ویفر سیلیکونی نوع P

16.000.000 ریال
type

P

Dopant

N

Resistivity

<0.05ohm.cm

Oxide Layer Thickness

100um

TTV

<10um

پوشش

لایه اکسید SiO2

قطر

2 inch

ضخامت

275~280um

شکل

دایره ای

ویفر سیلیکونی نوع intrinsic

12.500.000 ریال
type

intrinsic

Grade

Prime

Resistivity

>5000 ohm-cm

قطر

4 inch

ضخامت

525μm

پوشش

,

پشت سیلیکون دارای لایه اکسید

شکل

دایره ای

ویفر سیلیکونی نوع n – Prime

3.950.000 ریال
type

N

Dopant

فسفر

Grade

Prime

Resistivity

0.001-0.01 ohm-cm

جهت گیری کریستالی
قطر
ضخامت
شکل
پوشش

ویفر سیلیکونی نوع n

2.200.000 ریال3.950.000 ریال
انتخاب گزینه‌ها این محصول دارای انواع مختلفی می باشد. گزینه ها ممکن است در صفحه محصول انتخاب شوند
type

N

Dopant

فسفر

Grade

Dummy

,

Prime

Resistivity

0.001-0.01 ohm-cm

جهت گیری کریستالی

1 1 1

قطر

2 inch

,

4 inch

ضخامت

525μm

شکل

دایره ای

پوشش

,

پشت سیلیکون دارای لایه اکسید

ویفر سیلیکونی نوع n – Dummy

2.200.000 ریال
type

N

Dopant

فسفر

Grade

Dummy

Resistivity

0.001-0.01 ohm-cm

جهت گیری کریستالی
قطر
ضخامت
شکل
پوشش

ویفر اکسید سیلیکون

180.000 ریال360.000 ریال
انتخاب گزینه‌ها این محصول دارای انواع مختلفی می باشد. گزینه ها ممکن است در صفحه محصول انتخاب شوند
با-شرایط

بدون شستشو

,

شستشو شده

خرید ویفر سیلیکونی با خیال راحت

  • ساخت چین

ما ویفر رو سیلیکونی رو در هر ابعاد و اندازه ای به سازنده چینی مطمئن بازدید شده ، سفارش گذاری میکنیم و کمتر از دو هفته کاری این محصول رو تامین می کنیم.

ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمه‌رسانا مانند بلور سیلیکون می‌گویند که درصد خلوص آن بسیار بالا و نزدیک به ۱۰ درصد است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ساخت مدارهای الکتریکی و چیپ است.

سیلیکون ماده‌ای است از جنس کربن که بعد از اکسیژن، دومین عنصر از نظر میزان فراوانی در زمین است و به طور طبیعی قابل ترکیب نیست. سیلیکون به صورت ترکیب شده با اکسیژن در شن و اغلب سنگ‌ها وجود دارد که سیلیکا (در‌اکسید سیلیسیوم) نام دارد. اگر سیلیکون با عناصری دیگری مثل آهن، آلومینیوم یا پتاسیم ترکیب شود، سیلیکات ایجاد می‌شود. ترکیبات سیلیکونی در اتمسفر، آب‌های معدنی، بسیاری گیاهان و بدن برخی حیوانات وجود دارد.

سیلیکون ماده اصلی در ساخت چیپ‌های کامپیوتری، ترانزیستورها، دیودهای سیلیکونی، دیگر مدارهای الکترونیکی و دستگاه‌های سوئیچینگ است چرا که ساختار اتمی آن، این عنصر را برای نیمه‌رسانا، ایده‌آل می‌کند. سیلیکون برای اینکه ویژگی‌های رسانا بودن خود را تغییر دهد معمولا با عناصری مثل بورون، فسفر و آرسنیک ترکیب می‌شود.

اولین بار در سال ۱۸۲۴، شیمی‌دان سوئدی به نام جکاب برزلیوس، سیلیکون را به عنوان یک عنصر معرفی کرد.

