات فنی:
-
محدوده عبور: ۲۰۰nm-۱۱μm
-
مقاومت تابشی: تا ۱۰⁶ راد
-
دمای کارکرد: ۸۰۰°C (در محیط خشک)
-
-
ملاحظات کاربردی:
-
حساس به رطوبت (نیاز به محیط کنترلشده)
-
نیاز به دستکش در حین کار
-
۵. فلورید منیزیم (MgF₂)
-
پارامترهای مکانیکی:
-
سختی موس: ۴۱۵
-
مقاومت فشاری: ۵۰۰MPa
-
-
کاربردهای ویژه: پوششهای ضد بازتاب، اجزای اپتیک UV عمیق
۶. سلنید روی (ZnSe)
-
ویژگیهای نوری:
-
ضریب عبور >۷۰% در محدوده ۶۰۰nm-۱۶μm
-
ضریب جذب پایین (۰.۰۰۱cm⁻¹ در ۱۰.۶μm)
-
-
ملاحظات نگهداری:
-
اجتناب از تماس با ابزارهای فلزی
-
استفاده از دستکش نرم
-
۷. سیلیکون (Si)
-
مشخصات کلیدی:
-
چگالی: ۲.۳۳g/cm³
-
سختی موس: ۱۱۵۰
-
-
محدودیتها: جذب شدید در ۹μm
۸. ژرمانیوم (Ge)
-
پارامترهای فنی:
-
ضریب شکست: ۴ در ۱۰μm
-
حساسیت دمایی: -۰.۰۲۵%/°C
-
-
کاربردهای ویژه: سیستمهای FLIR، تصویربرداری حرارتی
۹. ZnS CVD
-
ویژگیهای استثنایی:
-
پوشش طیفی کامل از مرئی تا مایکروویو
-
مقاومت مکانیکی عالی (سختی موس ۲۲۰)
-
-
کاربردهای پیشرفته: پنجرههای چندمنظوره، سیستمهای شناسایی هدف
جمعبندی فنی:
هر ماده با توجه به ویژگیهای منحصر به فرد خود در کاربردهای خاصی استفاده میشود. انتخاب ماده مناسب باید بر اساس پارامترهای زیر انجام شود:
۱. محدوده طول موج کاری
۲. شرایط محیطی (دما، رطوبت، تابش)
۳. الزامات مکانیکی (سختی، مقاومت ضربهای)
۴. ملاحظات اقتصادی
این مواد در صنایع دفاعی، پزشکی، مخابراتی و تحقیقات علمی کاربردهای گستردهای دارند.

نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.