فتورزیست مثبت

فتورزیست مثبت یک ماده غیر قابل حل است که در معرض نور، ساختار شیمیایی آن تغییر کرده و آن قسمت های نور دیده به ماده قابل حل تبدیل می شوند. وقتی از ماسک با زمینه روشن و فتورزیست مثبت که استفاده شود یک جزیره بوجود می آید.

فتورزیست منفی

فتورزیست منفی یک ماده قابل حل است که در معرض نور، ساختار شیمیایی آن تغییر کرده و قسمت های نور دیده به ماده غیر قابل حل تبدیل می شوند.

مانند فتورزیست مثبت که از دو بخش پلیمر و قسمت حساس به نور تشکیل شده است. بعد از نوردهی ماده پلیمر حساس به نور، انرژی نوری را جذب کرده و آن را به انرژی شیمیایی تبدیل می کند تا واکنش زنجیری را آغاز کند.

این واکنش موجب به هم پیوستن مولکول های پلیمر می شود. پلیمر به هم پیوسته دارای وزن مولکولی بالاتری است و در محلول ظهور، غیر قابل حل می شود. در نتیجه ظهور، سطح نور ندیده را از بین می برد.

یک اشکال عمده رزیست نوری منفی این است که در روند ظهور، تمام جرم رزیست با جذب حلال ظهور متورم می شود. این عمل تورم تفکیک رزیست نوری منفی را محدود می کند. معمولا فتورزیست های منفی در محیط نیتروژن تحت تابش قرار می گیرند چون که اکسیژن ممکن است با ذرات فعال فتورزیست واکنش داده و مانع واکنش آنها با پلیمر شود.

انتخاب ماسک و نوع رزیست وابسته است به این که تا چه حدی می خواهیم ابعاد را کنترل کنیم و تا چه اندازه به محافظت از ایجاد ناکاملی در سطح ویفر است.