ویفر سیلیکونی چیست؟

ویفر سیلیکونی یک دیسک نازک از کریستال سیلیکون است که به عنوان پایه‌ای برای ساخت مدارهای مجتمع (IC) و سایر دستگاه‌های نیمه‌هادی استفاده می‌شود. این ویفرها از طریق فرآیندهای پیچیده‌ای از جمله رشد کریستال، برش، پولیش و دوپینگ تهیه می‌شوند. سیلیکون به دلیل ویژگی‌های الکتریکی و فیزیکی برجسته‌اش، به عنوان ماده اصلی در صنعت نیمه‌هادی‌ها استفاده می‌شود.

ویژگی توضیحات
ماده ویفر سیلیکونی
هدف اساسی برای تولید نیمه‌هادی‌ها که در دستگاه‌های الکترونیکی استفاده می‌شود
رایج بودن دومین عنصر فراوان در جهان، عمدتاً به عنوان یک نیمه‌هادی مورد استفاده قرار می‌گیرد
خصوصیات فیزیکی فوق‌العاده صاف، سطح صیقلی شبیه به آینه، بدون ناهنجاری‌های سطحی، فوق‌العاده تمیز
کاربردها استفاده به عنوان زیرلایه برای مدارهای مجتمع (IC) و سایر دستگاه‌های نیمه‌هادی

فرآیند تولید ویفر سیلیکونی

1- رشد کریستال:

در این مرحله، یک کریستال بزرگ سیلیکونی از سیلیکون خالص رشد می‌کند. دو روش اصلی برای این کار استفاده می‌شود:

  • روش Czochralski (CZ):
    در این روش، یک کریستال سیلیکونی تک بلور از یک مذاب سیلیکون به آرامی کشیده می‌شود. این روش معمولاً برای تولید ویفرهای بزرگ استفاده می‌شود.
  • روش Float Zone (FZ):
    در این روش، یک ناحیه کوچک از سیلیکون ذوب می‌شود و از طریق حرکت ناحیه مذاب، کریستال تک بلور تشکیل می‌شود. ویفرهای FZ خلوص بالاتری نسبت به ویفرهای CZ دارند.

2- برش کریستال:

کریستال سیلیکونی بزرگ به دیسک‌های نازک برش داده می‌شود. این دیسک‌ها همان ویفرهای سیلیکونی هستند.

  • پولیش:
    سطح ویفرها به منظور از بین بردن ناهمواری‌ها و ایجاد یک سطح صاف و براق پولیش می‌شود.
  • دوپینگ:
    در این مرحله، ویفرها با افزودن ناخالصی‌ها (مثل بور یا فسفر) به سیلیکون، خواص الکتریکی خاصی پیدا می‌کنند. این فرآیند باعث می‌شود که ویفرها به نوع p یا n تبدیل شوند.
مرحله توضیحات
۱. رشد کریستال یک کریستال بزرگ سیلیکونی از سیلیکون خالص رشد می‌کند:
روش Czochralski (CZ): یک کریستال تک بلور از مذاب سیلیکون به آرامی کشیده می‌شود، معمولاً برای تولید ویفرهای بزرگ.
روش Float Zone (FZ): ناحیه کوچکی از سیلیکون ذوب می‌شود و از طریق حرکت ناحیه مذاب، کریستال تک بلور تشکیل می‌شود که خلوص بالاتری دارد.
۲. برش کریستال کریستال سیلیکونی بزرگ به دیسک‌های نازک برش داده می‌شود که همان ویفرهای سیلیکونی هستند.
۳. پولیش سطح ویفرها به منظور از بین بردن ناهمواری‌ها و ایجاد سطح صاف و براق پولیش می‌شود.
۴. دوپینگ در این مرحله، ویفرها با افزودن ناخالصی‌ها (مثل بور یا فسفر) به سیلیکون، خواص الکتریکی خاصی پیدا می‌کنند که به نوع p یا n تبدیل می‌شوند.

انواع ویفرهای سیلیکونی

  1. ویفرهای نوع p:
    این ویفرها با افزودن بور به سیلیکون ساخته می‌شوند. بور دارای سه الکترون والانس است و باعث ایجاد حفره‌های الکترونی (حامل‌های بار مثبت) در ساختار سیلیکونی می‌شود.
  2. ویفرهای نوع n:
    این ویفرها با افزودن فسفر یا آنتیموان به سیلیکون ساخته می‌شوند. این عناصر دارای پنج الکترون والانس هستند و الکترون‌های اضافی را به ساختار سیلیکونی اضافه می‌کنند، که به عنوان حامل‌های بار منفی عمل می‌کنند.
  3. ویفرهای سیلیکونی SOI (Silicon On Insulator):
    در این نوع ویفرها، یک لایه نازک سیلیکونی روی یک لایه عایق (معمولاً اکسید سیلیکون) قرار می‌گیرد. این ساختار مزایایی مانند کاهش خازنی و بهبود عملکرد ترانزیستورها را دارد.
  4. ویفرهای سیلیکونی Epitaxial:
    این ویفرها دارای یک لایه نازک از سیلیکون اپیتاکسیال هستند که بر روی یک ویفر سیلیکونی رشد می‌کند. این لایه اپیتاکسیال دارای ویژگی‌های الکتریکی بهتر و کنترل بیشتری بر خواص نیمه‌هادی دارد.
نوع توضیحات
ویفر سیلیکونی نوع P با افزودن بور به سیلیکون ساخته می‌شوند و باعث ایجاد حامل‌های بار مثبت (حفره‌ها) در ساختار سیلیکونی می‌شوند.
ویفر سیلیکونی نوع N با افزودن فسفر یا آنتیموان به سیلیکون ساخته می‌شوند و الکترون‌های اضافی را به ساختار سیلیکونی اضافه می‌کنند.
ویفر SOI (Silicon On Insulator) لایه نازکی از سیلیکون روی یک لایه عایق (معمولاً اکسید سیلیکون) قرار می‌گیرد و مزایایی مانند کاهش خازنی و بهبود عملکرد ترانزیستورها را دارد.
ویفر اپیتاکسیال دارای یک لایه نازک از سیلیکون اپیتاکسیال است که بر روی یک ویفر سیلیکونی رشد می‌کند و ویژگی‌های الکتریکی بهتری دارد.

خرید ویفر سیلیکونی

علاوه بر موجود بودن برخی اقلام در فروشگاه اینترنتی ستاپ ، با کمترین قیمت و سریعترین زمان می توانید با سفارش گذاری انواع ویفر سیلیکونی مورد نیاز خود در ابعاد و اشکال گوناگون ، ویفر خود را با اطمنیان خاطر تامین کنید. لطفا جهت مشاوره با کارشناسان ما تماس بگیرید.

  • ویفر سیلیکونی نوع N

    • ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمه‌رسانا مانند بلور سیلیکون می‌گویند که درصد خلوص آن بسیار بالا است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ساخت مدارهای الکتریکی و چیپ است.
      سیلیکون ماده‌ای است از جنس کربن که بعد از اکسیژن، دومین عنصر از نظر میزان فراوانی در زمین است و به طور طبیعی قابل ترکیب نیست. سیلیکون به صورت ترکیب شده با اکسیژن در شن و اغلب سنگ‌ها وجود دارد که سیلیکا (در‌اکسید سیلیسیوم) نام دارد. اگر سیلیکون با عناصری دیگری مثل آهن، آلومینیوم یا پتاسیم ترکیب شود، سیلیکات ایجاد می‌شود. ترکیبات سیلیکونی در اتمسفر، آب‌های معدنی، بسیاری گیاهان و بدن برخی حیوانات وجود دارد.
      می تونید جهت سفارش اقلامی که نیاز دارید (ویفر سیلیکونی نوع N) و در سایت ما ، یا حتی در ایران موجود نمی باشد، از طریق لینک نبود؟ سفارش بده جهت ثبت سفارش اقدام کنید .
  • ویفر سیلیکونی نوع P

    • ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمه‌رسانا مانند بلور سیلیکون می‌گویند که درصد خلوص آن بسیار بالا است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ساخت مدارهای الکتریکی و چیپ است.
      سیلیکون ماده‌ای است از جنس کربن که بعد از اکسیژن، دومین عنصر از نظر میزان فراوانی در زمین است و به طور طبیعی قابل ترکیب نیست. سیلیکون به صورت ترکیب شده با اکسیژن در شن و اغلب سنگ‌ها وجود دارد که سیلیکا (در‌اکسید سیلیسیوم) نام دارد. اگر سیلیکون با عناصری دیگری مثل آهن، آلومینیوم یا پتاسیم ترکیب شود، سیلیکات ایجاد می‌شود. ترکیبات سیلیکونی در اتمسفر، آب‌های معدنی، بسیاری گیاهان و بدن برخی حیوانات وجود دارد.
  • ویفر تک کریستال لیتیوم نایوبیت‌‌‌ (LiNbO3 Single crystal Wafer)

    ویفر تک کریستال لیتیوم نایوبیت‌‌‌ در نسل جدید طول­ موج­‌ها و عناصر شکست استفاده می­‌شود و با توجه به خواص زیادی که دارد استفاده‌­های زیادی از آن می­‌شود از جمله: الکترواپتیک و ضرایب اپتیک، ضرایب الکترومکانیکی و شیمیایی بالا و همچنین پایداری مکانیکی خوب.

    ویفر تک کریستال در نسل جدید طول­ موج­‌ها و عناصر شکست استفاده می­‌شود و با توجه به خواص زیادی که دارد استفاده‌­های زیادی از آن می­‌شود.

تعریف ویفر سیلیکونی از سایت SiliconwaferSuppliers :

What is Silicon Wafer?

Silicon wafer is a material used for producing semiconductors, which can be found in all types of electronic devices that improve the lives of people. Silicon comes second as the most common element in the universe; it is mostly used as a semiconductor in the technology and electronic sector.

ترجمه:

سیلیکون ویفر چیست؟

سیلیکون ویفر ماده‌ای است که برای تولید نیمه‌هادی‌ها استفاده می‌شود و در تمامی انواع دستگاه‌های الکترونیکی که زندگی مردم را بهبود می‌بخشند، یافت می‌شود. سیلیکون دومین عنصر رایج در جهان است و عمدتاً به عنوان یک نیمه‌هادی در بخش فناوری و الکترونیک به کار می‌رود.

ویفر سیلیکون به نقل از SUMCO :

A silicon wafer is a material essential for manufacturing semiconductors, which are found in all kinds of electronic devices that enrich our lives.

Few of us have a chance to encounter an actual silicon wafer in daily life. This ultra-flat disk is polished to a mirror-like surface, and made as free as possible of tiny surface irregularities, making it the flattest object in the world. It is also ultra-clean, virtually free of microparticles and other impurities. These qualities are necessary so it can be used as the substrate material of today’s state-of-the-art semiconductors.

ترجمه:

سیلیکون ویفر ماده‌ای ضروری برای تولید نیمه‌هادی‌ها است که در انواع دستگاه‌های الکترونیکی که زندگی ما را غنی‌تر می‌کنند، وجود دارد.

بسیاری از ما شانس دیدن یک سیلیکون ویفر واقعی را در زندگی روزمره نداریم. این دیسک فوق‌العاده صاف به سطحی شبیه به آینه صیقل داده شده و تا حد امکان از ناهنجاری‌های سطحی کوچک خالی است، که آن را به صاف‌ترین جسم در جهان تبدیل می‌کند. همچنین این ویفر فوق‌العاده تمیز است و تقریباً از میکروذرات و ناخالصی‌های دیگر عاری است. این ویژگی‌ها ضروری هستند تا بتوان از آن به عنوان ماده زیرلایه برای نیمه‌هادی‌های پیشرفته امروزی استفاده کرد.